公开(公告)号：CN117295610A

公开(公告)日：2023-12-26

申请号：CN202280034102.8

申请日：2022-12-06

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 宫本幸大 ,  角田丰 ,  安藤豪彦

IPC: B32B37/02

Abstract: 本发明的带防污层的光学薄膜(F)的制造方法包括防污层形成工序和粘贴工序。在防污层形成工序中，边利用辊对辊方式搬运透明基材薄膜(10)，边在透明基材薄膜(10)的厚度方向(D)的一面侧形成防污层(23)。在粘贴工序中，在防污层形成工序之前、或者在防污层形成工序之后且卷取带防污层(23)的透明基材薄膜(10)之前，在透明基材薄膜(10)的厚度方向(D)的另一面侧粘贴保护薄膜(30)。本发明的带防污层的光学薄膜(F)具备透明基材薄膜(10)、配置在该薄膜的一面侧的防污层(23)和配置在另一面侧的保护薄膜(30)。

公开(公告)号：CN115835957A

公开(公告)日：2023-03-21

申请号：CN202180049236.2

申请日：2021-07-13

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 宫本幸大 ,  梨木智刚 ,  角田丰

IPC: B32B7/022

Abstract: 本发明的带防污层的光学薄膜(F)依次具备透明基材(11)、硬涂层(12)、无机氧化物基底层(13)和防污层(14)。防污层(14)是配置在无机氧化物基底层(13)上的干法涂布膜。防污层(14)的与无机氧化物基底层(13)相反一侧的表面(14a)的通过纳米压痕法而测得的25℃下的硬度为1.05GPa以上。

公开(公告)号：CN119096168A

公开(公告)日：2024-12-06

申请号：CN202380035774.5

申请日：2023-04-18

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 宫本幸大 ,  长命翔太 ,  桥本翔 ,  角田丰

IPC: G02B1/115 ,  B32B7/027 ,  C23C14/08 ,  C23C14/34 ,  G02B1/14 ,  G02B1/18 ,  G09F9/00 ,  G09F9/30

Abstract: 抗反射膜(10)依次具有：透明膜基材(11)、硬涂层(12)以及抗反射层(13)。抗反射膜(10)的耐热性试验前后的第一方向的尺寸变化率优选为－0.10％以上且0.10％以下。此外，抗反射膜(10)的耐湿热性试验前后的第一方向的尺寸变化率优选为0.01％以上且0.20％以下。透明膜基材(11)优选为聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。

公开(公告)号：CN115803187B

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202180049370.2

申请日：2021-07-13

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 宫本幸大 ,  角田丰

IPC: B32B7/022 ,  G02B1/18 ,  G02B1/14 ,  G02B1/115 ,  G02B1/113 ,  G02B1/10 ,  C23C14/34 ,  C23C14/08 ,  C23C14/06 ,  B32B27/00 ,  B32B9/00

Abstract: 本发明的带防污层的光学薄膜(F)依次具备透明基材(11)、硬涂层(12)、无机氧化物基底层(13)和防污层(14)。防污层(14)是配置在无机氧化物基底层(13)上的干法涂布膜。防污层(14)的与无机氧化物基底层(13)相反一侧的表面(14a)的通过纳米压痕法而测得的25℃下的硬度(GPa)与弹性恢复率之积为0.8以上。

公开(公告)号：CN115916528A

公开(公告)日：2023-04-04

申请号：CN202180046973.7

申请日：2021-07-13

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 宫本幸大 ,  梨木智刚 ,  角田丰

IPC: B32B27/00

Abstract: 本发明的带防污层的光学薄膜(F)朝着厚度方向(T)依次具备透明基材(10)和防污层(30)。防污层(30)的与透明基材(10)相反的表面(31)侧的、通过利用X射线光电子能谱法进行的元素分析而检测到的F相对于Si的比率在分析深度为1nm时为20以上。

公开(公告)号：CN115803187A

公开(公告)日：2023-03-14

申请号：CN202180049370.2

申请日：2021-07-13

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 宫本幸大 ,  角田丰

IPC: B32B7/022

Abstract: 本发明的带防污层的光学薄膜(F)依次具备透明基材(11)、硬涂层(12)、无机氧化物基底层(13)和防污层(14)。防污层(14)是配置在无机氧化物基底层(13)上的干法涂布膜。防污层(14)的与无机氧化物基底层(13)相反一侧的表面(14a)的通过纳米压痕法而测得的25℃下的硬度(GPa)与弹性恢复率之积为0.8以上。