公开(公告)号：CN219218125U

公开(公告)日：2023-06-20

申请号：CN202122827231.8

申请日：2021-11-18

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： N·困达 ,  劳季钧 ,  S·J·安杰洛尼 ,  W·内夫

IPC: C23C14/08 ,  C23C14/58 ,  H01J37/32

Abstract: 本实用新型涉及涂覆有抗裂氟退火膜的制品。提供与具有优异的抗等离子体蚀刻性且可延长RIE组件的使用寿命的涂层相关的制品。制品具有真空兼容衬底及覆盖所述衬底的至少一部分的保护膜。所述膜包括含钇的氟化金属氧化物，其中使用AC电源沉积氧化钇。所述膜在所述膜的30％总厚度的深度处具有至少10的氟原子％，并且所述膜不具有当使用激光共聚焦显微镜以1000倍的放大率观察所述膜的整个深度时可见的在所述膜的表面下方的表面下裂纹。

公开(公告)号：CN218596504U

公开(公告)日：2023-03-10

申请号：CN202220620365.4

申请日：2022-03-21

Applicant: 恩特格里斯公司

Inventor： N·困达 ,  J·纳拉亚纳莫奥瑞思 ,  C·瓦尔德弗里德

IPC: C23C16/40 ,  C23C16/455 ,  C23C16/30

Abstract: 本实用新型涉及具有氟化钇涂层的衬底。描述衬底，其包含：高纵横比表面和非高纵横比表面、至少两个涂层，一个涂层位于高纵横比表面处且第二涂层位于非高纵横比表面处，且具有氟化外表面；制备这些涂层的方法；以及包含所述涂层的衬底、表面、设备和设备组件。