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公开(公告)号：CN112014418B
公开(公告)日：2021-07-09
申请号：CN202010810449.X
申请日：2020-08-13
Applicant: 北京大学
IPC: G01N23/2251
Abstract: 本发明公开了一种电子束激发荧光收集耦合用离轴反射面镜组件及方法。本发明采用离轴角小于90度的离轴反射面镜配置，所反射会聚或反射准直的电子束激发荧光将偏离所观测样品的定位运动平面，处于电子显微镜的物镜和所观测样品的定位运动平面之间，使得电子束激发荧光的探测和耦合输出区域同样处于上述区域，因此离轴反射面镜组件不会阻碍电子显微镜的所观测样品的正常定位运动；进行电子束激发荧光收集效率的优化设计，保证在优于80％荧光收集效率；本发明作为电子束激发荧光探测系统的荧光收集耦合部件，在高效率收集和耦合电子束激发荧光的同时，保证电子显微镜的样品能够正常定位运动，且电子显微镜的其他探测组件能够正常采集信号。
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公开(公告)号：CN105225909B
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：CN201510592044.2
申请日：2015-09-17
Applicant: 北京大学
IPC: H01J37/20
Abstract: 本发明公开了一种扫描电镜样品台定位装置及其定位方法。本发明的定位装置包括：摄像头、图像采集系统调节架、图像采集系统基台、样品台座、定位样品、图像控制器和数据处理及输出系统；本发明通过引入定位样品台，结合图像采集与处理过程，采用扫描电镜样品台坐标系标定方法，实现了样品台上不同样品位置的定位，省去了在扫描电镜小视野中通过小范围移动样品台来进行样品寻找和定位的繁琐且易出错的过程，实现样品的准确、快速定位，极大提高了扫描电镜实验效率，能够为扫描电镜用户节省大量样品搜索与定位所花费的时间与费用。
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公开(公告)号：CN103943437B
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201410158154.3
申请日：2014-04-18
Applicant: 北京大学
IPC: H01J9/02
Abstract: 本发明公开了一种场发射电子源发射体尖端塑形装置及其塑形方法。本发明的塑形装置包括：真空腔室、真空抽气系统、真空度测量系统、电子枪组件、电源系统和电子束成像系统。本发明在场发射电子源发射体尖端加热发生钝化，并在阳极上加载临界电场形成场致发射，发射体尖端的表面张力和附加电场产生的电场力在表面达到平衡，实现塑形；经过场发射电子源发射体尖端塑形后，其发射体尖端形成稳定的发射面，稳定的发射面能使场发射电子源发射的电子束束流具有发射电流大，发射方向集中，角电流密度高，单色性好和稳定的束流发射等特点。
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公开(公告)号：CN105497991A
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201610009398.4
申请日：2016-01-07
Applicant: 北京大学第三医院
CPC classification number: A61L31/06 , A61L31/14 , A61L31/148
Abstract: 本发明公开了聚羟基脂肪酸酯PHA的新用途。该新用途是PHA在制备治疗青光眼的产品中的应用。本发明通过实验证明，将PHA膜应用于抗青光眼滤过手术中，可以明显抑制眼压升高，能够安全有效的调节青光眼滤过手术后滤过手术区的愈合过程。本发明具有重要意义。
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公开(公告)号：CN102352526A
公开(公告)日：2012-02-15
申请号：CN201110297744.0
申请日：2011-09-30
Applicant: 北京大学
IPC: C25F3/08
Abstract: 本发明公开了一种用于场发射电子源的单晶钨丝的电化学腐蚀装置及其操作方法。本发明的电化学腐蚀装置包括直角支撑架、固定基准板、双向倾斜板、垂直调节板、陶瓷座固定架、U型管支撑架以及U型管。本发明是采用三维位置调节模块，构成一种新的电化学腐蚀装置，这种电化学腐蚀装置可以方便精确的调整场发射电子源的单晶钨丝插入腐蚀液的垂直度和侵入液面的深度，因此操控简单，控制精确，稳定性好，一旦获得最佳条件，其成功率可以达到95％以上；而且本发明采用U型管作为电解槽，能有效隔离两个电极并能减小两个电极在反应过程中因产生气泡而相互影响，还有利于信号源引线的连接，此外与烧杯作为电解槽相比，U型管电解槽更加节省腐蚀液。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111658200B
