聚醚醚酮和磺化聚丁二烯嵌段共聚物及其制备方法

    公开(公告)号:CN101698706A

    公开(公告)日:2010-04-28

    申请号:CN200910197853.8

    申请日:2009-10-29

    Inventor: 印杰 赵渊

    Abstract: 本发明公开了一种聚醚醚酮和磺化聚丁二烯嵌段共聚物及其制备方法。先以不同比例的4,4’-二氟二苯酮和二酚单体为原料合成得到端氟基的聚醚醚酮,再用4-氨基酚对其端基进行改性,转化为端氨基的聚醚醚酮;同时使用二氯亚砜对端羧基聚丁二烯进行改性得到端酰氯基的聚丁二烯;将以上2种嵌段预聚物在无水条件下进行缩聚反应,合成得到聚醚醚酮和聚丁二烯的嵌段共聚物。最后使用通过浓硫酸与乙酸酐制得的乙酰磺酸酯对嵌段共聚物进行选择性磺化,即可得到聚醚醚酮和磺化聚丁二烯嵌段共聚物。本发明制得的聚醚醚酮和磺化聚丁二烯嵌段共聚物具有聚醚醚酮的刚性结构和聚丁二烯的柔性结构,在燃料电池质子交换膜领域中有着广泛的应用前景。

    高分子型米嗤酮光引发剂的制备方法

    公开(公告)号:CN101293951A

    公开(公告)日:2008-10-29

    申请号:CN200810039196.X

    申请日:2008-06-19

    Abstract: 本发明公开了下式所示的高分子型米嗤酮光引发剂的制备方法,先以4,4’-二氟二苯甲酮和哌嗪为原料合成含有两个甲基叔胺的米嗤酮,再将米嗤酮和双环氧单体溶于有机溶剂中,升温聚合几小时,得到高分子型米嗤酮光引发剂。该光引发剂主链上同时含有米嗤酮和助引发剂胺,具有较高的光引发性能。相对于小分子光引发体系,此类高分子光引发体系具有迁移率低、毒性小等特点,在涂料、微电子及光学领域有着广阔的应用前景。

    用环氧化合物制备聚苯并咪唑交联膜的方法

    公开(公告)号:CN101220163A

    公开(公告)日:2008-07-16

    申请号:CN200710171866.9

    申请日:2007-12-06

    Abstract: 本发明涉及一种用环氧化合物制备聚苯并咪唑交联膜的方法,以含氨基二元酸及芳香四元胺为单体原料,以多聚磷酸为反应介质,在150-220℃、氮气保护条件下反应5-30小时,得到含氨基聚苯并咪唑的均聚物;以含氨基二元酸、不含氨基二元酸及芳香四胺为单体原料,在相同反应条件下,制得含氨基聚苯并咪唑的共聚物。所制得的聚苯并咪唑均聚物和聚苯并咪唑共聚物在二甲基亚砜、N,N-二甲基乙酰胺、磷酸、硫酸和甲磺酸等溶剂中都具有良好的溶解性。采用二或多官能度环氧化合物为交联剂,通过聚苯并咪唑中的氨基和二或多官能度环氧化合物中的环氧官能团发生交联反应,制得了具有优良性能的聚苯并咪唑交联膜。

    同时具有微米纳米结构的复合图形的构建方法

    公开(公告)号:CN101157520A

    公开(公告)日:2008-04-09

    申请号:CN200710046152.5

    申请日:2007-09-20

    Inventor: 纪强 姜学松 印杰

    Abstract: 本发明涉及一种同时具有微米纳米结构的复合图形的构建方法,通过将光刻技术及反应性相分离技术相结合,制备同时具有微米及纳米结构的图形,用于集成线路板、信息贮存装置、生物芯片和微机电系统中。首先用浓硫酸和丙酮处理玻璃基片或硅基片表面,再将交联剂、线性共聚物、光引发剂配制成一定浓度的溶液在基片表面旋涂成膜,将制备出的膜在模版下进行光刻、显影,制得微米级的图形,再将微米级图形进行淬火,从而在微米级的图形表面生成纳米级的图形,得到同时具有微米级和纳米级结构的复合图形。本发明方法简单易行,可同时制备具有微米、纳米级的图形,可以节约大量的设备和仪器。

