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公开(公告)号：CN114019765B
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202111240501.3
申请日：2021-10-25
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于边缘光抑制的双光束共路相位调制激光直写方法与装置，包括引发光刻胶产生聚合反应的激发光源和抑制（或中断）光刻胶聚合的抑制光源。两束准直光以互相垂直的线偏振态进行合束，合束后的两束光经过同一个空间光调制器（SLM）进行相位调制。将所述SLM分成两部分，对应偏振的激发光被SLM第一部分调制相位进行像差校正，最后经过物镜聚焦形成圆形实心光斑；与激发光偏振相垂直的抑制光被SLM第二部分调制相位，最后经过物镜聚焦形成环形空心光斑。激发光的圆形实心光斑与抑制光环形空心光斑中心重合。本发明通过将SLM进行区分复用，对基于边缘光抑制的激光直写技术的双光束同时进行光场调控，实现共路相位调制。
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公开(公告)号：CN116652393A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202310572478.0
申请日：2023-05-18
IPC: B23K26/362 , B23K26/08 , B23K26/70 , B23K26/082 , G06T3/00
Abstract: 本申请涉及一种三维激光刻写方法、装置、计算机设备和系统。所述方法包括：依次获取刻写对象每层对应的二维灰度图；基于所述二维灰度图获取每个刻写点的刻写图像数据；依次控制位移台移动至每行所述刻写点对应的起始位置并控制所述位移台按照指定程序移动，在所述位移台到达指定位置时，控制数字微镜基于对应的所述刻写点的所述刻写图像数据进行并行激光刻写操作。通过本申请，解决了相关技术中刻写效率较低，并且刻写质量较差的技术问题，通过移动位移台去除了拼接步骤，并通过数字微镜并行进行激光刻写，进而提高了激光刻写的效率和质量。
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公开(公告)号：CN116572533A
公开(公告)日：2023-08-11
申请号：CN202310259330.1
申请日：2023-03-13
IPC: B29C64/386 , B29C64/268 , B33Y50/00
Abstract: 本发明公开了一种基于转镜的三维阵列打印系统的激光直写打印方法，包括：基于最大刻写长度刻写的直线中选取粗细均匀且连续的线段，作为转镜的有效刻写长度；根据预设打印参数和有效刻写长度，计算获得打印平台的单次移动距离；根据预设打印参数，有效刻写长度以及单次移动距离，生成一个或多个连续垂直分布于转镜扫描平面的二维刻写数据文件；根据预设的刻写功率，二维刻写数据文件输入至三维阵列打印系统中，通过刻写激光对打印平台上的刻写材料进行循环输出，获得所述三维结构对应的阵列打印件。本发明还提供了一种激光直写打印方法。本发明提供的方法可以有效解决实际三维刻写过程中耗时过长的问题。
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公开(公告)号：CN116564361A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310266267.4
申请日：2023-03-13
IPC: G11B7/0045 , G03F7/20 , G11B7/126 , G11B7/1353
Abstract: 本发明公开了一种基于转镜的高速刻录系统的光存储方法，所述光存储方法基于高速刻录系统实现，包括：一、编码包括数据信息和刻录坐标的待存储数据，获得对应的二进制编码；二、调整二进制编码，获得存储编码；三、校准高速数字输出卡和确定刻录基底面；四、根据存储编码生成对应的光强波形数据并存入校准好的高速数字输出卡中；五、校准物镜与刻录基底面之间的光学球差，控制刻录激光进行y轴方向的刻录操作；六、调节物镜焦距的偏移量，并重复步骤五，直至完成z轴方向上所有存储编码的刻录，获得三维体存储数据。本发明还提供了一种光存储装置。本发明提供的方法解决了现有技术中数据存储时间过长的问题，提高了刻录的成功率和精确性。
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公开(公告)号：CN116233606A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202310513844.5
申请日：2023-05-09
Abstract: 本申请提供一种光斑自动跟焦装置及其方法。该光斑自动跟焦装置包括光源、光学系统、物镜、物镜压电位移器、四象限光电探测器及控制系统，光源发出的入射光束经由光学系统和物镜通过入射光路入射到样品表面，其中，四象限光电探测器用于接收经样品表面反射并经由物镜和光学系统通过反射光路出射的反射光束，并将反射光束的光信号转换为四路电信号；控制系统用于基于四路电信号来确定入射到样品表面的入射光斑的离焦量，并基于入射光斑的离焦量来生成补偿控制信号给物镜压电位移器；物镜压电位移器用于基于补偿控制信号来控制物镜沿轴向移动以使入射光斑能够始终聚焦于样品表面。本申请能够自动控制物镜轴向运动以达到自动跟焦目标。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115996515A
