公开(公告)号：CN119987131A

公开(公告)日：2025-05-13

申请号：CN202411432186.8

申请日：2024-10-14

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 林秀斌 ,  徐也隐 ,  张水民 ,  禹昌秀 ,  李旻映 ,  成太根 ,  姜恩美 ,  金智敏 ,  张胜宇 ,  辛乘旭

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/20

Abstract: 提供了半导体光刻胶组合物和使用所述组合物形成图案的方法。该半导体光刻胶组合物包含有机金属化合物和混合溶剂，该混合溶剂包含重量比为约1:99至约30:70的醇类化合物和非醇类化合物。

公开(公告)号：CN112666794B

公开(公告)日：2024-12-17

申请号：CN202011093850.2

申请日：2020-10-14

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 文京守 ,  姜恩美 ,  金宰贤 ,  金智敏 ,  南宫烂 ,  禹昌秀 ,  田桓承 ,  蔡承龙 ,  韩承

IPC: G03F7/004

Abstract: 本发明涉及一种半导体光致抗蚀剂组合物和使用其来形成图案的方法，半导体光致抗蚀剂组合物包含有机金属化合物和溶剂，有机金属化合物包含由化学式1到化学式3表示的化合物中的至少一种。化学式1到化学式3的细节如详细描述中所定义。[化学式1]#imgabs0#[化学式2]#imgabs1#[化学式3]#imgabs2#

公开(公告)号：CN113655689B

公开(公告)日：2024-10-11

申请号：CN202110510318.4

申请日：2021-05-11

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 韩承 ,  金宰贤 ,  文京守 ,  禹昌秀 ,  蔡承龙 ,  南宫烂 ,  田桓承

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明公开一种半导体光刻胶组合物和一种使用其形成图案的方法，半导体光刻胶组合物包含(A)有机金属化合物、(B)具有在25℃下小于或等于约1.0mmHg的蒸气压和约3到约5的pKa的有机酸以及(C)溶剂。

公开(公告)号：CN118295210A

公开(公告)日：2024-07-05

申请号：CN202311257050.3

申请日：2023-09-27

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 林雪熙 ,  禹昌秀 ,  金铃根 ,  柳东完 ,  林秀斌 ,  姜锡一 ,  姜恩美

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/20

Abstract: 公开一种半导体光刻胶组合物以及一种使用其形成图案的方法，所述半导体光刻胶组合物包含由化学式1表示的有机锡化合物和溶剂。

公开(公告)号：CN115598942A

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN202210794402.8

申请日：2022-07-07

Applicant: 三星SDI株式会社(KR) ,  三星电子株式会社(KR)

Inventor： 李旻映 ,  文炯朗 ,  许伦旼 ,  金旼秀 ,  金荣权 ,  金宰贤 ,  禹昌秀 ,  崔正敏 ,  高武铉 ,  金贞儿 ,  都星安 ,  裵相元 ,  韩勋 ,  洪锡九

IPC: G03F7/42

Abstract: 本发明提供了一种从含金属的抗蚀剂去除边缘珠的组合物，及包括使用组合物去除边缘珠的步骤的形成图案的方法。该从含金属的抗蚀剂去除边缘珠的组合物包含有机溶剂、以及被至少一个羟基(‑OH)取代的七角环化合物，其中该七角环化合物在该环中具有至少两个双键。

公开(公告)号：CN112666794A

公开(公告)日：2021-04-16

申请号：CN202011093850.2

申请日：2020-10-14

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 文京守 ,  姜恩美 ,  金宰贤 ,  金智敏 ,  南宫烂 ,  禹昌秀 ,  田桓承 ,  蔡承龙 ,  韩承

IPC: G03F7/004

Abstract: 本发明涉及一种半导体光致抗蚀剂组合物和使用其来形成图案的方法，半导体光致抗蚀剂组合物包含有机金属化合物和溶剂，有机金属化合物包含由化学式1到化学式3表示的化合物中的至少一种。化学式1到化学式3的细节如详细描述中所定义。[化学式1]，[化学式2]，[化学式3]。

