一种利用微弧氧化在镁合金表面制备低太阳吸收率高发射率涂层的方法

    公开(公告)号:CN104532324A

    公开(公告)日:2015-04-22

    申请号:CN201410822035.3

    申请日:2014-12-25

    CPC classification number: C25D11/30

    Abstract: 一种利用微弧氧化在镁合金表面制备低太阳吸收率高发射率涂层的方法,它涉及一种镁合金功能化热控涂层的制备方法。本发明的目的是要解决现有应用于航天器的铝合金材料重量大,镁合金热控涂层吸收率高和镁合金基体与热控涂层高结合力低的问题。制备方法:首先对镁合金进行处理,然后采用脉冲微弧氧化电源进行微弧氧化,即完成利用微弧氧化在镁合金表面制备低太阳吸收率高发射率涂层的方法。本发明在镁合金表面制备的低太阳吸收率高发射率涂层厚度达到30μm~120μm,太阳吸收率为0.2~0.4,发射率为0.85~0.95,粗糙度为1μm~10μm。本发明可获得一种利用微弧氧化在镁合金表面制备低太阳吸收率高发射率涂层的方法。

    一种在镁锂合金表面原位生长的低太阳吸收比高红外辐射率陶瓷热控涂层的制备方法

    公开(公告)号:CN104233432A

    公开(公告)日:2014-12-24

    申请号:CN201410513165.9

    申请日:2014-09-29

    Abstract: 一种在镁锂合金表面原位生长的低太阳吸收比高红外辐射率陶瓷热控涂层的制备方法,它涉及一种镁锂合金功能化热控涂层的制备方法。本发明的目的是要解决现有镁锂合金自身存在低红外辐射率,不能应用在热控系统中的问题。步骤:一、镁锂合金前处理;二、微弧氧化,得到在镁锂合金表面原位生长的低太阳吸收比高红外辐射率陶瓷热控涂层。本发明制备的涂层与基体结合良好,抗热震性能好,太阳吸收比为0.22~0.40,辐射率达0.9~0.97。本发明拓宽了镁锂合金在空间领域的应用范围,而其重量相比于铝基涂层减少30%~40%。本发明可获得一种在镁锂合金表面原位生长的低太阳吸收比高红外辐射率陶瓷热控涂层的制备方法。

    一种同轴电缆结构MWCNT/Fe3O4/ZnO/PANI微波吸收剂的制备方法

    公开(公告)号:CN103113580B

    公开(公告)日:2014-10-15

    申请号:CN201310078376.X

    申请日:2013-03-12

    Abstract: 一种同轴电缆结构MWCNT/Fe3O4/ZnO/PANI微波吸收剂的制备方法,它涉及一种微波吸收剂的制备方法。本发明是要解决现有方法制备的吸波材料由于只限于二元和三元,与基体结合力不够好,而导致吸波效果不好的问题,制备方法为:一、制备MWCNT/Fe3O4纳米材料;二、制备MWCNT/Fe3O4/ZnO复合粉体;三、制备复合物水溶液;四、制备过硫酸铵水溶液,然后滴加到复合物水溶液中,再在0~25℃的条件下恒温反应,然后进行磁分离,收集固相物,再干燥,得到同轴电缆结构MWCNT/Fe3O4/ZnO/PANI微波吸收剂,即完成本发明的制备方法。本发明应用于微波吸收材料领域。

    一种钛合金TC4表面低太阳吸收率高发射率涂层的制备方法

    公开(公告)号:CN104005073A

    公开(公告)日:2014-08-27

    申请号:CN201410255650.0

    申请日:2014-06-10

    Abstract: 一种钛合金TC4表面低太阳吸收率高发射率涂层的制备方法,它涉及一种钛合金TC4表面陶瓷膜层的制备方法。本发明的目的是要解决现有方法制备的钛合金热控涂层存在太阳吸收率高,发射率低,成本高,对复杂形状的表面难获得均匀的涂层,工艺复杂和涂层与基体结合度弱的问题。制备方法:一、钛合金TC4前处理;二、微弧氧化。本发明制备的涂层粗糙度为4.056μm~13.66μm,涂层厚度达到68.1μm~200μm,且厚度可调,由于是原位生长,故具有结合力好,并且在强酸性的锆酸盐体系的工艺条件下膜层的发射率大于0.96,吸收率小于0.32。本发明可获得一种钛合金TC4表面低太阳吸收率高发射率涂层的制备方法。

    一种光催化剂制氢性能评价的多通道反应简易装置及采用其进行制氢性能评价的方法

    公开(公告)号:CN101900710B

    公开(公告)日:2013-02-13

    申请号:CN201010219514.8

    申请日:2010-07-07

    Abstract: 一种光催化剂制氢性能评价的多通道反应简易装置及采用其进行制氢性能评价的方法,它涉及光催化剂制氢性能评价装置及评价方法。解决现有光催化制氢性能评价多通道反应装置结构复杂,组装费时,成本高和不易实现的问题。本发明装置由光源和均匀分布在光源周围的4~8个反应系统组成,反应系统由由反应器、储气装置、气路循环装置、阀和连接以上各部件的胶管组成的密闭循环回路和磁力搅拌器组成。评价方法:将反应系统组装好,开启光源,启动气路循环系统,然后定期取气检测即可。本发明装置简单,组装简易,可操作性强,零部件成本低,占地少,节约空间。采用本发明装置进行光催化制氢性能评价的检测结果可信,同组实验数据的可比性强。

