一种发射大面积均匀电子束的碳纤维阴极的制备方法

    公开(公告)号:CN102436997B

    公开(公告)日:2014-01-22

    申请号:CN201110395868.2

    申请日:2011-12-02

    Abstract: 一种发射大面积均匀电子束的碳纤维阴极的制备方法,它涉及一种碳纤维阴极的制备方法。本发明要解决现有技术制备的阴极存在不能发射大面积均匀电子束的问题。方法:分别制备碳纤维束安装盘、碳纤维束和高压电极,然后将碳纤维束、限流电阻、高压电极和碳纤维束安装盘依次组装焊接在一起,即得到发射大面积均匀电子束的碳纤维阴极。优点:一、可以保证整个阴极面的均匀电子爆炸发射;二、可以单独更换碳纤维束,节省成本;三、可以调节发射电流;四、可以实现不同空间位置发射电流的控制。本发明主要用于制备发射大面积均匀电子束的碳纤维阴极。

    一种在金属基体上实现氧化物陶瓷膜层冶金结合的方法

    公开(公告)号:CN102634795A

    公开(公告)日:2012-08-15

    申请号:CN201210146045.0

    申请日:2012-05-11

    Abstract: 一种在金属基体上实现氧化物陶瓷膜层冶金结合的方法,它涉及金属基体与陶瓷膜层的连接方法。本发明要解决现有的氧化物陶瓷膜层与金属基体之间的结合强度低,难以形成膜层与基体冶金结合的问题。方法按以下步骤进行:一、清洗金属基体;二、在步骤一所得的金属基体上制备一层活性材料层;三、在步骤二制备的活性材料层上覆盖功能膜层;四、连接活性材料层和功能膜层,在连接温度为750℃~1400℃的条件下,保温10~40min,完成氧化物陶瓷膜层与金属基体的冶金结合。本发明具有如下优势:膜层与基体之间为冶金结合,结合强度高;膜层与基体之间的热应力低;膜层质量好,不存在裂纹等缺陷。本发明用于金属基体与陶瓷膜层的连接。

    自体离子轰击辅助电子束蒸镀装置及利用其镀膜的方法

    公开(公告)号:CN102492924A

    公开(公告)日:2012-06-13

    申请号:CN201110418126.7

    申请日:2011-12-14

    Abstract: 自体离子轰击辅助电子束蒸镀装置及利用其镀膜的方法,它涉及电子束蒸镀的装置及方法。本发明是要解决现有的电子束蒸镀方法的膜层与基体之间的结合力低,离子束辅助电子束蒸镀的方法成膜速度慢的技术问题。自体离子轰击辅助电子束蒸镀装置由电子束蒸镀装置和射频辉光放电系统和真空系统组成;其中射频辉光放电系统由射频放电电极和射频电源组成。镀膜方法:将基体放在样品架上,成膜物质放置于坩埚中,抽真空后,启动烘烤装置加热基体,启动电子束蒸发源产生电子束,加热坩埚内物质,形成蒸汽,启动射频电源2和射频放电电极,同时对样品架加电压,镀膜后,得到膜层。本法成膜速度快,膜层结合强度高,可用于光学膜层、热防护涂层及防蚀涂层制备领域。

    一种服务器上架及下架用移动式机器人系统

    公开(公告)号:CN114851215A

    公开(公告)日:2022-08-05

    申请号:CN202210390071.1

    申请日:2022-04-14

    Inventor: 刘劼 陆洋 王炳尧

    Abstract: 本发明公布了一种服务器上架及下架用移动式机器人系统,包括AGV运动平台,AGV运动平台的左侧壁连接有可拆卸电池,AGV运动平台的顶部左侧连接有服务器货柜,服务器货柜内设有可调服务器托架,AGV运动平台的顶部右侧连接有上下移动装置,上下移动装置上安装有上下移动滑块,上下移动滑块的内壁底部连接有回转机构,回转机构的上端安装有前后移动导轨,前后移动导轨的上方设有服务器移动托盘9,上下移动滑块的顶部连接有双目视觉模块,服务器货柜的外壁连接有运动控制器;本发明结构设计合理,便于高精度的实现服务器的插入操作,能够快速高效的完成定位工作,能够实现服务器各个高度,各个角度的全自由插拔。

    一种通过控制鞘层碰撞提高零件离子注入效率的方法

    公开(公告)号:CN104342628A

    公开(公告)日:2015-02-11

    申请号:CN201410583269.7

    申请日:2014-10-27

    CPC classification number: C23C14/48

    Abstract: 一种通过控制鞘层碰撞提高零件离子注入效率的方法,它涉及一种提高零件离子注入效率的方法。本发明的目的是要解决现有使用全方位离子注入批量处理零件时存在通过降低偏压来减小鞘层厚度受到限制,限制批量处理零件的效率的问题。方法:一、超声清洗;二、将超声清洗后的零件放入到真空室中,每两个超声清洗后的零件之间的间距为5cm~15cm,每三个超声清洗后的零件中心的连线所成的图形为等腰三角形或每四个超声清洗后的零件中心的连线为平行四边形;三、零件的全方位离子注入。本发明比常规方法提高4倍~10倍。本发明可获得一种通过控制鞘层碰撞提高零件离子注入效率的方法。

