公开(公告)号：CN102352526B

公开(公告)日：2013-07-31

申请号：CN201110297744.0

申请日：2011-09-30

Applicant: 北京大学

Inventor： 徐军 ,  袁明艺 ,  王朋博 ,  刘亚齐

IPC: C25F3/08

Abstract: 本发明公开了一种用于场发射电子源的单晶钨丝的电化学腐蚀装置及其操作方法。本发明的电化学腐蚀装置包括直角支撑架、固定基准板、双向倾斜板、垂直调节板、陶瓷座固定架、U型管支撑架以及U型管。本发明是采用三维位置调节模块，构成一种新的电化学腐蚀装置，这种电化学腐蚀装置可以方便精确的调整场发射电子源的单晶钨丝插入腐蚀液的垂直度和侵入液面的深度，因此操控简单，控制精确，稳定性好，一旦获得最佳条件，其成功率可以达到95％以上；而且本发明采用U型管作为电解槽，能有效隔离两个电极并能减小两个电极在反应过程中因产生气泡而相互影响，还有利于信号源引线的连接，此外与烧杯作为电解槽相比，U型管电解槽更加节省腐蚀液。

公开(公告)号：CN102352526A

公开(公告)日：2012-02-15

申请号：CN201110297744.0

申请日：2011-09-30

Applicant: 北京大学

Inventor： 徐军 ,  袁明艺 ,  王朋博 ,  刘亚齐

IPC: C25F3/08

Abstract: 本发明公开了一种用于场发射电子源的单晶钨丝的电化学腐蚀装置及其操作方法。本发明的电化学腐蚀装置包括直角支撑架、固定基准板、双向倾斜板、垂直调节板、陶瓷座固定架、U型管支撑架以及U型管。本发明是采用三维位置调节模块，构成一种新的电化学腐蚀装置，这种电化学腐蚀装置可以方便精确的调整场发射电子源的单晶钨丝插入腐蚀液的垂直度和侵入液面的深度，因此操控简单，控制精确，稳定性好，一旦获得最佳条件，其成功率可以达到95％以上；而且本发明采用U型管作为电解槽，能有效隔离两个电极并能减小两个电极在反应过程中因产生气泡而相互影响，还有利于信号源引线的连接，此外与烧杯作为电解槽相比，U型管电解槽更加节省腐蚀液。