公开(公告)号：CN216846167U

公开(公告)日：2022-06-28

申请号：CN202120786997.3

申请日：2021-04-17

Applicant: 上海市计量测试技术研究院 ,  中国计量大学

Inventor： 雷李华 ,  傅云霞 ,  管钰晴 ,  曾燕华 ,  杜黎明 ,  唐冬梅 ,  邹文哲

IPC: G01B21/02 ,  G01B21/18 ,  G01B21/08

Abstract: 本实用新型为一种复合型微纳米高深宽比沟槽标准样板，其特征在于：所述的标准样板包括分设于基底上的几何台阶结构测量工作区域、一维栅格结构测量工作区域及深槽结构测量工作区域，所述的几何台阶结构测量工作区域设有直角三角形循迹标识和台阶结构循迹标识及台阶，一维栅格结构测量工作区域设有一维栅格标准样板及指向一维栅格标准样板的一维栅格结构循迹标识，深槽结构测量工作区域设有具有深度、宽度尺寸的沟槽，在沟槽两侧对称设有定位角标识、沟槽定位结构、切片定位结构和正交扫描标定结构，所述台阶的高度与一维栅格标准样板的结构高度及沟槽的深度尺寸相同，且台阶的宽度与一维栅格标准样板中每个光栅的结构宽度及沟槽的宽度尺寸相同。

公开(公告)号：CN216791112U

公开(公告)日：2022-06-21

申请号：CN202120786964.9

申请日：2021-04-17

Applicant: 上海市计量测试技术研究院 ,  中国计量大学

Inventor： 管钰晴 ,  傅云霞 ,  雷李华 ,  曾燕华 ,  杜黎明 ,  唐冬梅 ,  邹文哲

IPC: G01B11/06

Abstract: 本实用新型为一种可循迹多尺寸纳米膜厚标准样板，其特征在于：所述的纳米膜厚标准样板包括设于基底上的第一测量工作区域和第二测量工作区域两个工作区域，所述的第一测量工作区域设有小光斑光源测量工作中心圆，所述的第二测量工作区域设有大光斑光源测量工作中心圆，所述的小光斑光源测量工作中心圆外周设有若干指向小光斑光源测量工作中心圆的小光斑光源工作区域循迹标识，所述大光斑光源测量工作中心圆外周设有若干指向大光斑光源测量工作中心圆的大光斑光源工作区域循迹标识。本实用新型能够满足测量中不同光斑大小的测量需求，完善了半导体行业不同类型仪器的量值统一方式，使测量结构能被快速、准确地定位和测量，大大提高了测量效率。

公开(公告)号：CN203177885U

公开(公告)日：2013-09-04

申请号：CN201320062791.1

申请日：2013-02-04

Applicant: 上海市计量测试技术研究院

Inventor： 姜志华 ,  杨晓栋 ,  唐冬梅 ,  曾燕华 ,  张波

IPC: G01D18/00 ,  G01B11/00 ,  G01B11/02

Abstract: 本实用新型涉及计量测试量值传递技术领域，尤其是涉及一种用于三维非接触测量系统校准的标准装置。它的测量棒两端分别连接标准球。本实用新型由于采用上述技术方案，使得标准球与球支撑构成直线垂直于测量棒，在测量过程中标准球能被三维非接触式测量系统完整的测量，标准球表面不反光，测量棒采用膨胀系数小的材料制造，不受热胀冷缩引起的长度变化的影响，能适应各种不同的测试要求，准确的检测出三维非接触测量系统的测量误差和测量不确定度。