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公开(公告)号:CN214505493U
公开(公告)日:2021-10-26
申请号:CN202120937988.X
申请日:2021-04-30
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L27/11521 , H01L27/11526 , H01L27/11551 , H01L27/11565 , H01L27/11568 , H01L27/11573 , H01L27/11578
Abstract: 提供了三维半导体存储器装置。所述三维半导体存储器装置可以包括:第一基底,包括位线连接区和字线连接区;单元阵列结构,位于第一基底上;第二基底,包括第一核心区和第二核心区,第一核心区与位线连接区叠置,第二核心区与字线连接区叠置;以及外围电路结构,位于第二基底上。因此,三维半导体存储器装置具有改善的可靠性和增大的集成密度。