一种高功率双极脉冲磁控溅射方法

    公开(公告)号:CN104195515B

    公开(公告)日:2016-06-29

    申请号:CN201410418382.X

    申请日:2014-08-22

    Abstract: 一种高功率双极脉冲磁控溅射方法,涉及一种双极脉冲磁控溅射方法。本发明的目的是为了解决现有的高功率单级磁控溅射电荷积累而产生的打火的技术问题。本发明的一种高功率双极脉冲磁控溅射方法是按以下步骤进行:一、安装设备;二、设置电源参数;三、预溅射;四、溅射。本发明优点:本发明方法即可有效的抑制靶的打火现象,提高溅射效率,又可获得高致密性和高结合力的薄膜。本发明应用于磁控溅射领域。

    钛铝金属-六方氮化硼陶瓷导电阴极材料的制备方法

    公开(公告)号:CN104057086A

    公开(公告)日:2014-09-24

    申请号:CN201410328041.3

    申请日:2014-07-10

    Abstract: 钛铝金属-六方氮化硼陶瓷导电阴极材料的制备方法,它涉及一种阴极材料的制备方法。本发明为了解决现有采用陶瓷粉末制备的阴极导电性差的技术问题。本方法如下:将陶瓷相与金属相混合,倒入模具中,对模具进行加热处理,压制成形,得到金属陶瓷复合坯料,随空气冷却后,用锻压机将金属陶瓷复合坯料从模具中取出,空冷至室温,然后放入真空钎焊炉中,再进行车加工至直径为43mm的料坯,将坯料再次放入模具中,在200T锻压机上,保压20min,即得钛铝金属-六方氮化硼陶瓷导电阴极材料。本发明的组分配比合理、工艺简单、操作方便。本发明属于阴极材料的制备领域。

    铝或铝合金基体表面离子注入与沉积复合强化处理方法

    公开(公告)号:CN100412228C

    公开(公告)日:2008-08-20

    申请号:CN200610010136.6

    申请日:2006-06-08

    Abstract: 铝或铝合金基体表面离子注入与沉积复合强化处理方法,它涉及一种金属材料表面离子注入与沉积复合强化处理方法。它解决了类金刚石碳膜与铝或铝合金基体间残余应力大、结合力和承载能力差,DLC在高速重载条件下耐磨损性能低,易从铝或铝合金基体上剥落的问题。合成方法按以下步骤进行:(一)铝或铝合金超声清洗;(二)铝或铝合金氩离子溅射清洗;(三)钛离子注入;(四)PIIID法沉积Ti;(五)PIIID法沉积TiN;(六)PIIID法沉积Ti(CN);(七)PIIID法沉积TiC;(八)合成类金刚石碳膜,即得到表面有多层梯度膜的铝或铝合金;步骤(二)至(八)在真空室内进行。本发明中多层梯度膜上的DLC的磨损寿命比相同厚度的单层DLC提高10倍以上,摩擦系数低于0.1。

    基于异质双靶高功率脉冲磁控溅射制备掺杂类薄膜的装置及方法

    公开(公告)号:CN109811324B

    公开(公告)日:2021-02-09

    申请号:CN201910194342.4

    申请日:2019-03-14

    Abstract: 基于异质双靶高功率脉冲磁控溅射制备掺杂类薄膜的装置及方法,涉及制备掺杂类薄膜的领域,为了解决现有制备掺杂类薄膜技术在放电过程易相互干扰,易出现靶中毒现象,薄膜的成分难以自由调节,沉积效率较低且易引入杂质的问题。本发明的装置采用双直流电源,通过控制电源U1和电源U2的电压值控制薄膜的掺杂含量。本发明适用于制备掺杂类薄膜。

    基于异质双靶高功率脉冲磁控溅射制备掺杂类薄膜的装置及方法

    公开(公告)号:CN109811324A

    公开(公告)日:2019-05-28

    申请号:CN201910194342.4

    申请日:2019-03-14

    Abstract: 基于异质双靶高功率脉冲磁控溅射制备掺杂类薄膜的装置及方法,涉及制备掺杂类薄膜的领域,为了解决现有制备掺杂类薄膜技术在放电过程易相互干扰,易出现靶中毒现象,薄膜的成分难以自由调节,沉积效率较低且易引入杂质的问题。本发明的装置采用双直流电源,通过控制电源U1和电源U2的电压值控制薄膜的掺杂含量。本发明适用于制备掺杂类薄膜。

