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公开(公告)号：CN1782873A
公开(公告)日：2006-06-07
申请号：CN200510125866.6
申请日：2005-11-30
Applicant: 东进世美肯株式会社
CPC classification number: G03F7/0007 , G03F7/029 , G03F7/033
Abstract: 本发明涉及一种感光树脂组合物及其制备方法、以及包含该组合物的感光胶膜，特别是包含碱性可溶性丙烯酸酯树脂、具备至少2个乙烯双键的交联单体、氧化膦光聚合引发剂及吖啶酮光聚合引发剂的感光树脂组合物及其制备方法、以及包含该组合物的感光胶膜。本发明感光树脂组合物及其制备方法、以及包含该组合物的感光胶膜，可在激光的直接曝光下形成图像，易于形成高集成度细微图像，具有良好的光敏度和分辨率，并对基板具有优秀的粘附特性。
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公开(公告)号：CN100445778C
公开(公告)日：2008-12-24
申请号：CN200510127481.3
申请日：2005-12-07
Applicant: 东进世美肯株式会社
IPC: G02B5/20 , G02F1/1335 , G03F7/20
Abstract: 提供滤色镜用感光性树脂组合物，在TFT及STN方式的LCD制造工序中可以使在旋转涂布在基板上的抗蚀膜周边部的多余部分最少化、以及可以增强涂布性和均匀化。本发明的滤色镜用感光性树脂组合物的特征为：含有选自由聚氧化烯甲基硅烷高分子、聚醚改性二甲基聚硅氧烷高分子溶液及聚醚改性二甲基聚硅氧烷高分子组成的组的至少一种的硅系表面添加剂。
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公开(公告)号：CN1847981A
公开(公告)日：2006-10-18
申请号：CN200610072012.0
申请日：2006-04-04
Applicant: 东进世美肯株式会社
Abstract: 本发明提供了一种负性光致抗蚀剂组合物，具体地说，本发明提供了一种包含聚(2－乙基－2－噁唑啉)、叠氮化物类光敏剂和纯水的负性光致抗蚀剂组合物。本发明的负性光致抗蚀剂组合物可以防止环境危害，当应用于CRT的B/M生产过程、荫罩生产过程等时可代替采用Cr的光致抗蚀剂，并且可以在曝光时通过适当地选择光使光吸收带符合加工条件，从而增加感光度，使得可以得到具有优异粘附性和分辨率的点状/条状光致抗蚀剂膜。
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公开(公告)号：CN1705044A
公开(公告)日：2005-12-07
申请号：CN200510073226.5
申请日：2005-06-01
Applicant: 东进世美肯株式会社
CPC classification number: H01J9/02 , H01B1/16 , H01B1/22 , H01J2211/225
Abstract: 本发明提供一种用于PDP寻址电极的无铅的银糊浆组合物，包括：a)60重量％～90重量％的银粉末；b)1重量％～10重量％的无铅无机粘合剂；c)0.001重量％～1重量％的无机增稠剂；和d)5重量％～38重量％的用于细导电粉末分散的碱溶性负型光致抗蚀剂组合物。根据本发明的无铅的银糊浆组合物，1)使用无铅无机粘合剂，它是环境友好的，2)适合于使用现有电极形成方法的精细电极制备，3)可以将形成的图案应用于不高于600℃的低温烧结步骤，4)不使用表面活性剂和稳定剂，使用无机增稠剂和导电银粉末而具有优异的印刷、流平和烧结性能，和5)在没有粘合剂燃除区域的烧结目标温度下进行烧结。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100535746C
公开(公告)日：2009-09-02
申请号：CN200510071268.5
申请日：2005-05-08
Applicant: 东进世美肯株式会社
CPC classification number: G03F7/027 , Y10S430/117 , Y10S430/121 , Y10S430/123 , Y10S430/124 , Y10S430/125
