公开(公告)号：CN1224728A

公开(公告)日：1999-08-04

申请号：CN98125176.5

申请日：1998-12-02

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 崔相俊 ,  姜律 ,  郑东垣 ,  朴春根

IPC: C08F222/06 ,  G03F7/027

CPC classification number: G03F7/0045 ,  C08F220/18 ,  C08F222/06 ,  G03F7/039

Abstract: 本发明提供了一种应用于化学放大抗蚀剂的光敏聚合物。光敏聚合物为式(Ⅰ):其中R1选自氢和C1至C20脂烃,n为整数。特别地,R1选自甲基、乙基、正丁基和环己基或R1选自含C7至C20脂环脂烃,如金刚烷基、降冰片基和异冰片基。本发明还提供了包含光酸引发剂和聚合物的化学放大抗蚀组合物。聚合物为式(Ⅱ):其中R1选自氢和C1至C20脂烃;R2选自氢或甲基;R3选自叔丁基或四氢吡喃基;n和m各自为整数,其中n/(m+n)比例为0.1至0.5。本发明化学放大抗蚀组合物对干蚀工艺具有强的抗蚀性,对膜材料具有优良的粘合性,可利用常规显影剂显影。

公开(公告)号：CN1083938A

公开(公告)日：1994-03-16

申请号：CN93117375.2

申请日：1993-09-09

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴春根 ,  李重泫 ,  韩宇声

IPC: G03F7/00 ,  H01L21/312

CPC classification number: G03F7/0233 ,  G03F7/0045

Abstract: 本发明涉及含有结构A的酚醛清漆基树脂和结构B的聚乙烯基酚基树脂的光抗蚀剂组合物，和使用该光抗蚀剂组合物产生图形的方法，由此获得具有很好轮廓和尺寸为0.25μm的图形和满意地保持图形尺寸间的线性。