公开(公告)日：2024-11-26
申请号：CN202010632424.5
申请日：2020-07-02
Applicant: 北京大学口腔医学院
IPC: A61C13/007 , A61C13/113 , A61C13/225 , A61C19/05
Abstract: 本发明涉及医疗技术领域，提出了一种全口义齿咬合辅助检查调整器及全口义齿咬合调整方法。全口义齿咬合辅助检查调整器包括定位板、固定支架以及调节件，定位板用于设置在上颌全口义齿上；固定支架用于设置在下颌全口义齿上，且与下颌全口义齿的相对基托舌侧中央相连接；调节件设置在固定支架上，且位于固定支架的中心位置处，上颌全口义齿与下颌全口义齿咬合时，调节件与定位板相接触；其中，调节件的至少部分相对于固定支架沿靠近或远离定位板的方向可移动地设置。通过逐渐调整调节件的位置，可以逐渐准确确定咬合高点或者干扰点，避免因为上颌全口义齿和下颌全口义齿的基底不稳导致的误判，最终实现上颌全口义齿和下颌全口义齿稳定正确的咬合。
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公开(公告)号：CN115274386B
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN202210792857.6
申请日：2022-07-07
Applicant: 北京大学
IPC: H01J37/147 , H01J37/21 , H01J37/30 , H01J37/305 , B81C1/00 , B81C99/00 , B82B3/00 , B82Y5/00 , B82Y15/00 , B82Y40/00
Abstract: 本发明公开了一种固态纳米孔批量精密加工装置及其加工方法。本发明包括：离子光学系统、透射式阵列载样样品台、自动位移台、真空样品室、二次电子探测器、图形扫描控制系统和计算机，采用聚焦离子束的焦点，在图形扫描控制系统的精密控制下，在硅基固态薄膜上定位扫描，可以实现固态纳米孔尺寸的精密可控制备；在加工过程中，能够通过透过纳米孔加工区域的离子束成像衬度，实时监测纳米孔的加工过程，获得可控的离子束加工参数，进一步提高加工精度；采用阵列载样台实现固态纳米孔的批量化精密加工，极大提高了加工效率，单个固态纳米孔的加工周期极大缩短；旨在制造尺寸在1μm与5nm之间的固态纳米孔，以用于蛋白质分子和DNA分子等生物传感检测。
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公开(公告)号：CN113296372B
公开(公告)日：2022-01-28
申请号：CN202110566122.7
申请日：2021-05-24
Applicant: 北京大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种电子束曝光机用电子束静电偏转器控制系统及方法。本发明采用主控制器、静电偏转信号控制器和静电偏转信号发生器，实现了静电偏转器的系统控制，采用层级控制关系，通过层级的控制信号传递控制参数，系统采用统一的通讯协议和接口，用户可仅掌握顶层控制命令即可实现系统操控；静电偏转信号发生器中信号的线性放大增益可调，使得系统功能设计和性能调整具有很大的自由度；此外，系统在控制参数作用下，将原始的扫描信号实时转化生成为静电偏转器各个偏转电极上施加所需的高压偏转信号，保证了扫描信号生成速度，实现了各个偏转电极上高压偏转信号的系统控制。
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公开(公告)号：CN111658200A
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN202010632424.5
申请日：2020-07-02
Applicant: 北京大学口腔医学院
IPC: A61C13/007 , A61C13/113 , A61C13/225 , A61C19/05
Abstract: 本发明涉及医疗技术领域，提出了一种全口义齿咬合辅助检查调整器及全口义齿咬合调整方法。全口义齿咬合辅助检查调整器包括定位板、固定支架以及调节件，定位板用于设置在上颌全口义齿上；固定支架用于设置在下颌全口义齿上，且与下颌全口义齿的相对基托舌侧中央相连接；调节件设置在固定支架上，且位于固定支架的中心位置处，上颌全口义齿与下颌全口义齿咬合时，调节件与定位板相接触；其中，调节件的至少部分相对于固定支架沿靠近或远离定位板的方向可移动地设置。通过逐渐调整调节件的位置，可以逐渐准确确定咬合高点或者干扰点，避免因为上颌全口义齿和下颌全口义齿的基底不稳导致的误判，最终实现上颌全口义齿和下颌全口义齿稳定正确的咬合。
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