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公开(公告)号：CN115996515B
公开(公告)日：2023-07-11
申请号：CN202310277812.X
申请日：2023-03-21
Abstract: 本申请涉及一种电路板和转接器。电路板包括基板、接口组和连接器。基板包括堆叠设置的布线层、第一接地层和第二接地层；所述布线层包括上布线层和下布线层；所述第一接地层和所述第二接地层设置于所述上布线层和所述下布线层之间；所述第一接地层靠近所述上布线层设置；所述第二接地层靠近所述下布线层设置；所述第一接地层与所述第二接地层共用接地端；接口组设置于所述上布线层，用于与输入设备和输出设备连接；所述接口组包括多个与所述布线层电连接的信号接口；连接器设置于所述下布线层，用于与处理器连接；所述连接器与所述布线层电连接；所述信号接口通过所述布线层与所述连接器电连接。
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公开(公告)号：CN116382043A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202310399542.X
申请日：2023-04-14
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请涉及一种激光直写系统刻写方法、装置及计算机设备。所述激光直写系统包括图像传感模块、振镜、位移台，所述方法包括：确定所述位移台移动的第一距离与所述图像传感模块像素点对应移动的第二距离之间的第一关系；基于所述第一关系和预设系数确定振镜电压与刻写长度的第二关系；基于所述第二关系对待刻写文件进行刻写。本申请通过确定振镜电压与刻写长度的第二关系，可以在刻写前直接确定当前刻写环境中的最佳系统参数，根据需要刻写的长度精确控制振镜电压，有效提高实际刻写长度的精确度，解决了多视场刻写可能存在的拼接错位问题，无论是在单视场范围内刻写还是大面积刻写的应用场景都能够有效提高刻写准确率，进而提高刻写成功率。
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公开(公告)号：CN116309073A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310320880.X
申请日：2023-03-24
IPC: G06T3/40 , G06N3/0455 , G06N3/0464 , G06N3/048 , G06N3/08
Abstract: 一种基于深度学习的低对比度条纹SIM重建方法，包括：首先制作低对比度条纹SIM图像训练数据集；然后构建并训练低对比度SIM超分辨神经网络；最后实现低对比度条纹SIM实验数据的超分辨重建。本发明还包括一种基于深度学习的低对比度条纹SIM重建系统。本发明可以在低对比度照明条纹的情况下，实现高质量和高分辨SIM图像重建。克服了传统SIM技术对照明条纹对比度的依赖，大大扩展其应用范围；本发明所需的低对比度条纹SIM图像训练集可以通过仿真得到，无需实验获取，大大降低了训练集的制作难度；本发明不增加任何系统复杂度，可基于任何已有SIM系统实现，具有广泛的应用范围。
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公开(公告)号：CN116086774A
公开(公告)日：2023-05-09
申请号：CN202310011310.2
申请日：2023-01-05
IPC: G01M11/02
Abstract: 本申请涉及一种二维环形光斑的质量检测方法、装置和存储介质，其中，该二维环形光斑的质量检测方法包括：获取待检测的二维环形光斑的光强信息；根据光强信息确定二维环形光斑在检测线上的光强变化趋势，检测线包括自二维环形光斑的圆心向一侧延伸的射线；根据光强变化趋势确定二维环形光斑的质量。通过本申请，首先获取待检测的二维环形光斑的光强信息，然后确定二维环形光斑在至少一条检测线上的光强变化趋势。二维环形光斑内侧的光强降低速率越快，则其质量越好，也就越适合作为抑制光。解决了相关技术中存在无法有效地筛选出刻写效果好的二维环形光斑的问题。
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公开(公告)号：CN112904526B
公开(公告)日：2023-03-28
申请号：CN202110082908.1
申请日：2021-01-21
Abstract: 本发明提出一种基于差动共焦探测具有抗噪能力的高精度自动对焦方法及装置，该方法包括：产生对焦光束，经由凹透镜和电控变焦透镜组成的透镜组，与光学系统工作光束合束；对焦光束经对焦对象中的对焦平面反射，由原光路返回，再由分束镜反射入差分共焦探测机构进行光强测量；在测量过程中，对电控变焦透镜偏置高频周期性变化信号，将差分共焦探测机构测量到的静态差分信号转换为具有抗噪性能的动态差动信号；根据差动信号变化，产生反馈调整信号，自动补偿离焦量，实现自动对焦。本发明将静态光强信号差分共焦探测转化为动态光强信号差动共焦探测。通过此方法减少了系统的随机误差，提高了系统的抗噪性能，进一步增加了对焦精度。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114460731B
