一种道路交通标线的激光清洗方法

    公开(公告)号:CN109277372B

    公开(公告)日:2020-08-14

    申请号:CN201811337942.3

    申请日:2018-11-12

    Abstract: 本发明公开了一种道路交通标线的激光清洗方法,该方法包括:对激光清洗机进行预热,调节所述激光清洗机输出激光的平均功率、重复频率和脉冲宽度;调节作用于道路交通标线上的激光光斑直径和激光光斑线长;将吸尘器的吸气嘴倾斜放置于距离激光作用点5cm‑10cm处;打开所述激光清洗机光闸,打开所述吸尘器,沿垂直于光斑线长方向同时水平移动所述激光清洗机输出头和所述吸尘器吸气嘴。本发明具有在不损伤路基的前提下有效去除道路交通标线,且清洗后的产物便于收集,对环境污染小的优点。

    用于单面涂膜的降液式提拉涂膜机

    公开(公告)号:CN111229541A

    公开(公告)日:2020-06-05

    申请号:CN202010184859.8

    申请日:2020-03-17

    Abstract: 本发明公开了一种用于单面涂膜的降液式提拉涂膜机,主体支架、涂膜器、升降控制机构和储液器,储液器的底部通过连接管与涂膜器的底部连通。采用以上技术方案的用于单面涂膜的降液式提拉涂膜机,结构新颖,设计巧妙,不仅具有传统提拉涂膜方法所有的优势,而且制备流程简单,操作方便,效率高,同时,对于非平板结构的元件,可以根据涂膜对象的形状特征,对储液器的形状进行适应性地调整,使其与元件和涂膜开孔内部的空间形状互补,从而可以在储液器匀速升降的情况下,保持涂膜器中的液面下降速度也是匀速的,大幅提高涂膜的均匀性,简化升降控制机构的逻辑控制。

    用于光学元件的激光预处理装置及处理方法

    公开(公告)号:CN106964893A

    公开(公告)日:2017-07-21

    申请号:CN201710339726.1

    申请日:2017-05-15

    Abstract: 本发明公开了一种用于光学元件的激光预处理装置及处理方法,包括:用于发出激光的激光光源;依次设置在激光传输方向上的分光劈板、反射镜、光束整形系统和放置待处理光学元件的电动平移台;其中,激光光源发出的激光经分光劈板之后经反射镜传输至光束整形系统,光束整形系统对激光进行光束整形,将本身高斯分布的激光光斑整形成平顶均匀分布的方光斑,最后辐照到光学元件表面来对光学元件进行激光预处理。通过本发明的激光预处理装置,形成平顶聚焦的均匀方形激光光斑使整个预处理过程辐照的能量密度均匀,并且能够通过倍率切换结构来轻松调节光斑的尺寸,进而调节到达光学元件表面激光能量密度的目的。

    干法刻蚀表面微观形貌演化的理论模拟方法、介质及产品

    公开(公告)号:CN118428189A

    公开(公告)日:2024-08-02

    申请号:CN202410644780.7

    申请日:2024-05-23

    Abstract: 本发明公开一种干法刻蚀表面微观形貌演化理论模拟方法、介质及产品,属于微纳加工领域,方法包括:首先,初始化晶格网络,统计所有晶格单元上可能发生的沉积、扩散和脱附等动理学事件,计算其发生概率,生成事件列表和事件概率列表;然后,根据事件发生概率的大小,采用蒙特卡洛方法从事件列表中随机选择一个事件来执行;如果选择事件为沉积事件,则在落点选择时引入阴影效应,通过对沉积粒子进行运动轨迹计算来确定其在刻蚀表面的落点。最后,执行所选择的动理学事件,更新刻蚀形貌、事件列表和事件概率列表,进行下一个模拟循环,直至达到所需的模拟时间和步数。本发明提供一种综合覆盖两种作用机制的理论模拟方法,提高模拟方法的准确性。

    一种用于涉氚光学元件离子束刻蚀的装置及方法

    公开(公告)号:CN118315256A

    公开(公告)日:2024-07-09

    申请号:CN202410468256.9

    申请日:2024-04-17

    Abstract: 本发明公开了一种用于涉氚光学元件离子束刻蚀的装置及方法,包括真空刻蚀腔室、取放样小门、负压抽风系统、离子束刻蚀设备和控制系统;真空刻蚀腔室的内壁内侧设置有防氚内衬,取放样小门设置于真空刻蚀腔室舱门上,负压抽风系统用于使真空刻蚀腔室内产生负压环境,离子束刻蚀设备设置于真空刻蚀腔室内,控制系统用于控制离子束刻蚀设备对光学元件进行刻蚀处理;本发明可用于涉氚元件的离子束刻蚀,不会因氚的特殊性质导致真空刻蚀腔室材料发生断裂韧性下降甚至失效,安全可靠。可有效避免打开腔室舱门时的放射性物质外泄,有效保护操作人员和周围环境。无需对真空刻蚀腔室内壁进行频繁清洁,避免人员清洁导致的放射性接触,同时保持的设备长期运行下的低放射性。

    用于单面涂膜的降液式提拉涂膜机

    公开(公告)号:CN111229541B

    公开(公告)日:2023-09-22

    申请号:CN202010184859.8

    申请日:2020-03-17

    Abstract: 本发明公开了一种用于单面涂膜的降液式提拉涂膜机,主体支架、涂膜器、升降控制机构和储液器,储液器的底部通过连接管与涂膜器的底部连通。采用以上技术方案的用于单面涂膜的降液式提拉涂膜机,结构新颖,设计巧妙,不仅具有传统提拉涂膜方法所有的优势,而且制备流程简单,操作方便,效率高,同时,对于非平板结构的元件,可以根据涂膜对象的形状特征,对储液器的形状进行适应性地调整,使其与元件和涂膜开孔内部的空间形状互补,从而可以在储液器匀速升降的情况下,保持涂膜器中的液面下降速度也是匀速的,大幅提高涂膜的均匀性,简化升降控制机构的逻辑控制。

    一种CO2激光在熔石英表面直接制备正弦相位光栅的方法

    公开(公告)号:CN113296178B

    公开(公告)日:2022-07-19

    申请号:CN202110642273.6

    申请日:2021-06-09

    Abstract: 本发明公开了一种CO2激光在熔石英表面直接制备正弦相位光栅的方法,按照以下步骤进行:S1、设定CO2激光器的参数;S2、在熔石英表面烧蚀形成一个表面光滑的高斯型烧蚀凹坑;S3、检测高斯型烧蚀凹坑的表面形貌和轮廓是否无烧蚀沉积;S4、在熔石英表面烧蚀形成一个相邻的高斯型烧蚀凹坑;S5、重复步骤S4,直到各高斯型烧蚀凹坑构成预设的正弦相位光栅。采用以上方法,经济高效,能够利用CO2激光在熔石英表面直接制备正弦相位光栅,不仅可以实现一维正弦相位光栅,而且可以方便灵活地实现多种结构二维正弦相位光栅的制备,并且制备的正弦相位光栅激光损伤阈值高,可以实现强激光光束分束,在多光束干涉微结构激光加工领域具有重要的应用。

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