减少二进制字中“1”值位数的数据处理系统和方法

    公开(公告)号:CN1096035C

    公开(公告)日:2002-12-11

    申请号:CN96122715.X

    申请日:1996-09-25

    Inventor: 金泰成

    CPC classification number: G06F7/5332

    Abstract: 在一种数据处理系统中,将预定位数的第3二进制字表示成第1和第2二进制字,先存贮与第3二进制字相同的第1二进制字和具有该预定位数的零位的第2二进制字,再从第3二进制字的最低有效位开始,检索在其中二进制“1”值的连续幂次位对,然后将每个第1和第2二进制字增加2的检出的连续幂次位对的最低次幂的乘方值,最好,对在第3二进制字中存在的其它二进制“1”值的较高位的连续幂次位对重复进行检索和增值的步骤。

    包括贯通孔结构的半导体器件
    17.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115132698A

    公开(公告)日:2022-09-30

    申请号:CN202210063164.3

    申请日:2022-01-19

    Abstract: 可以提供一种半导体器件,包括:半导体衬底;集成电路层,在半导体衬底上;第一至第n金属布线层(其中n为正整数),顺序堆叠在半导体衬底和集成电路层上;第一贯通孔结构,沿竖直方向从第一过孔连接金属布线层向半导体衬底延伸并穿过半导体衬底,该第一过孔连接金属布线层是除第一金属布线层之外的第二至第n金属布线层之一;以及第二贯通孔结构,与第一贯通孔结构分开,沿竖直方向从第二过孔连接金属布线层向半导体衬底延伸并穿过半导体衬底,该第二过孔连接金属布线层是除第一金属布线层之外的第二至第n金属布线层之一。

    制造半导体装置的方法
    18.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112018028A

    公开(公告)日:2020-12-01

    申请号:CN202010078912.6

    申请日:2020-02-03

    Abstract: 公开了制造半导体装置的方法。所述方法可以包括形成包括金属图案的第一结构和在第一结构上的第二结构。金属图案包括面对第二结构的上表面。所述方法还可以包括:蚀刻第二结构以形成暴露金属图案的过孔;使过孔中的第一蚀刻残余物氧化以将第一蚀刻残余物转化为氧化的第一蚀刻残余物;以及去除氧化的第一蚀刻残余物。在去除氧化的第一蚀刻残余物之后,金属图案的上表面可以包括包含凹槽并具有第一表面粗糙度的第一部分和与第一部分不同并具有第二表面粗糙度的第二部分。第一表面粗糙度可以比第二表面粗糙度大。

    一次可编程存储器及其数据写入方法

    公开(公告)号:CN107123443B

    公开(公告)日:2020-10-27

    申请号:CN201710067659.2

    申请日:2017-02-07

    Inventor: 金泰成 郑铉泽

    Abstract: 一种一次可编程存储器及其数据写入方法。所述一次可编程(OTP)存储器包括:OTP单元阵列,包括设置在多条字线和多条位线彼此交叉的位置处的多个OTP单元;写入电路,被配置为通过一次选择所述多条位线中的一条位线和对连接到选择的位线的选择的OTP单元进行编程来对所述多个OTP单元进行编程,其中,写入电路还被配置为检测选择的位线的电压电平,并当检测的电压电平指示选择的OTP单元处于已编程状态时选择另一位线。

    半导体器件、半导体封装件和制造半导体器件的方法

    公开(公告)号:CN110610923A

    公开(公告)日:2019-12-24

    申请号:CN201910504531.7

    申请日:2019-06-12

    Inventor: 洪义官 金泰成

    Abstract: 提供了一种半导体器件、一种半导体封装件和一种制造半导体器件的方法。所述半导体器件包括:第一结构,所述第一结构包括第一导电图案,所述第一导电图案在所述第一结构的上部被暴露;模制层,所述模制层覆盖所述第一导电图案;第二结构,所述第二结构位于所述模制层上;以及贯穿通路,所述贯穿通路穿过所述第二结构和所述模制层,所述贯穿通路电连接到所述第一导电图案,所述贯穿通路包括位于所述第二结构中的第一通路部分和位于所述模制层中的第二通路部分,所述第二通路部分连接到所述第一通路部分,所述第二通路部分的上部具有第一宽度,所述第二通路部分的中间部分具有大于所述第一宽度的第二宽度。

Patent Agency Ranking