一种硫系玻璃光子芯片及其直接曝光制造方法

    公开(公告)号:CN116810162A

    公开(公告)日:2023-09-29

    申请号:CN202310792222.0

    申请日:2023-06-30

    Abstract: 一种硫系玻璃光子芯片及其直接曝光制造方法,涉及一种光子芯片及其制造方法。为了解决现有的光子芯片的制备工艺复杂的问题。本发明硫系玻璃光子芯片由衬底、硫系玻璃和硫系玻璃表面的图形构成,或由硫系玻璃和硫系玻璃表面的图形构成;本发明利用激光器发射激光,激光通过准直系统和聚焦透镜后照射在硫系玻璃表面,硫系玻璃吸收激光的区域产生光致效应使得硫系玻璃吸收激光的区域的折射率发生变化,实现曝光,生成具有一定深度的图形,满足波导结构光子芯片加工性能需求。本发明硫系玻璃光子芯片及其直接曝光制造方法具有制备方法简单、低成本、高效率、制备精度高的优势。

    条形相位光阑及采用该光阑的4f相位相干非线性成像系统及该系统对非线性折射率测量方法

    公开(公告)号:CN102636830B

    公开(公告)日:2014-02-12

    申请号:CN201210042332.7

    申请日:2012-02-23

    Abstract: 条形相位光阑及4f相位相干非线性成像系统及该系统对非线性折射率测量方法,涉及光学技术领域。为了解决圆形相位物体制作工艺复杂、Z扫描系统测量对光束要求高、焦点处多次照射易造成样品损伤以及灵敏度低、误差大的问题。条形相位光阑由条形相位物体和圆形光阑构成。条形相位光阑的4f相位相干非线性成像系统由二分之一波片、偏振棱镜、扩束器、条形相位光阑、图像传感器、能量参考系统和4f成像系统组成。能量参考系统由分束镜、第二全反镜、中性滤波片、第三凸透镜、第三全反镜和第一全反镜组成。4f成像系统的两个凸透镜同轴共焦设置,第一凸透镜为入射透镜,第二凸透镜为出射透镜。该系统用于光通信和光信息处理等领域。

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