公开(公告)号：CN1842733A

公开(公告)日：2006-10-04

申请号：CN200480024695.1

申请日：2004-09-03

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 长村利彦 ,  松仓郁生

IPC: G02F1/01

CPC classification number: G02F1/0126 ,  G02F2202/13 ,  G02F2203/12

Abstract: 提供即使使用极短脉冲的高能量激光作为调制驱动光，光调制特性也不会劣化的、寿命长的空间光调制元件。在棱镜2与由折射率随光照而变化的光功能性材料构成的光功能性材料层3之间，介有由具有比所述电介质的折射率更低的折射率的透明材料构成的低折射率层4的空间光调制元件1。使用该空间光调制元件1在棱镜和低折射率层的交界面，通过调制驱动光6控制通过棱镜入射的被调制光5的反射的空间光调制方法。

公开(公告)号：CN1675191A

公开(公告)日：2005-09-28

申请号：CN03819680.8

申请日：2003-08-21

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 松仓郁生 ,  冈本秀一 ,  室谷英介 ,  大春一也

IPC: C07D307/30 ,  C08F34/02 ,  G03F1/14

CPC classification number: C07D307/16 ,  C07D307/18 ,  C07D307/30 ,  C08F34/02 ,  G03F1/62 ,  G03F1/64

Abstract: 提供了对短波长的光具有良好的透过性及耐久性、能用于使用了KrF准分子激光等的光刻工序的表膜。该表膜是表膜的膜通过粘合剂与框体粘接而成的用于波长小于等于200nm的光的曝光处理的表膜，该表膜的膜及/或该粘合剂由含有下式(1)表示的重复单元的聚合物形成，Q表示直链结构的碳原子数1～3的多氟亚烷基等或选自该多氟亚烷基中的氢原子及氟原子的1个或1个以上的原子被可含醚性氧原子的多氟烷基形成的取代基取代的基团；X表示氢原子、氟原子或可含醚性氧原子的碳原子数1～3的多氟烷基。

公开(公告)号：CN1485692A

公开(公告)日：2004-03-31

申请号：CN03155178.5

申请日：2003-08-25

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 松仓郁生 ,  代田直子 ,  对马奈奈 ,  山本清 ,  柿田玲子

IPC: G03F1/14 ,  H01L21/027 ,  G02F1/13

CPC classification number: G03F1/62 ,  Y10T428/161 ,  Y10T428/3154

Abstract: 用波长为100－200nm的光进行光刻制图方法用的膜结构，它具有由以下含氟聚合物(A)制成的薄膜：含氟聚合物(A)：一种基本线型的含氟聚合物，在其主链上有脂环结构。主链由碳原子组成，并符合下列要求(1)和(2)：(1)主链上的碳原子包含连有至少一个氢原子的碳原子和不连氢原子的碳原子，(2)在用高分辨率核磁共振波谱进行测量时，基于总氢原子数，在大于2.8ppm的高磁场区出现的信号的氢原子个数至多为6mol％。

公开(公告)号：CN1165161A

公开(公告)日：1997-11-19

申请号：CN96122542.4

申请日：1996-09-20

Applicant: 旭硝子株式会社 ,  日立化成工业株式会社

Inventor： 横俊亮 ,  芹田纹 ,  青崎耕 ,  松仓郁生 ,  成田武宪 ,  森浩之 ,  内村俊一郎

IPC: C08L27/12 ,  C09D127/12 ,  H01B3/00

CPC classification number: H01B3/445 ,  Y10T428/3154 ,  Y10T428/31544 ,  Y10T428/31663 ,  Y10T428/31667

Abstract: 一种低介电的树脂组合物，它包含下述组分(a)和(b)，由该组合物制成的涂层膜的介电常数至多为3：(a)在其分子中含官能团且溶于溶剂的树脂；和(b)结构式为R1mR2nSi(OR3)4-m-n的烷氧基硅烷的部分水解缩合物，其中可相同或不同的各R1和R2为非水解基团，R3为烷基，m和n为满足0≤m+n≤3的0-3的整数。