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公开(公告)号：CN104749894B
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201310737701.9
申请日：2013-12-30
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种改善掩模垂向重力弯曲的掩模台，其特征在于：所述掩模台还包括对掩模施加对称向外背离掩模方向的拉力的系统。本发明在原有掩模台的基础上，增加可以向掩模侧向两边或四周边缘施加对称向外拉力的系统，如真空吸附系统，从掩模石英面边缘的方向上，对掩模产生对称的向外拉力。这些向外的拉力可以改善由于重力作用，掩模产生的向下弯曲变形的现象。
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公开(公告)号：CN105446083A
公开(公告)日：2016-03-30
申请号：CN201410428551.8
申请日：2014-08-28
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种具有打码功能的曝光机，包括由光源、掩模、物镜、基板以及工件台组成的曝光系统，其特征在于：还包括打码系统，所述打码系统包括光源，打码系统固定模块，液晶数字显示掩模模块，打码位置调整模块以及编码、定位软件模块；所述打码系统与所述曝光系统同时工作。本发明的曝光机能在曝光的过程中同时进行每个曝光场边缘屏幕的打码，可明显为后续打码机缩短生产时间，以便整条产线提高产能，同时不改变产线设备的配置。
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公开(公告)号：CN102445854A
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：CN201010508118.7
申请日：2010-10-15
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Inventor： 林彬
Abstract: 本发明提出一种工件台的垂向位置测量系统，包括两个角反射镜、两个光束产生/探测装置。两个角反射镜分别安装在工件台的x向的两侧，包括连接成直角的两片反射镜片。两个光束产生/探测装置分别发出光束照射两个角反射镜，并探测角反射镜所反射的光束。两个光束产生/探测装置安装在工件台的基准位置上，根据公式得到工件台的z向位置，其中k为工件台的x向宽度，(x0，y0)为工件台的当前位置，z1、z2分别为第一光束产生/探测装置和第二光束产生/探测装置测得的工件台的z向位置。本发明提出的工件台的垂向位置测量系统利用角反射镜对光线进行反射，误差小，节省测试时间。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102374844A
公开(公告)日：2012-03-14
申请号：CN201010259190.0
申请日：2010-08-20
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 一种测量工件台垂向位置的装置，该装置包括：光源，发射出平行光束；调制光栅，对来自光源的光束进行调制；第一显微物镜，对来自调制光栅的光束进行缩束；工件台；第二显微物镜，对从工件台反射回来的测量光束进行扩束；测量光栅，接收来自第二显微物镜的测量光束；探测器，接收从测量光栅出射的光束，并对其进行测量，得到角反射镜的高度。其中，工件台的侧面安装有一个角反射镜，该角反射镜能将入射光束平行反射回去，测量光栅上的光栅条纹与入射到测量光栅上的光束条纹成一夹角，两个光栅的周期为光源发出的光束的波长的100倍以上，光束穿过测量光栅后形成莫尔条纹。
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公开(公告)号：CN101510058B
公开(公告)日：2011-10-12
申请号：CN200910047581.3
申请日：2009-03-13
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Inventor： 林彬
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种工件台位置水平误差测量及校正方法，包括下列步骤：光刻机系统在硅片上曝光多个场的标记，每个场中分别包含将工件台设置成不同的旋转或者倾斜角度的情况曝光得到的标记；读取标记在硅片上的位置；计算工件台带有一定旋转或者倾斜角度与旋转倾斜角度均为零的情况下曝光得到的标记位置偏差；以及依据标记位置偏差获得计算得到至少一个用于校正干涉仪误差的参数，从而对工件台位置的测量结果进行有效的校正。本发明可以有效测量出由旋转或者倾斜等不同组合情况下引入的误差，与传统技术相比，精度更高。
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公开(公告)号：CN103454862B
公开(公告)日：2015-11-18
申请号：CN201210181489.8
申请日：2012-06-05
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种用于光刻设备的工件台位置误差补偿方法，其特征在于，包括：步骤一、设置旋转台的旋转角度为零，并与水平向运动台保持固定的位置关系，在硅片上套刻曝光，读取曝光标记偏差，计算各曝光场的旋转角度；步骤二、根据所述各曝光场的旋转角度，拟合由所述运动轨道扭转引入的旋转角度；步骤三、使所述工件台先后沿第一方向和与第一方向垂直的第二方向运动，测量工件台的旋转角度；步骤四、根据所述工件台的旋转角度，拟合获得由缩放效应引入的旋转角度；步骤五、根据所述工件台的旋转角度、所述运动轨道扭转引入的旋转角度与缩放效应引起的旋转角度，计算方镜面形引起的旋转角度，获得一补偿后的方镜形貌。
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公开(公告)号：CN104749894A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201310737701.9
申请日：2013-12-30
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种改善掩模垂向重力弯曲的掩模台，其特征在于：所述掩模台还包括对掩模施加对称向外背离掩模方向的拉力的系统。本发明在原有掩模台的基础上，增加可以向掩模侧向两边或四周边缘施加对称向外拉力的系统，如真空吸附系统，从掩模石英面边缘的方向上，对掩模产生对称的向外拉力。这些向外的拉力可以改善由于重力作用，掩模产生的向下弯曲变形的现象。
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