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN202310277812.X
申请日：2023-03-21
Abstract: 本申请涉及一种电路板和转接器。电路板包括基板、接口组和连接器。基板包括堆叠设置的布线层、第一接地层和第二接地层；所述布线层包括上布线层和下布线层；所述第一接地层和所述第二接地层设置于所述上布线层和所述下布线层之间；所述第一接地层靠近所述上布线层设置；所述第二接地层靠近所述下布线层设置；所述第一接地层与所述第二接地层共用接地端；接口组设置于所述上布线层，用于与输入设备和输出设备连接；所述接口组包括多个与所述布线层电连接的信号接口；连接器设置于所述下布线层，用于与处理器连接；所述连接器与所述布线层电连接；所述信号接口通过所述布线层与所述连接器电连接。
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公开(公告)号：CN114355621A
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN202210262638.7
申请日：2022-03-17
Abstract: 本发明公开了一种基于面阵探测器和艾里斑细分的多焦点非标记差分超分辨成像方法与装置，激光器发出的光被偏振分光镜分为偏振方向互相垂直的两束光，两束光分别被SLM的左右两个半屏加载的相位掩膜调制，两束光分别为实心光束和空心光束；之后实心光束和空心光进行合束，合束后的光束再被分为第一子光束和第二子光束，分别包含实心光束和空心光束，以一定角度入射到扫描振镜模块，并被物镜聚焦，形成第一焦斑组合和第二焦斑组合，从而在焦面上形成四个焦斑。基于时域转化为空域的方法，使用面阵探测器代替单点探测器，在相对较低成本下，可以实现对艾里斑4进行40个以上探测器的细分。同时，采用多焦点激发，进一步提升了系统的成像效率。
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公开(公告)号：CN114019765A
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN202111240501.3
申请日：2021-10-25
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于边缘光抑制的双光束共路相位调制激光直写方法与装置，包括引发光刻胶产生聚合反应的激发光源和抑制（或中断）光刻胶聚合的抑制光源。两束准直光以互相垂直的线偏振态进行合束，合束后的两束光经过同一个空间光调制器（SLM）进行相位调制。将所述SLM分成两部分，对应偏振的激发光被SLM第一部分调制相位进行像差校正，最后经过物镜聚焦形成圆形实心光斑；与激发光偏振相垂直的抑制光被SLM第二部分调制相位，最后经过物镜聚焦形成环形空心光斑。激发光的圆形实心光斑与抑制光环形空心光斑中心重合。本发明通过将SLM进行区分复用，对基于边缘光抑制的激光直写技术的双光束同时进行光场调控，实现共路相位调制。
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公开(公告)号：CN113654656A
公开(公告)日：2021-11-16
申请号：CN202111209478.1
申请日：2021-10-18
IPC: G01J1/42
Abstract: 本发明公开了一种基于三光束干涉的光束漂移检测装置与方法，该装置包括分束镜、反射镜、道威棱镜、图像传感器等部件。装置将入射光束均分成三束光束，然后让三光束进行干涉形成干涉图案，将入射光束的微小角度与位置的变化转换为干涉图案的变化，位置角度变化将引起光栅条纹周期的变化，光束位置变化将引起干涉图案能量分布的变化。装置将结合图像传感器与分析算法，获得高精度光束漂移的检测，为高精密光学系统中光束的实时校正提供技术支持，可以广泛用于超分辨显微成像、高精度激光直写光刻等高精密激光技术中。
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公开(公告)号：CN116540504B
公开(公告)日：2024-04-26
申请号：CN202310807886.X
申请日：2023-07-04
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种基于连续谱光源的可变波长超分辨激光直写光刻系统，属于超精密光学成像与刻写技术领域，包括光源与刻写模块，其中光源为连续谱光源；光源与刻写模块之间还设有用于形成多个分光路的分光模块、设于相应分光路上的光束调节组件，以及用于将多个分光路汇合为刻写光束组合的合束模块；光束调节组件包括滤波模块，和能量调节模块或波相差调节模块中的一种或串联设置的两种组合。与现有技术相比，本发明提供一种多路单独滤波及调制的光源调制光路，可同时实现多通道不同波长的光束调制，多光束可互相配合，通过不同轴汇合或同轴重合方式，实现多通道超分辨光刻或基于边缘抑制的超分辨光刻。
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