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公开(公告)号:CN1950297A
公开(公告)日:2007-04-18
申请号:CN200580013565.2
申请日:2005-04-25
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: C01B33/152 , B01J13/00
CPC classification number: C01B33/1585
Abstract: 披露了一种在高压条件下通过第二溶剂置换包含第一溶剂的湿材料中的所述第一溶剂且随后对所得湿材料进行干燥从而生产多孔材料的工艺,所述工艺包括用于将包括与所述第一溶剂相同或种类相同的溶剂和所述第二溶剂的混合溶剂供给至所述湿材料的混合溶剂供给步骤。
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公开(公告)号:CN1243366C
公开(公告)日:2006-02-22
申请号:CN02800274.1
申请日:2002-02-08
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: C11D7/02 , B08B7/0021 , C11D7/04 , C11D7/10 , C11D7/3209 , C11D7/3218 , C11D7/5004 , C11D11/0047 , G03F7/422 , G03F7/425 , H01L21/02052 , H01L21/31116 , H01L21/31133 , H01L21/67086
Abstract: 本发明提供了一种从物体微观结构中去除残余物的方法,该方法包括的步骤有:制备去除剂,该去除剂包含二氧化碳、去除残余物的添加剂、和在加压流体状态下将添加剂溶解于该二氧化碳的助溶剂;将物体与去除剂接触以从物体中去除残余物。还提供了一种用来实现此方法的装置。
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公开(公告)号:CN1457502A
公开(公告)日:2003-11-19
申请号:CN02800274.1
申请日:2002-02-08
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: C11D7/02 , B08B7/0021 , C11D7/04 , C11D7/10 , C11D7/3209 , C11D7/3218 , C11D7/5004 , C11D11/0047 , G03F7/422 , G03F7/425 , H01L21/02052 , H01L21/31116 , H01L21/31133 , H01L21/67086
Abstract: 本发明提供了一种从物体微观结构中去除残余物的方法,该方法包括的步骤有:制备去除剂,该去除剂包含二氧化碳、去除残余物的添加剂、和在加压流体状态下将添加剂溶解于该二氧化碳的助溶剂;将物体与去除剂接触以从物体中去除残余物。还提供了一种用来实现此方法的装置。
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公开(公告)号:CN1251570A
公开(公告)日:2000-04-26
申请号:CN98803871.4
申请日:1998-02-04
Applicant: 株式会社神户制钢所 , 武田药品工业株式会社
IPC: C07C211/50 , C07C209/62 , B09B3/00 , C08J11/14
CPC classification number: C08J11/14 , C07C209/62 , C08J2375/00 , C08J2375/04 , Y02W30/704 , C07C211/50
Abstract: 一种用于分解有至少一个异氰酸基和/或由异氰酸基得到的基团的异氰酸酯化物,以便以该化合物的原料或衍生物的形式回收该化合物的设备,它包括用于使待分解的该化合物在一台高压下的反应器中事实上仅与被加热到190~370℃的液体水接触,以使该化合物水解的水解设备,和用于使自该反应器中排出的分解产物经受如脱水、加成、蒸馏、分离和液体分离等后处理的后处理设备。
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