Abstract: 本发明涉及光致抗蚀剂树脂组合物，特别是涉及含有以下物质的光致抗蚀剂树脂组合物：a)具有2个氨基甲酸酯键的丙烯酸酯单体，b)具有至少2个乙烯型双键的氨基甲酸酯系列的交联性单体，c)碱可溶性化合物，d)光聚合引发剂和e)溶剂；还涉及利用所述光致抗蚀剂树脂的感光性干膜抗蚀剂。本发明所述的光致抗蚀剂树脂组合物和利用该光致抗蚀剂树脂组合物的感光性干膜抗蚀剂，其与基材的胶粘性和耐喷砂性优异，同时还具有高分辨率和高感光度，从而可以在基材上形成精细的图案。
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公开(公告)号：CN101432375A
公开(公告)日：2009-05-13
申请号：CN200780015151.2
申请日：2007-04-18
Applicant: 东进世美肯株式会社
IPC: C09D11/02
CPC classification number: C09D11/03 , C09D11/107
Abstract: 本发明提供一种印刷用糊膏组合物，其特征在于包含a)5重量％～30重量％的丙烯酸酯聚合物树脂；b)5重量％～30重量％的交联低聚物；c)0.1重量％～5重量％的光聚合引发剂；和d)50重量％～85重量％的金属粉末。根据本发明的印刷用糊膏组合物特别适合于能够直接形成精细图案的凹版胶印，可以根本性解决在使用现有的光刻法制造用于屏蔽电磁波的筛网过滤器的电极或用于等离子显示面板的电极图案时出现的材料再处理问题，同时，能够满足作为糊膏组合物所需的多种性质，所述性质中的每一种都是印刷过程所需的，从而可发挥适当的胶印性能。
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公开(公告)号：CN101304049A
公开(公告)日：2008-11-12
申请号：CN200810096425.1
申请日：2008-05-09
Applicant: 东进世美肯株式会社
CPC classification number: Y02E10/50 , Y02P70/521
Abstract: 本发明提供太阳能电池的电极形成用浆料，所述浆料具有下述优点：其在电极的机械强度以及与基材的密合性方面优异，并且能够充分达成太阳能电池所要求的背面电场(BSF)效果，能够抑制烧制后基材的弯曲现象，能够提高太阳能电池的效率，特别是适于高温/高速烧制、量产性优异。本发明的太阳能电池的电极形成用浆料的特征在于，其含有：a)60～75重量份的振实密度至少为1.28g/cc以上的铝粉；b)1～5重量份的玻璃粉；以及c)20～38重量份的有机载体。
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公开(公告)号：CN101281371A
公开(公告)日：2008-10-08
申请号：CN200810090144.5
申请日：2008-04-07
Applicant: 东进世美肯株式会社
Abstract: 本发明涉及等离子体显示屏障壁形成用光敏性糊剂组合物和等离子体显示屏障壁形成方法。本发明提供如下PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物，该组合物适合于利用紫外线照射的光刻法，并且其不仅能够利用一次光刻工序形成厚障壁并使障壁不损坏且具有优异的烧制外形，而且能够实现高强度和高分辨率，并确保烧制裕度，从而能够形成安全的障壁图案。本发明特别是涉及含有无机成分以及光敏性有机成分的PDP障壁形成用光敏性糊剂组合物，所述无机成分含有玻璃粉末和填料，所述组合物的特征在于，所述填料包含至少70重量％的α－石英。
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公开(公告)号：CN1693991A
公开(公告)日：2005-11-09
申请号：CN200510071268.5
申请日：2005-05-08
Applicant: 东进世美肯株式会社
CPC classification number: G03F7/027 , Y10S430/117 , Y10S430/121 , Y10S430/123 , Y10S430/124 , Y10S430/125
Abstract: 本发明涉及光致抗蚀剂树脂组合物，特别是涉及含有以下物质的光致抗蚀剂树脂组合物：a)具有2个氨基甲酸酯键的丙烯酸酯单体，b)具有至少2个乙烯型双键的氨基甲酸酯系列的交联性单体，c)碱可溶性化合物，d)光聚合引发剂和e)溶剂；还涉及利用所述光致抗蚀剂树脂的感光性干膜抗蚀剂。本发明所述的光致抗蚀剂树脂组合物和利用该光致抗蚀剂树脂组合物的感光性干膜抗蚀剂，其与基材的胶粘性和耐喷砂性优异，同时还具有高分辨率和高感光度，从而可以在基材上形成精细的图案。
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