公开(公告)日：2023-03-17
申请号：CN202210080472.7
申请日：2022-01-24
Applicant: 浙江大学
Abstract: 本发明公开一种基于DMD的多色结构光照明超分辨显微成像方法，DMD作为数字闪耀光栅对不同波长的激光进行衍射，傅里叶滤波产生的正负一级衍射光经过精确的偏振调制后在待测荧光样品表面干涉生成高对比度的条纹照明图案，通过DMD加载不同方向和相位的条纹图案快速地对干涉条纹进行方向旋转和相位移动，对获得的多幅原始荧光强度图像进行重构得到超分辨显微图像。本发明还公开了基于DMD的多色结构光照明超分辨显微成像装置，用振镜快速切换不同的激光波长选通或截止进入到不同的方芯多模光纤内，通过调节方芯多模光纤输出端进行各波长入射角度的对准，从而保证各波长对应的闪耀级次落在同一位置以便于傅里叶滤波。装置复杂度低，灵活度、稳定性、可扩展性高，同时采用模块化设计使系统可扩展应用于三维干涉型结构光照明显微技术和投影型结构光照明显微技术的成像研究。
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公开(公告)号：CN115598820A
公开(公告)日：2023-01-13
申请号：CN202211110919.7
申请日：2022-09-13
Applicant: 浙江大学(CN)
Abstract: 本发明公开一种双物镜三维结构光照明超分辨显微成像方法，照明激光光束分为可快速改变方向的多束激发光；多束激发光分为等光强的两部分，经过两个上下两个物镜后在样品平面发生干涉，形成调制照明的条纹图样；样品在照明调制情况下产生的荧光被双物镜接收经过分束和相位延迟后在探测器平面形成四幅相位差依次为Π/2的图像；依次旋转结构光照明图样的干涉条纹的方向，在不同条纹方向下多次改变干涉条纹的相位，得到各干涉条纹方向不同对应相位下的多幅荧光强度图像；将采集到的四幅子图进行配准并相加，利用不同干涉条纹方向和相位的产生的荧光强度图像重构出一幅结构光超分辨显微图像。本发明还公开一种双物镜三维结构光照明超分辨显微成像装置。
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公开(公告)号：CN115236936B
公开(公告)日：2022-12-06
申请号：CN202211155652.3
申请日：2022-09-22
Abstract: 本发明公开了一种飞秒激光固化交联的聚酰胺酸光刻胶及其制备方法、使用方法和应用，按重量份数计，由以下组分组成：5‑30份的二酐和二胺的合计、5‑30份的丙烯酸酯类固化交联剂、0.5‑5份的双光子自由基引发剂和0.5‑5份的光酸剂。本发明通过在聚酰胺酸飞秒激光光刻胶中加入丙烯酸类树脂作为固化交联剂，在光刻过程中形成图案化，同时加入聚酰胺酸作为成膜剂并保留了聚酰亚胺光刻胶良好的性能，既不需要复杂的化学合成，又获得了良好的光刻胶性能。
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公开(公告)号：CN115236936A
公开(公告)日：2022-10-25
申请号：CN202211155652.3
申请日：2022-09-22
Abstract: 本发明公开了一种飞秒激光固化交联的聚酰胺酸光刻胶及其制备方法、使用方法和应用，按重量份数计，由以下组分组成：5‑30份的二酐和二胺的合计、5‑30份的丙烯酸酯类固化交联剂、0.5‑5份的双光子自由基引发剂和0.5‑5份的光酸剂。本发明通过在聚酰胺酸飞秒激光光刻胶中加入丙烯酸类树脂作为固化交联剂，在光刻过程中形成图案化，同时加入聚酰胺酸作为成膜剂并保留了聚酰亚胺光刻胶良好的性能，既不需要复杂的化学合成，又获得了良好的光刻胶性能。
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公开(公告)号：CN114527629B
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN202210417713.2
申请日：2022-04-21
Abstract: 本发明公开了一种基于双暗斑联合抑制的超分辨光刻方法及光刻胶，该方法基于边缘光抑制纳米刻写技术，通过双抑制光斑的结合实现在保证最大抑制强度不变的前提下压缩暗斑抑制区域，一定程度解决由抑制光过强引起刻写线宽变粗的难题，实现等效刻写光斑的压缩，从而进一步缩小纳米刻写线宽。利用本发明的方法可以实现更高精度的纳米加工能力，可为微机械、微光学、微流控等领域提供更高精度的加工手段。
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