    一种用于轴承内外套圈批量处理的离子注入方法

    公开(公告)号:CN104264120B

    公开(公告)日:2016-09-14

    申请号:CN201410583267.8

    申请日:2014-10-27

    Inventor: 王浪平 王小峰

    Abstract: 一种用于轴承内外套圈批量处理的离子注入方法,本发明涉及离子注入批量处理轴承内外套圈的方法,它为了解决现有采用全方位离子注入法处理内外套圈效率低的问题。离子注入方法:一、清洗轴承内套圈;二、轴承内套圈置于双轴式对滚轮之间,相邻轴承内套圈彼此之间紧密接触,打开高压脉冲电源进行溅射清洗;三、向真空室中通入N2气,进行N离子注入;四、清洗轴承外套圈;五、轴承外套圈置于双轴式对滚轮之间,相邻轴承外套圈之间留有间隙,打开高压脉冲电源进行溅射清洗;六、向真空室中通入N2,进行N离子注入处理。通过本发明轴承内外套圈批量处理方法得到的轴承内外套圈剂量分布均匀,一次性处理数量多,提高了离子注入的效率。

    一种环形碳纤维阴极及其制备方法

    公开(公告)号:CN104966655A

    公开(公告)日:2015-10-07

    申请号:CN201510357767.4

    申请日:2015-06-25

    Abstract: 一种环形碳纤维阴极及其制备方法,它涉及一种阴极及其制备方法。本发明的目的是要解决现有碳纤维阴极为平面形式阴极,无法对复杂工件表面进行均匀的辐照改性处理的问题。装置包括屏蔽环、螺孔、电极、环形内绝缘环、导电环和碳纤维束;所述的电极的内部设有环形内绝缘环,电极的上下两端均设有导电环;环形内绝缘环和导电环的上下两端均设有屏蔽环;碳纤维束的一端焊接在电极的通孔中,碳纤维束的另一端穿出环形内绝缘环的通孔。制备方法:一、制备环形内绝缘环和电极;二、制备碳纤维束;三、将电极和导电环固定,将电极和环形内绝缘环固定;四、将屏蔽环固定在环形内绝缘环和导电环的表面上。本发明可获得一种环形碳纤维阴极。

    一种提高轴承寿命的全方位离子注入方法

    公开(公告)号:CN104342629A

    公开(公告)日:2015-02-11

    申请号:CN201410583301.1

    申请日:2014-10-27

    Inventor: 王浪平 王小峰

    CPC classification number: C23C14/48

    Abstract: 一种提高轴承寿命的全方位离子注入方法,它涉及一种提高轴承寿命的方法。本发明的目的是要解决现有轴承存在寿命短,表层硬度低的问题,而提供一种提高轴承寿命的全方位离子注入方法。方法:一、超声清洗;二、将超声清洗后的轴承内圈放入到真空室中;三、轴承内圈外表面氮离子注入;四、将超声清洗后的轴承外圈放入到真空室中;五、轴承外圈内表面氮离子注入,完成轴承全方位离子注入。本发明可提高轴承的表层硬度1倍~2倍,轴承的寿命提高了2.8倍~3.5倍。本发明可获得一种提高轴承寿命的全方位离子注入方法。

    一种高功率双极脉冲磁控溅射方法

    公开(公告)号:CN104195515A

    公开(公告)日:2014-12-10

    申请号:CN201410418382.X

    申请日:2014-08-22

    Abstract: 一种高功率双极脉冲磁控溅射方法,涉及一种双极脉冲磁控溅射方法。本发明的目的是为了解决现有的高功率单级磁控溅射电荷积累而产生的打火的技术问题。本发明的一种高功率双极脉冲磁控溅射方法是按以下步骤进行:一、安装设备;二、设置电源参数;三、预溅射;四、溅射。本发明优点:本发明方法即可有效的抑制靶的打火现象,提高溅射效率,又可获得高致密性和高结合力的薄膜。本发明应用于磁控溅射领域。

    一种发射大面积均匀电子束的碳纤维阴极及其制备方法

    公开(公告)号:CN102436997A

    公开(公告)日:2012-05-02

    申请号:CN201110395868.2

    申请日:2011-12-02

    Abstract: 一种发射大面积均匀电子束的碳纤维阴极及其制备方法,它涉及一种碳纤维阴极及其制备方法。本发明要解决现有技术制备的阴极存在不能发射大面积均匀电子束的问题。本发明发射大面积均匀电子束的碳纤维阴极由碳纤维束、限流电阻、高压电极和碳纤维束安装盘组成;方法:分别制备碳纤维束安装盘、碳纤维束和高压电极,然后将碳纤维束、限流电阻、高压电极和碳纤维束安装盘依次组装焊接在一起,即得到发射大面积均匀电子束的碳纤维阴极。优点:一、可以保证整个阴极面的均匀电子爆炸发射;二、可以单独更换碳纤维束,节省成本;三、可以调节发射电流;四、可以实现不同空间位置发射电流的控制。本发明主要用于制备发射大面积均匀电子束的碳纤维阴极。

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