光掩膜基板的制造方法

    公开(公告)号:CN1955840B

    公开(公告)日:2012-02-01

    申请号:CN200610136330.9

    申请日:2006-10-16

    Abstract: 一种具有最基本结构的基座(11),具有包括第一和第二透明石英部分(11a)以及夹在它们之间的不透明石英部分(11b)的三层结构。例如,不透明石英部分(11b)由“泡沫石英”制成。另外,考虑在衬底(10)上所形成的薄膜的组分或厚度以及在闪光照射期间关于照射光能量的各种条件等,将不透明石英部分(11b)对闪光的不透明度确定在基于不透明石英部分(11b)材料或厚度的适当范围内。叠置结构可以包括具有不同透明度的多个不透明石英层的叠置。

    相位偏移光掩模坯料、相位偏移光掩模及其制造方法

    公开(公告)号:CN1862377A

    公开(公告)日:2006-11-15

    申请号:CN200610076905.2

    申请日:2006-04-25

    CPC classification number: G03F1/32 Y10T428/31616

    Abstract: 在对曝光光线透明的基板(1)上设置层合2层由金属硅化物的化合物(2a、2b)组成的层的相位偏移多层膜(2)。而且,在表面侧的金属硅化物的化合物(2b)表面上形成氧化稳定化层(2c)。相位偏移多层膜(2)中基板侧(下面)的层(2a)是金属组成相对高的金属硅化物的化合物,上面的层(2b)是金属组成相对低的金属硅化物的化合物。氧化稳定化层(2c)的金属含量为下面的层(2a)的金属含量的1/3或1/3以下(摩尔比),为低金属组成,化学稳定性优异,显示高耐药品性。下面的层(2a)由具有较高金属含量的金属硅化物的化合物膜构成,因此,容易控制相位偏移多层膜的光学特性,能得到所希望的光学特性。

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