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公开(公告)号：CN106226997A
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：CN201610182871.9
申请日：2016-03-28
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供一种有机层组成物以及形成图案的方法，该有机层组合物包含热收缩率为10％到70％的第一化合物、热收缩率小于所述第一化合物的第二化合物以及溶剂；以及一种通过使所述有机层组成物固化获得的有机层以及一种使用所述有机层组成物形成图案的方法。可以提供同时确保耐蚀刻性和平面化特征的有机层。
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公开(公告)号：CN104714368A
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201410367818.7
申请日：2014-07-29
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明公开了正性光敏树脂组合物、用其制备的光敏树脂膜及显示装置。所述光敏树脂组合物包括(A)碱可溶性树脂；(B)光敏重氮醌化合物；(C)酚化合物；(D)热生酸剂；以及(E)溶剂，其中溶剂包括在大气压下沸点低于160℃的有机溶剂和在大气压下沸点高于或等于160℃的有机溶剂，基于溶剂的总量，沸点低于160℃的有机溶剂以大于或等于90wt％并且小于100wt％的量被包括，以及基于溶剂的总量，沸点高于或等于160℃的有机溶剂以大于0wt％并且小于或等于10wt％的量被包括。
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公开(公告)号：CN113138532B
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202110056902.7
申请日：2021-01-15
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明公开一种抗蚀剂底层组合物，包含：(A)包含由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的化合物或其组合的聚合物；(B)包含其中由化学式3或化学式4表示的部分中的至少一个和由化学式7表示的部分彼此键结的结构的聚合物；以及(C)溶剂；且还公开一种使用抗蚀剂底层组合物形成图案的方法，化学式1到化学式4和化学式7的定义如说明书中所描述。
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公开(公告)号：CN119882348A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202411482622.2
申请日：2024-10-23
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 公开一种抗蚀剂底层组合物和使用该抗蚀剂底层组合物形成图案的方法。该抗蚀剂底层组合物包括：包含由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的结构单元、由化学式3表示的结构单元或其组合的聚合物；由化学式4至化学式6中选择的一者或多者表示的化合物；以及溶剂。化学式1到化学式6的定义如说明书中所述。#imgabs0#
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110879508B
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN201910837249.0
申请日：2019-09-05
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明公开一种抗蚀剂垫层组合物和使用抗蚀剂垫层组合物形成图案的方法，所述组合物包含：聚合物，包含由化学式1‑1表示的第一部分和由化学式1‑2表示的第二部分中的至少一者；热酸产生剂，包含由酸衍生的阴离子和衍生自pKa大于或等于7的碱的阳离子构成的盐；以及溶剂：化学式1‑1到化学式1‑2的定义与具体实施方式中所描述的定义相同。[化学式1‑1][化学式1‑2]
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公开(公告)号：CN104714368B
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：CN201410367818.7
申请日：2014-07-29
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明公开了正性光敏树脂组合物、用其制备的光敏树脂膜及显示装置。所述光敏树脂组合物包括(A)碱可溶性树脂；(B)光敏重氮醌化合物；(C)酚化合物；(D)热生酸剂；以及(E)溶剂，其中溶剂包括在大气压下沸点低于160℃的有机溶剂和在大气压下沸点高于或等于160℃的有机溶剂，基于溶剂的总量，沸点低于160℃的有机溶剂以大于或等于90wt％并且小于100wt％的量被包括，以及基于溶剂的总量，沸点高于或等于160℃的有机溶剂以大于0wt％并且小于或等于10wt％的量被包括。
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