半导体装置及其制造方法
    11.
    发明公开

    公开(公告)号:CN110326090A

    公开(公告)日:2019-10-11

    申请号:CN201780087203.0

    申请日:2017-02-27

    Abstract: 在半导体层(2)之上形成有栅极电极(6),该栅极电极(6)至少具有最下层(6a)和上层(6b),该最下层(6a)与半导体层(2)接触,该上层(6b)形成于最下层(6a)之上。上层(6b)向最下层(6a)产生应力而导致最下层(6a)的两端部从半导体层(2)翘起。

    半导体装置的制造方法
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106169430B

    公开(公告)日:2019-03-15

    申请号:CN201610341995.7

    申请日:2016-05-20

    Abstract: 得到如下半导体装置的制造方法,即,能够在半导体装置的配线层全部形成之前实施测试,能够针对晶体管单体进行测试,而不依赖于半导体装置的电路结构。在衬底(1)之上彼此独立地形成晶体管(2、3)、电路元件(4、5)以及多个接触焊盘(6a~6f)各自的底层配线。在形成有底层配线的衬底(1)之上的整个面形成第1供电层(14)。对第1供电层(14)进行图案化,形成使晶体管(2、3)的各端子与电路元件(4、5)独立并且分别与不同的接触焊盘连接的测试图案(25~28)。使用接触焊盘和测试图案,针对晶体管(2、3)单体进行测试。在测试之后,将晶体管(2、3)和电路元件(4、5)连接而形成电路。

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