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公开(公告)号：CN107957658B
公开(公告)日：2020-07-31
申请号：CN201710934813.1
申请日：2017-10-10
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 公开了投影光学系统、曝光装置及物品制造方法。本发明提供了一种投影光学系统，包含第一凹反射面、第一凸反射面、第二凹反射面和第三凹反射面，其中第一凹反射面、第一凸反射面、第二凹反射面和第三凹反射面被布置使得来自物面的光通过由第一凹反射面、第一凸反射面、第二凹反射面、第一凸反射面及第三凹反射面按照列举的顺序反射而在像面上形成图像。
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公开(公告)号：CN111279264A
公开(公告)日：2020-06-12
申请号：CN201880069269.1
申请日：2018-10-12
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 河野道生
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种照明光学系统被配置成包括：第一透镜阵列FE，该第一透镜阵列FE包括将从光源发射的光束分成多个光束的多个透镜单元；第二透镜阵列MLAi，该第二透镜阵列MLAi包括从第一透镜阵列中包括的透镜单元出射的点光被会聚在其中的透镜单元；以及第一光学构件IL3，该第一光学构件IL3使被会聚在第二透镜阵列中包括的透镜上的点光的图像形成在构成光学调制单元的一个光学调制元件上。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113917789A
公开(公告)日：2022-01-11
申请号：CN202110775374.0
申请日：2021-07-09
Applicant: 佳能株式会社
Inventor： 河野道生
IPC: G03F7/20
Abstract: 本公开涉及成像光学系统、曝光装置和制品制造方法。成像光学系统包括调节器，所述调节器用于通过向至少两个反射表面中的每个反射表面的后表面施加力来调节每个反射表面的形状。通过在相对于所述反射表面定义的光轴方向上投影所述调节器的力作用点而获得的点被定义为校正点，所述作用点被设置为使得：当从物平面上的一个点发射的光束中的第一光线和第二光线被第一反射表面和第二反射表面反射时，第一光线射中第一反射表面的校正点但不射中第二反射表面的校正点，以及第二光线不射中第一反射表面的校正点但射中第二反射表面的校正点。
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公开(公告)号：CN111665688A
公开(公告)日：2020-09-15
申请号：CN202010697850.7
申请日：2017-10-10
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 公开了投影光学系统、曝光装置及物品制造方法。本发明提供了一种投影光学系统，包含第一凹反射面、第一凸反射面、第二凹反射面和第三凹反射面，其中第一凹反射面、第一凸反射面、第二凹反射面和第三凹反射面被布置使得来自物面的光通过由第一凹反射面、第一凸反射面、第二凹反射面、第一凸反射面及第三凹反射面按照列举的顺序反射而在像面上形成图像。
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公开(公告)号：CN107957658A
公开(公告)日：2018-04-24
申请号：CN201710934813.1
申请日：2017-10-10
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 公开了投影光学系统、曝光装置及物品制造方法。本发明提供了一种投影光学系统，包含第一凹反射面、第一凸反射面、第二凹反射面和第三凹反射面，其中第一凹反射面、第一凸反射面、第二凹反射面和第三凹反射面被布置使得来自物面的光通过由第一凹反射面、第一凸反射面、第二凹反射面、第一凸反射面及第三凹反射面按照列举的顺序反射而在像面上形成图像。
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公开(公告)号：CN107621749A
公开(公告)日：2018-01-23
申请号：CN201710558573.X
申请日：2017-07-11
Applicant: 佳能株式会社
Abstract: 本发明涉及掩模、测量方法、曝光方法以及物品制造方法。一种掩模，具有第1、第2标记，该第1、第2标记用于对曝光在基板上的第1拍摄区域的位置与以对第1拍摄区域的一部分设置接合区域的方式曝光的第2拍摄区域的位置的偏离测量，第1标记是曝光在第1拍摄区域内的接合区域的标记，具有第1减光区域和光透射率与第1减光区域的光透射率不同的第1区域，第2标记是与第1标记叠合地曝光在第2拍摄区域内的接合区域的标记，具有第2减光区域和光透射率与第2减光区域的光透射率不同的第2区域，在将第1、第2标记重叠的情况下，第1标记的第1区域的边界处于第2标记的第2减光区域，第2标记的第2区域的边界处于第1标记的第1减光区域。
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