    铝合金表面高耐磨减摩自润滑复合膜层的制备方法

    公开(公告)号:CN101307477B

    公开(公告)日:2012-05-23

    申请号:CN200810063913.2

    申请日:2008-01-25

    Abstract: 铝合金表面高耐磨减摩自润滑复合膜层的制备方法,它涉及铝合金表面复合膜层的制备方法,它解决了现有的铝合金易磨损,自闰滑工艺在铝合金表面生成的膜层较薄、显微硬度低、耐磨性能低的缺点。步骤如下:一、将去掉氧化膜的铝合金置于电解液中,控制电解液的温度为15~40℃;接通电源,调整峰值电压在-200~600V之间、正负相电流密度值为2~40A/dm2,频率为50~200Hz,通电反应5~200min;取出清洗,自然干燥或在80~100℃下烘干;二、再将铝合金置于聚四氟乙烯乳液中,在真空度为0.03Pa~0.1MPa的环境下进行真空抽吸10~60min,然后在100~260℃下烘干,烘干时间为2~6h;烘干后取出自然冷却。本发明的复合膜层具有厚度厚、硬度高、耐磨损、摩擦系数低和优异的自润滑性能。

    一种镁合金表面微弧氧化/喷涂复合膜的制备方法

    公开(公告)号:CN101871119B

    公开(公告)日:2012-01-18

    申请号:CN201010238437.0

    申请日:2010-07-28

    Abstract: 一种镁合金表面微弧氧化/喷涂复合膜的制备方法,它涉及一种镁合金表面复合膜的制备方法。解决现有镁合金表面处理方法中化学转化膜、阳极氧化、气相沉积得到的膜层薄,耐腐蚀性能差;离子注入成本高,难以实现大面积加工;涂层与镁合金结合力差,有机涂层易老化的问题。制备方法:首先利用微弧氧化在镁合金表面制备陶瓷膜,然后采用空气喷涂将无机涂料喷涂至陶瓷膜上,再热处理即得微弧氧化/喷涂复合膜。方法简单,成本低,空气喷涂利用微弧氧化陶瓷膜的多孔结构,使无机涂料层与陶瓷膜结合牢固;复合膜厚度在20~40μm,自腐蚀电位正移至-1.02V,腐蚀电流密度比镁合金降低5个数量级,盐雾实验72~144h后完好无损,耐蚀性好。

    锡铝合金表面原位生长耐磨减摩陶瓷膜层的方法

    公开(公告)号:CN101220494B

    公开(公告)日:2011-01-19

    申请号:CN200810063914.7

    申请日:2008-01-25

    Abstract: 锡铝合金表面原位生长耐磨减摩陶瓷膜层的方法,它涉及锡铝合金表面制备陶瓷膜层的方法,它解决了锡铝合金存在的耐磨性差的缺点。它的步骤如下:一、将2~12g/L的硅酸钠和0~2g/L的氟化钠溶于蒸馏水中制成电解液;二、将去掉氧化膜的锡铝合金置于电解液作为阳极,不锈钢板作为阴极,控制电解液的温度为15~40℃;接通电源,调整峰值电压在-200~600V之间、正负相电流密度值为8~30A/dm2,频率为50~200Hz,恒流条件下通电反应时间为5~40min;三、取出后用水冲净表面,自然干燥或在80~100℃下烘干。本发明的陶瓷膜层具有耐磨、减摩、耐腐蚀、耐热及电绝缘性能,陶瓷膜均匀性好,陶瓷膜是在基体上原位生长,与基体结合强度高的优点。

    一种TC4基体纳米二氧化钛薄膜光催化剂热处理表面改性方法

    公开(公告)号:CN101837289A

    公开(公告)日:2010-09-22

    申请号:CN201010213904.4

    申请日:2010-06-30

    CPC classification number: Y02E60/364

    Abstract: 一种TC4基体纳米二氧化钛薄膜光催化剂热处理表面改性方法,涉及一种纳米二氧化钛薄膜光催化剂的表面改性方法。本发明解决了现有固定化二氧化钛光催化剂的催化活性低的问题。本发明的方法:首先利用阳极氧化方法在TC4钛合金上制备纳米二氧化钛薄膜;然后把纳米二氧化钛薄膜放入管式炉中,加热至300~600℃,保温1~3h,再随炉冷却即可。本发明的方法成功地制备了Ti和V复合氧化物,得到的改性纳米二氧化钛光催化剂的光催化制氢的产氢速率是没有进行热处理的二氧化钛薄膜的产氢速率的1.18倍,光催化制氢性能提高。

    一种钛合金基体上耐高温高发射率涂层的制备方法

    公开(公告)号:CN101748465A

    公开(公告)日:2010-06-23

    申请号:CN200910312880.5

    申请日:2009-12-31

    Abstract: 一种钛合金基体上耐高温高发射率涂层的制备方法,它涉及钛合金基体上涂层的制备方法,解决现有钛合金表面高发射率涂层结合力低、热震性能差的问题。方法如下:一、将钛合金打磨、清洗;二、将主盐、分散剂和添加剂配成胶体电解液;三、将钛合金置于装有电解液的不锈钢槽体中,以钛合金做阳极、槽体为阴极,在脉冲微弧氧化电源的作用下,在钛合金基体上制得耐高温高发射率涂层。本发明制得的涂层在700℃条件下的发射率为0.8~1.0,涂层与基体结合力好,其拉伸强度≥30MPa,剪切强度为15MPa~25MPa,在测试条件为700℃到室温的热震循环100次涂层不脱落,可以应用于高超声速飞行器的外蒙皮的热防护层。

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