公开(公告)号：CN101393969A

公开(公告)日：2009-03-25

申请号：CN200810165633.2

申请日：2008-09-19

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 塚原次郎 ,  泽野充

IPC: H01L51/50 ,  H01L51/52 ,  H01L51/56 ,  H01L27/32 ,  H01L21/50

Abstract: 本发明提供一种发光元件或显示元件，其按顺序具有树脂薄膜或树脂层、玻璃基板、发光器件层叠体或显示器件层叠体和气体阻隔薄膜。该元件即便很薄也难以破裂。

公开(公告)号：CN1659937A

公开(公告)日：2005-08-24

申请号：CN03813193.5

申请日：2003-06-06

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 泽野充 ,  冈崎洋二 ,  永野和彦 ,  石川弘美 ,  藤井武

IPC: H05K3/10

CPC classification number: H05K3/0079 ,  G03F7/16 ,  G03F7/2035 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70291 ,  H05K3/0023 ,  H05K3/0082 ,  H05K3/0091 ,  H05K3/064 ,  H05K3/125 ,  H05K3/4664 ,  H05K2203/013

Abstract: 取得用简单的步骤能进行包含2维到3维的描绘，并且能形成高精度的图案的描绘装置以及使用该描绘装置的描绘方法。在描绘装置中，在同一扫描台上配置有曝光头以及导电体喷头、绝缘体喷头，在扫描台上的印刷电路板上，能在同一扫描台上形成图案，并且能缩短图案化间的时间，能实现图案形成的高速化。另外，不产生曝光头以及喷头对印刷电路板的位置偏移，所以图案的高精度化是容易的，能形成高精度的图案。

公开(公告)号：CN1580950A

公开(公告)日：2005-02-16

申请号：CN200410058860.7

申请日：2004-08-02

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 森田清辉 ,  菅沼敦 ,  中谷大辅 ,  泽野充

IPC: G03F1/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26 ,  H05K3/00

CPC classification number: H05K3/064 ,  G03F7/2053 ,  H05K1/0269 ,  H05K3/0082 ,  H05K2203/107 ,  H05K2203/163

Abstract: 一种图形制造系统、曝光装置及曝光方法，利用由加工用图形数据(100)指定的图形线的线宽与曝光量，对涂覆于基板上的铜箔上的抗蚀剂进行直接描绘曝光，再对曝光过的抗蚀剂进行显影来形成抗蚀图形，然后，蚀刻形成有抗蚀图形的基板上的铜箔来形成图形。这时，扫描蚀刻后的形成图形得到图像信息(200)，再对图像信息(200)的图形线的线宽与蚀刻后的目标的目标形成图形的图形线的线宽进行比较，根据该比较结果来调整由加工用图形数据(100)指定的图形线的线宽，再对使用调整过的线宽直接描绘抗蚀剂。因此，调整蚀刻液的劣化等的图形线的线宽的成品误差来形成图形而可得到精度高的成品。