公开(公告)号：CN107567482B

公开(公告)日：2021-02-05

申请号：CN201680024012.5

申请日：2016-04-22

Applicant: 三星SDI株式会社 ,  三星电子株式会社

Inventor： 韩东一 ,  姜炅求 ,  金旻惠 ,  朴志桓 ,  禹昌秀 ,  任智善 ,  张胜宇

IPC: C08L83/06

Abstract: 提供一种用于窗膜的组合物、一种由其形成的可挠性窗膜以及一种包括其的可挠性显示装置，所述用于窗膜的组合物包含：第一硅酮树脂，包含式1；第二硅酮树脂，含有可交联官能基、以及Q单元及桥接单元中的一个或多个；交联剂；以及引发剂。 (R1SiO3/2)x(R2R3SiO2/2)y(R4R5R6SiO1/2)z；在式1中，R1、R2、R3、R4、R5、R6、x、y及z与在说明书中所定义的相同。

公开(公告)号：CN105646881B

公开(公告)日：2018-12-14

申请号：CN201510862691.0

申请日：2015-12-01

Applicant: 三星SDI株式会社 ,  三星电子株式会社

Inventor： 禹昌秀 ,  姜炅求 ,  金旻惠 ,  任智善 ,  张胜宇 ,  韩东一

IPC: C08G77/18 ,  C09D183/06 ,  C09D7/63 ,  C08J7/04 ,  G09F9/30 ,  C08L67/02

Abstract: 本发明提供一种窗膜用组成物、使用其制成的柔性窗膜以及包含其的柔性显示器，窗膜用组成物包含由式1表示的硅氧烷树脂和起始剂，可以获得具有优良硬度和柔性的柔性窗膜。式1(R1SiO3/2)x(R2R3SiO2/2)y其中R1为可交联官能团；R2以及R3各自独立地为氢、可交联官能团、未经取代或经取代的C1到C20烷基、或未经取代或经取代的C5至C20环烷基；R2以及R3中的至少一个为未经取代或经取代的C1到C20烷基；以及0＜x＜1，0＜y＜1，以及x+y＝1。

公开(公告)号：CN107001670A

公开(公告)日：2017-08-01

申请号：CN201580065885.6

申请日：2015-12-01

Applicant: 三星SDI株式会社 ,  三星电子株式会社

Inventor： 禹昌秀 ,  姜炅求 ,  金旻惠 ,  任智善 ,  张胜宇 ,  韩东一

IPC: C08J5/18 ,  C08L83/06 ,  C08L83/08 ,  C08G77/14 ,  C08G77/26 ,  C08G77/388 ,  C08G77/42 ,  G09F9/30

CPC classification number: C08G77/14 ,  C08G77/26 ,  C08G77/388 ,  C08G77/42 ,  C08J5/18 ,  C08J2383/06 ,  C08J2383/08 ,  G09F9/301

Abstract: 提供一种窗膜用组成物、由其形成的柔性窗膜以及包括其的柔性显示器装置，所述组成物包括包含化学式1的硅氧烷树脂和引发剂。化学式1：(R1SiO3/2)x(R2R3SiO2/2)y(R4SiO3/2)z。

公开(公告)号：CN119439611A

公开(公告)日：2025-02-14

申请号：CN202410874416.X

申请日：2024-07-02

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 禹昌秀 ,  林雪熙 ,  李旻映 ,  金智敏

IPC: G03F7/004 ,  G03F1/80 ,  G03F1/56

Abstract: 一种半导体光刻胶组合物包含由化学式1表示的有机金属性化合物和溶剂。提供一种利用所述半导体光刻胶组合物来形成(或提供)图案的方法。[化学式1](R1)n1‑M‑[(X)‑R2]m1。