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公开(公告)号：CN103662694A
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN201310372965.9
申请日：2013-08-23
Applicant: 东丽工程株式会社
IPC: B65G35/00
Abstract: 本发明提供一种基板浮起装置和基板浮起量测量方法，能够将基板的浮起量始终准确地计算和控制。基板浮起装置（1）使基板浮起，该装置包括浮起单元（2）和解析装置（21），该浮起单元包括与浮起的基板（W）背面相对而置的对向面（14），且将基板浮起至对向面上方，该解析装置计算从该对向面浮起的基板的浮起量；其中，在该对向面下方进一步设置有向输送浮起单元上浮起的基板发射光的光反射型高度测量器（12），所述浮起单元包括贯通孔（15）和板体状基准板（13），该贯通孔使从高度测量器发射的光和在基板上反射后入射到高度测量器的光通过，该基准板设置在通过该贯通孔从高度测量器向基板发射的光的路径上且反射和透射一部分光。
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公开(公告)号：CN101518769B
公开(公告)日：2012-08-22
申请号：CN200910006827.2
申请日：2009-02-27
Applicant: 东丽工程株式会社
Abstract: 本发明提供一种通过迅速产生吸附基板的吸引力而缩短吸附时间，从而能够提高涂敷装置整体的生产周期的涂敷装置。其具备：基板保持机构，其在形成于载物台的表面的吸引孔产生吸引力而将基板吸附保持于载物台的表面；涂敷组件，其相对于基板相对移动的同时喷出涂敷液，其中，在基板保持机构的吸引孔连通连接与产生吸引力的吸引力产生装置连接的主配管及副配管，在主配管设有开闭主配管路径的主阀，在副配管设有开闭副配管路径的副阀，并设置有具备储存部的储存箱，所述储存部在比该副阀靠吸引力产生装置侧具有规定容量，储存部具有比一定区间的副配管的容量大的容量。
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公开(公告)号：CN101428264A
公开(公告)日：2009-05-13
申请号：CN200810174564.1
申请日：2008-11-10
Applicant: 东丽工程株式会社
Abstract: 一种即使在基板往工作台上固定需要时间的情况下也能够抑制涂敷装置整体的作业周期长期化的涂敷装置及涂敷方法。这种涂敷装置的涂敷方法包括在工作台的表面载置基板的基板载置工序、在载置于工作台的表面的基板上形成初始膜的初始膜形成工序和从涂敷单元喷出涂敷液且在基板上形成涂敷膜的涂敷膜形成工序，基板载置工序具有在工作台的表面吸附基板的吸附工序，该吸附工序包括初始吸附工序和主要吸附工序，初始吸附工序是吸附包括涂敷开始位置的基板的初始膜形成区域，主要吸附工序是吸附除了初始膜形成区域以外的基板的涂敷膜形成区域，在结束初始吸附工序后、结束主要吸附工序前，开始初始膜形成工序。
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公开(公告)号：CN103301998B
公开(公告)日：2017-06-06
申请号：CN201310066873.8
申请日：2013-03-04
Applicant: 东丽工程株式会社
Abstract: 本发明提供一种涂布装置，对被输送的基板进行涂布，通过简单的结构提高由传感器测量的喷嘴的宽度方向两端部的高度位置的测量精度，该涂布装置，包括：输送机构部（2），将基板（W）向水平的输送方向输送；涂布机构部（3），包括喷嘴（30），所述喷嘴在宽度方向上较长且与被输送的基板相对应；传感器（7），为了调节相对于水平面的喷嘴的姿势而测量该喷嘴的宽度方向两端部（35）的高度位置；其中，输送机构部包括：轨道（21），向输送方向延伸；基座部件（23），沿着该轨道移动；吸附机构（25），搭载于所述基座部件上，在输送基板时支撑基板的宽度方向两端部（E），传感器与吸附机构一同搭载于基座部件上。
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公开(公告)号：CN103112719B
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：CN201210405499.5
申请日：2012-10-23
Applicant: 东丽工程株式会社