    负性聚酰亚胺光敏材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN1320032C

    公开(公告)日:2007-06-06

    申请号:CN200510110435.2

    申请日:2005-11-17

    Inventor: 姜学松 李浩 印杰

    Abstract: 本发明公开了下式所示的一类负性聚酰亚胺光敏材料及其制备方法。该聚酰亚胺光敏材料以2,4-二羟基间苯二胺盐酸盐,二胺单体和二酸酐为原料进行聚合,得到分子链上含羟基的聚酰亚胺,然后使羟基与丙烯酸及其衍生物的酰氯发生酯化反应,得到具有负性感光性能的聚酰亚胺光敏材料。这类负性聚酰亚胺光敏材料具有高的光敏性和分辨率,良好的热性能和有机溶解性,在航空、微电子等领域有着广泛的应用前景。

    磺化聚芳醚砜嵌段磺化聚丁二烯质子交换膜及其制备方法

    公开(公告)号:CN1317058C

    公开(公告)日:2007-05-23

    申请号:CN200510026817.7

    申请日:2005-06-16

    Abstract: 本发明公开一种如下式所示磺化聚芳醚砜嵌段磺化聚丁二烯质子交换膜及其制备方法。采用二酚单体和磺化4,4’-二氯二苯砜为原料直接聚合得到端羟基磺化聚芳醚砜;然后将其与端羟基的聚丁二烯在二异氰酸脂作用下,合成磺化聚芳醚砜嵌段聚丁二烯共聚物;最后用乙酰磺酸脂后磺化分子链中的聚丁二烯链段,得到磺化聚芳醚砜嵌段磺化聚丁二烯质子交换膜,它的主链不仅有磺化的聚芳醚砜硬段,还有磺化的聚丁二烯软段,这两种不同柔性的磺化链段相互作用可以形成网络状的离子通道,在较低的离子交换容量(0.2~0.8mmol/g)下提供很高的质子电导率(1~15×10-2S/cm,90℃,100%相对湿度下),在燃料电池领域有着广泛应用前景。

    高分子型二苯甲酮光引发剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN1858078A

    公开(公告)日:2006-11-08

    申请号:CN200610025660.0

    申请日:2006-04-13

    Inventor: 王洪宇 韦军 印杰

    Abstract: 本发明公开了下式所示的高分子型二苯甲酮光引发剂及其制备方法。以卤代二苯甲酮和对氨基苯酚或对氨基苯硫酚为原料,经过生成带氨基的二苯甲酮,然后通过氨基引入马来酰亚胺基团。含马来酰亚胺基团的二苯甲酮和带有不饱和双键的叔胺进一步通过自由基共聚合,得到含供氢体叔胺结构的高分子型二苯甲酮光引发剂,由于其结构中含有苯氧或苯硫基团,相对于二苯甲酮其紫外吸收发生较大红移;供氢体叔胺引入到二苯甲酮高分子链后在不需要另外加入供氢体下,即可引发聚合。相对于小分子光引发体系,此类高分子型二苯甲酮光引发剂克服了小分子光引发剂的毒性和迁移的缺点,在紫外光固化等领域将具有广泛的应用。

    高分子型六芳基二咪唑光引发剂及其制备方法

    公开(公告)号:CN1847286A

    公开(公告)日:2006-10-18

    申请号:CN200610025666.8

    申请日:2006-04-13

    Abstract: 本发明公开了下式所示的一类高分子型六芳基二咪唑光引发剂及其制备方法。这类光引发剂是以4-氟苯偶酰为原料,经取代反应、环化反应和氧化偶合反应得到高分子型六芳基二咪唑光引发剂。此类光引发剂含有供电子的叔胺侧基,有利于改善六芳基二咪唑类光引发剂的紫外-可见光吸收性能和光引发活性,同时其高分子结构有利于降低光固化后残留的六芳基二咪唑向材料表面的迁移,在光致抗蚀剂、印刷线路版等微电子领域有着广泛的应用前景。式中,n=5~200,R1、R2、R3、R4和R5分别独立选自氢、卤素、硝基、氰基、含1~3个碳原子的烷基或者含1~3个碳原子的烷氧基,X为二元叔胺基团。

    负性聚酰亚胺光敏材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN1793200A

    公开(公告)日:2006-06-28

    申请号:CN200510110435.2

    申请日:2005-11-17

    Inventor: 姜学松 李浩 印杰

    Abstract: 本发明公开了下式所示的一类负性聚酰亚胺光敏材料及其制备方法。该聚酰亚胺光敏材料以2,4-二羟基间苯二胺盐酸盐,二胺单体和二酸酐为原料进行聚合,得到分子链上含羟基的聚酰亚胺,然后使羟基与丙烯酸及其衍生物的酰氯发生酯化反应,得到具有负性感光性能的聚酰亚胺光敏材料。这类负性聚酰亚胺光敏材料具有高的光敏性和分辨率,良好的热性能和有机溶解性,在航空、微电子等领域有着广泛的应用前景。

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