    一种发射大面积均匀电子束的碳纤维阴极及其制备方法

    公开(公告)号:CN102436997A

    公开(公告)日:2012-05-02

    申请号:CN201110395868.2

    申请日:2011-12-02

    Abstract: 一种发射大面积均匀电子束的碳纤维阴极及其制备方法,它涉及一种碳纤维阴极及其制备方法。本发明要解决现有技术制备的阴极存在不能发射大面积均匀电子束的问题。本发明发射大面积均匀电子束的碳纤维阴极由碳纤维束、限流电阻、高压电极和碳纤维束安装盘组成;方法:分别制备碳纤维束安装盘、碳纤维束和高压电极,然后将碳纤维束、限流电阻、高压电极和碳纤维束安装盘依次组装焊接在一起,即得到发射大面积均匀电子束的碳纤维阴极。优点:一、可以保证整个阴极面的均匀电子爆炸发射;二、可以单独更换碳纤维束,节省成本;三、可以调节发射电流;四、可以实现不同空间位置发射电流的控制。本发明主要用于制备发射大面积均匀电子束的碳纤维阴极。

    全方位离子注入与沉积批量复合处理装置及方法

    公开(公告)号:CN101418430B

    公开(公告)日:2010-09-15

    申请号:CN200810137080.X

    申请日:2008-09-09

    Abstract: 全方位离子注入与沉积批量复合处理装置及方法,它涉及一种全方位离子注入与沉积批量复合处理装置及方法。针对现有全方位离子注入与沉积批量复合处理装置及方法处理零件效率低以及处理后零件的耐磨性和抗腐蚀能力差的问题。本发明的中心旋转靶台系统安装在圆筒下端盖上,所述中心旋转靶台系统上方装有工件旋转装置,所述工件旋转装置由圆盘靶台、若干个齿轮轴和若干个齿轮组成;本发明的批量复合处理方法是按照以下步骤实现的:a、真空处理;b、采用高压幅值为20~40kV的脉冲偏压实现Ti离子注入;c、TiN沉积;d、MoS2沉积;e、Ti沉积。本发明的装置提高了单次处理零件的数量;方法提高了其耐磨性和抗腐蚀能力。

    全方位离子注入与沉积批量复合处理装置及方法

    公开(公告)号:CN101418430A

    公开(公告)日:2009-04-29

    申请号:CN200810137080.X

    申请日:2008-09-09

    Abstract: 全方位离子注入与沉积批量复合处理装置及方法,它涉及一种全方位离子注入与沉积批量复合处理装置及方法。针对现有全方位离子注入与沉积批量复合处理装置及方法处理零件效率低以及处理后零件的耐磨性和抗腐蚀能力差的问题。本发明的中心旋转靶台系统安装在圆筒下端盖上,所述中心旋转靶台系统上方装有工件旋转装置,所述工件旋转装置由圆盘靶台、若干个齿轮轴和若干个齿轮组成;本发明的批量复合处理方法是按照以下步骤实现的:a.真空处理;b.采用高压幅值为20~40kV的脉冲偏压实现Ti离子注入;c.TiN沉积;d.MoS2沉积;e.Ti沉积。本发明的装置提高了单次处理零件的数量;方法提高了其耐磨性和抗腐蚀能力。

    一种方便卸料的机箱转运托架

    公开(公告)号:CN218577800U

    公开(公告)日:2023-03-07

    申请号:CN202222573566.6

    申请日:2022-09-28

    Inventor: 刘劼 陆洋 王炳尧

    Abstract: 本实用新型公布了一种方便卸料的机箱转运托架,包括转运车,所述转运车的顶部架设有升降架,所述升降架的两侧均活动安装有下料补偿板,所述升降架与下料补偿板之间设置有旋转机构,本实用新型的有益效果是,本装置在工作的过程中,首先通过设置的升降架能够对机箱进行存放,升降架与下料补偿板之间设置的旋转机构能够便于下料补偿板进行旋转调节,能够使下料补偿板机箱存放位置进行对接,同时,下料补偿板外表面设置的传送带能够带动机箱移动,升降架内壁转动的旋转支撑辊能够辅助机箱移动,然后,设置的转运车能够带动机箱进行移动,从而能够对机箱进行转运,同时便于机箱进行上料或下料。

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