Abstract: 本发明提供一种浮起输送装置，对基板输送所伴随的浮起环境变化能够迅速响应，并且能够将基板以规定的浮起高度输送，该装置包括：浮起平台(10)，具有在基板的输送方向上排列有多个喷出口(11)和多个吸引口(12)的表面；吸引力供给装置(30)；主配管(13)，与吸引力供给装置连通；分歧配管(15)，与主配管连通，并且与各个吸引口连通；压差阻尼器(20)，设置在主配管的中途部分，其中，压差阻尼器具有连通主配管内部和外部气体的路径的多歧管(21)以及阻断该路径的阀(22)，阀通过主配管内外气体之间的压差对该阀施加的外力进行开启和关闭的动作，并通过响应压差变化阀进行动作而其开启度发生变化，由此保持规定的压差。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101439329B
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN200810178115.4
申请日：2008-11-19
Applicant: 东丽工程株式会社
Abstract: 一种将吸附基板的吸引力设定成不会产生涂敷不均的程度时也能够抑制涂敷装置作业周期长期化的涂敷装置及其基板保持方法。这种涂敷装置具备：在工作台的表面形成的吸引孔中产生吸引力、将基板吸附保持在工作台的表面的基板保持装置和相对于基板相对移动且喷出涂敷液的涂敷单元，基板保持装置具有通过调节对基板附加的压力从而能够调节对基板的吸引力的压力调节部，该压力调节部能够调节成初始压和保持压，初始压是吸附刚刚载置在工作台的表面的基板，保持压是在利用该初始压吸附基板后、维持基板保持在工作台的表面的状态，该保持压设定成小于所述初始压。
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公开(公告)号：CN102205297A
公开(公告)日：2011-10-05
申请号：CN201110074994.8
申请日：2011-03-28
Applicant: 东丽工程株式会社
Abstract: 本发明提供输送装置及涂布系统，能够将浮起的基板牢固地保持，并且将被保持的基板通过简单的结构使其整体变为平坦。其中，输送基板(W)的输送装置(40)包括：浮起载物台(1)，将基板浮起；吸附机构(3)，吸附被浮起的基板侧部底面(9)；输送驱动装置，通过移动吸附机构，将吸附机构所吸附的基板以浮起至规定高度(h)的状态输送。吸附机构包括：阻挡器(10)，具有接触面(11)，通过使基板侧部底面接触，使所述基板侧部定位在所述规定高度上；吸附垫(20)，能够吸附基板侧部底面，在吸附之前突出至接触面之上规定尺寸(S)，吸附之后向下收缩规定尺寸(S)。
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公开(公告)号：CN108701635B
公开(公告)日：2023-02-28
申请号：CN201780013592.2
申请日：2017-03-09
Applicant: 东丽工程株式会社
IPC: H01L21/677 , B65G49/06 , G02F1/13 , H01L21/027 , B05C13/02
Abstract: 提供基板浮起输送装置，能够避免装置结构的复杂化，能够不提高成本而将浮起的基板容易地保持为恒定高度。具体而言，基板浮起输送装置具有：浮起载台，其使基板浮起；基板保持单元，其对借助浮起载台而浮起的基板进行保持；以及输送驱动部，其在利用基板保持单元对基板进行了保持的状态下使基板保持单元移动，从而使基板在输送方向上移动，基板保持单元具有：多个吸附部，它们对基板进行吸附；以及保持框架部，其对这些所有的吸附部按照在输送方向上并列的状态进行安装，保持框架部借助升降部而设置于输送驱动部，并形成为：通过使升降部进行动作，从而保持框架部进行升降动作而使所有的吸附部相对于基板进行接近离开动作。
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公开(公告)号：CN103662694B
公开(公告)日：2017-07-14
申请号：CN201310372965.9
申请日：2013-08-23
Applicant: 东丽工程株式会社
IPC: B65G35/00
Abstract: 本发明提供一种基板浮起装置和基板浮起量测量方法，能够将基板的浮起量始终准确地计算和控制。基板浮起装置（1）使基板浮起，该装置包括浮起单元（2）和解析装置（21），该浮起单元包括与浮起的基板（W）背面相对而置的对向面（14），且将基板浮起至对向面上方，该解析装置计算从该对向面浮起的基板的浮起量；其中，在该对向面下方进一步设置有向输送浮起单元上浮起的基板发射光的光反射型高度测量器（12），所述浮起单元包括贯通孔（15）和板体状基准板（13），该贯通孔使从高度测量器发射的光和在基板上反射后入射到高度测量器的光通过，该基准板设置在通过该贯通孔从高度测量器向基板发射的光的路径上且反射和透射一部分光。
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