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公开(公告)号：CN111386436B
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN201880076012.9
申请日：2018-09-28
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明的蒸发室的液体流路部具有多个主流槽，所述多个主流槽分别在第1方向上延伸，供液态的工作液通。在彼此相邻的一对主流槽之间设置有凸部列，所述凸部列包含在第1方向上隔着连接槽排列的多个液体流路凸部。连接槽将对应的一对主流槽连通。连接槽的宽度大于主流槽的宽度。
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公开(公告)号：CN114695774A
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN202111613619.6
申请日：2021-12-27
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供有机器件、掩模组、掩模以及有机器件的制造方法。有机器件可以具备：基板；位于基板上的第1电极；位于第1电极上的有机层；以及位于有机层上的第2电极。在沿着基板的法线方向观察的情况下，有机器件可以具备：第1显示区域，其包含具有第1占有率的第2电极；和第2显示区域，其包含具有比第1占有率小的第2占有率的第2电极。可以是，在第2显示区域中，有机层在第1方向上排列，且在与第1方向交叉的第2方向上排列。在第2显示区域中，第2电极可以包含在第1方向上排列的电极线。电极线可以包含在第2方向上排列且与有机层重叠的电极段。在第2方向上相邻的2个电极段可以互相连接。电极段可以包含：具有第1形状的第1电极段；和具有与第1形状不同的第2形状的第2电极段。
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公开(公告)号：CN112902717A
公开(公告)日：2021-06-04
申请号：CN202110214684.5
申请日：2019-05-30
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供蒸发室用片、蒸发室和电子设备。一种蒸发室，其形成有密闭的空间，在该空间中封入有工作流体，其中，在密闭空间中具备：多个冷凝液流路，它们供工作流体冷凝而成的液体流动；和蒸气流路，其供工作流体气化而成的蒸气流动，设置于蒸气流路的伸出部的伸出量在蒸气流路所延伸的方向上不同，或者，将蒸气流路和冷凝液流路连通的开口部的间距在蒸气流路所延伸的方向上不同，或者，将流路隔开的壁部与规定的流路的横截面具有规定的关系。
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公开(公告)号：CN112166294A
公开(公告)日：2021-01-01
申请号：CN201980032165.8
申请日：2019-05-30
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 一种蒸发室，其形成有密闭的空间，在该空间中封入有工作流体，其中，在密闭空间中具备：多个冷凝液流路，它们供工作流体冷凝而成的液体流动；和蒸气流路，其供工作流体气化而成的蒸气流动，设置于蒸气流路的伸出部的伸出量在蒸气流路所延伸的方向上不同，或者，将蒸气流路和冷凝液流路连通的开口部的间距在蒸气流路所延伸的方向上不同，或者，将流路隔开的壁部与规定的流路的横截面具有规定的关系。
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Patent Agency Ranking
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公开(公告)号：CN118814165A
公开(公告)日：2024-10-22
申请号：CN202410461801.1
申请日：2024-04-17
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供金属板、金属板的制造方法、掩模、掩模装置以及掩模的制造方法。用于制造掩模的金属板的表面可以具有第1反射率、第2反射率、第3反射率以及第4反射率。第1反射率是具有第1出射角度的第1反射光的反射率。第3反射率是具有第3出射角度的第1反射光的反射率。第1出射角度是第1反射光显示出最大强度的出射角度。第3出射角度是相对于第1出射角度相差第1偏差角度的量的出射角度。第2反射率是具有第2出射角度的第2反射光的反射率。第4反射率是具有第4出射角度的第2反射光的反射率。第2出射角度是第2反射光显示出最大强度的出射角度。第4出射角度是相对于第2出射角度相差第2偏差角度的量的出射角度。第3反射率与第1反射率的比率即第1比率可以为0.40以下。第4反射率与第2反射率的比率即第2比率可以为0.40以下。
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公开(公告)号：CN112166294B
公开(公告)日：2023-03-24
申请号：CN201980032165.8
申请日：2019-05-30
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 一种蒸发室，其形成有密闭的空间，在该空间中封入有工作流体，其中，在密闭空间中具备：多个冷凝液流路，它们供工作流体冷凝而成的液体流动；和蒸气流路，其供工作流体气化而成的蒸气流动，设置于蒸气流路的伸出部的伸出量在蒸气流路所延伸的方向上不同，或者，将蒸气流路和冷凝液流路连通的开口部的间距在蒸气流路所延伸的方向上不同，或者，将流路隔开的壁部与规定的流路的横截面具有规定的关系。
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公开(公告)号：CN115568254A
公开(公告)日：2023-01-03
申请号：CN202210767404.8
申请日：2022-07-01
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: H10K59/131 , H10K71/60 , H10K50/82
Abstract: 本发明涉及有机器件和有机器件的制造方法。有机器件具备外缘、布线区域和显示区域。显示区域包含第1电极、位于第1电极上的有机层、和位于有机层上的第2电极。布线区域包含与第2电极电连接并规定基准电位的参比电极。显示区域包含第1显示区域、和与第1显示区域相接的第2显示区域。第2显示区域包含：含有第2电极的标准区域、和不含第2电极且在第1方向上排列的透射区域。标准区域的第2电极包含与第1显示区域的第2电极连接的多个连接部。多个连接部包含在第2方向上位于第1边侧的第1连接部。第1连接部包含在第1方向上位于透射区域之间的相向连接部。
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公开(公告)号：CN115198230A
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN202210364282.8
申请日：2022-04-08
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本公开提供蒸镀掩模、蒸镀掩模装置、蒸镀装置以及有机器件的制造方法。本公开的实施方式的蒸镀掩模具备第1面、位于第1面的相反侧的第2面、以及2个以上的贯通孔。贯通孔包括位于第1面的第1凹部和位于第2面的第2凹部。蒸镀掩模具备：掩模第1区域，其具有表示第2面所残存的面积的比率的第1面残存率；以及掩模第2区域，其具有表示第2面所残存的面积的比率的第2面残存率，第2面残存率大于第1面残存率。
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