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公开(公告)号：CN109957261A
公开(公告)日：2019-07-02
申请号：CN201811353793.X
申请日：2018-11-14
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C09D1/00 , H01L23/498
Abstract: 本发明公开一种用于形成包含含硅聚合物和溶剂的二氧化硅层的组合物、由其制造的二氧化硅层以及包含二氧化硅层的电子装置，其中二氧化硅(SiO2)转化率约大于0且约小于或等于15。二氧化硅转化率由关系等式1计算：[关系等式1]二氧化硅转化率＝(通过以6700埃的厚度将用于形成二氧化硅层的组合物涂布在裸露晶片上且允许在85℃的温度和85％的相对湿度的条件下承受24小时的Si‑O/Si‑H的面积比)‑(通过以6700埃的厚度将用于形成二氧化硅层的组合物涂布在裸露晶片上且允许在85℃的温度和85％的相对湿度的条件下承受2小时的Si‑O/Si‑H的面积比)。
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公开(公告)号：CN106558483A
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：CN201610329591.6
申请日：2016-05-18
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: H01L21/283 , H01L21/31 , H01L23/28 , H01L29/51
Abstract: 本发明提供一种制造二氧化硅层的方法、二氧化硅层以及电子装置。制造二氧化硅层的方法包含将包含碳化合物的预润湿液体物质涂布于衬底上、将用于形成二氧化硅层的组合物涂布于涂布有预润湿液体物质的衬底上以及使涂布有用于形成二氧化硅层的组合物的衬底固化。根据本发明的方法，可以使得用于形成二氧化硅层的组合物充分润湿衬底，并且可以有效涂布少量组合物，形成均匀的二氧化硅层。
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公开(公告)号：CN104977804A
公开(公告)日：2015-10-14
申请号：CN201410599091.5
申请日：2014-10-30
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C09D171/00 , C08G69/32 , C08G73/1039 , C08G73/1053 , C08G73/1071 , C08G73/14 , C09D133/00 , C09D177/10 , C09D179/08 , C08K5/42
Abstract: 本发明揭示一种正型感光树脂组成物、一种感光树脂膜以及一种包含所述感光树脂膜的显示装置。所述正型感光树脂组成物包含:(A)包含由以下化学式1表示的重复单元的碱性可溶树脂；(B)感光二氮醌化合物；以及(C)溶剂。[化学式1]在以上化学式1中，每个取代基与具体实施方式中所定义的相同。
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公开(公告)号：CN108335970B
公开(公告)日：2021-11-09
申请号：CN201710893281.1
申请日：2017-09-27
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: H01L21/033
Abstract: 一种形成图案的方法、精细图案层以及半导体装置。形成图案的方法包括：在衬底上形成蚀刻对象层，在蚀刻对象层上形成具有凸图案的第一层，形成完全覆盖第一层的凸图案的第二层，部分地移除第二层以暴露出凸图案的顶部、同时留下设置于凸图案的侧处的第二层，移除第一层以暴露出蚀刻对象层的顶部，以及使用设置于被移除的第一层的凸部的侧面处的第二层作为蚀刻掩模对蚀刻对象层进行蚀刻，其中第一层及第二层中的一者为含碳的层且另一者为含硅的层，含硅的层是通过对含硅的组合物进行涂布并对硅的组合物进行热处理来形成。本发明可实现精细的图案并同时提高良率。
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公开(公告)号：CN104730861B
公开(公告)日：2020-05-26
申请号：CN201410384366.3
申请日：2014-08-06
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明提供了正型光敏树脂组合物、利用其制备的光敏树脂膜以及显示装置。本发明公开了一种正型光敏树脂组合物，包括(A)碱溶性树脂；(B)光敏重氮醌化合物；(C)交联剂；(D)热生酸剂；(E)苯酚类化合物；和(F)有机溶剂，其中以1∶50至50∶1的重量比包含交联剂和热生酸剂。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107129757B
公开(公告)日：2020-02-07
申请号：CN201610835603.2
申请日：2016-09-20
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C09D183/16 , C09D183/14 , C09D7/20 , C09D1/00 , C04B35/14 , C04B35/622
Abstract: 本发明提供一种用于形成二氧化硅层的组成物、二氧化硅层及其制造方法以及包含二氧化硅层的电子装置。用于形成二氧化硅层的组成物包含含硅的聚合物和作为溶剂的由化学式1表示的化合物。在化学式1中，L1、L2、m、n、X1以及X2与说明书中所定义相同。本发明可将二氧化硅层中缺陷的产生降到最低并且确保涂布特性。
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公开(公告)号：CN106409652B
公开(公告)日：2019-06-18
申请号：CN201610160367.9
申请日：2016-03-21
Applicant: 三星SDI株式会社
CPC classification number: C09D1/00 , C01B33/12 , C09D7/20 , C09D183/08 , C09D183/16
Abstract: 本发明提供一种用于形成氧化硅层的组合物、制造氧化硅层的方法、氧化硅层及电子装置。用于形成氧化硅层的组合物包含含硅聚合物和包含至少两种溶剂的混合溶剂，其中所述混合溶剂在25℃下的表面张力是5毫牛/米至35毫牛/米。本发明的用于形成氧化硅层的组合物能够提供具有小缺陷和均一厚度的氧化硅层。
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公开(公告)号：CN107129757A
公开(公告)日：2017-09-05
申请号：CN201610835603.2
申请日：2016-09-20
Applicant: 三星SDI株式会社
IPC: C09D183/16 , C09D183/14 , C09D7/00 , C09D1/00 , C04B35/14 , C04B35/622
Abstract: 本发明提供一种用于形成二氧化硅层的组成物、二氧化硅层及其制造方法以及包含二氧化硅层的电子装置。用于形成二氧化硅层的组成物包含含硅的聚合物和作为溶剂的由化学式1表示的化合物。在化学式1中，L1、L2、m、n、X1以及X2与说明书中所定义相同。本发明可将二氧化硅层中缺陷的产生降到最低并且确保涂布特性。
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公开(公告)号：CN104714368A
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201410367818.7
申请日：2014-07-29
Applicant: 三星SDI株式会社
Abstract: 本发明公开了正性光敏树脂组合物、用其制备的光敏树脂膜及显示装置。所述光敏树脂组合物包括(A)碱可溶性树脂；(B)光敏重氮醌化合物；(C)酚化合物；(D)热生酸剂；以及(E)溶剂，其中溶剂包括在大气压下沸点低于160℃的有机溶剂和在大气压下沸点高于或等于160℃的有机溶剂，基于溶剂的总量，沸点低于160℃的有机溶剂以大于或等于90wt％并且小于100wt％的量被包括，以及基于溶剂的总量，沸点高于或等于160℃的有机溶剂以大于0wt％并且小于或等于10wt％的量被包括。
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