公开(公告)号：CN102634773A

公开(公告)日：2012-08-15

申请号：CN201210028975.6

申请日：2012-02-09

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 两角友一朗 ,  佐藤泉 ,  浅利伸二

IPC: C23C16/455 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67109 ,  C23C16/405 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/45546

Abstract: 本发明提供一种成膜装置。与分别形成有用于向反应管内供给Zr系气体、O3气体等处理气体的气体喷射口的第1体喷射器及第2气体喷射器相对独立地形成第3气体喷射器，在该第3气体喷射器上，沿着反应管的长度方向形成有狭缝，在切换处理气体时，通过从该狭缝向反应管内供给吹扫气体而该置换反应管内的气氛气体。

公开(公告)号：CN102290366A

公开(公告)日：2011-12-21

申请号：CN201110168452.7

申请日：2011-06-17

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 浅利伸二 ,  冈田充弘

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/67 ,  C23C16/458

CPC classification number: H01L21/67109 ,  C23C16/405 ,  C23C16/45546 ,  C23C16/4583 ,  H01L21/67309

Abstract: 本发明提供支承体构造及处理装置。该支承体构造用于在处理容器构造(42)内支承被处理体(W)，该处理容器构造(42)在收容有多个上述被处理体(W)的状态下供处理气体从一端朝向另一端流动而进行规定处理，该支承体构造包括顶板部(48)、底部(50)和多个支承支柱(60)，多个支承支柱(60)将上述顶板部和上述底部连结起来，沿着其长度方向形成有用于支承上述被处理体的多个支承部(88)，并且，上述支承部的在上述处理气体的流动方向的下游侧的间距被设定得大于上述支承部的在上述处理气体的流动方向的上游侧的间距。由此，能够提高被处理体的膜厚的面内均匀性。