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公开(公告)号：CN118443630A
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202410547879.5
申请日：2024-05-06
Applicant: 浙江大学
IPC: G01N21/63 , G06T3/4053 , G01N21/64
Abstract: 本发明公开了一种基于频域调制的去背景噪声方法和装置，涉及超分辨技术领域，两个激光器发出的两种光束同时照射到待测样品表面，其中一束光通过0～2π涡旋位相板后在待测样品上聚焦形成高能量的空心光斑；另一束仍为低能量的实心光斑；采用电光调制器对两束激光同时进行时间调制，并采用锁相放大器解调出不同频率下的信号光，后期通过差分处理去除背景噪声，用于实现高信噪比超分辨图像。本发明装置简单，操作方便；利用对两束光同时进行时间域调制，将获得的信号在频域上进行处理，有效且量化地去除未损耗完全的荧光信号和二次激发背景信号。
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公开(公告)号：CN116540504B
公开(公告)日：2024-04-26
申请号：CN202310807886.X
申请日：2023-07-04
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种基于连续谱光源的可变波长超分辨激光直写光刻系统，属于超精密光学成像与刻写技术领域，包括光源与刻写模块，其中光源为连续谱光源；光源与刻写模块之间还设有用于形成多个分光路的分光模块、设于相应分光路上的光束调节组件，以及用于将多个分光路汇合为刻写光束组合的合束模块；光束调节组件包括滤波模块，和能量调节模块或波相差调节模块中的一种或串联设置的两种组合。与现有技术相比，本发明提供一种多路单独滤波及调制的光源调制光路，可同时实现多通道不同波长的光束调制，多光束可互相配合，通过不同轴汇合或同轴重合方式，实现多通道超分辨光刻或基于边缘抑制的超分辨光刻。
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公开(公告)号：CN114442257B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202210087665.5
申请日：2022-01-25
Abstract: 本发明公开了一种大范围高精度光束焦面跟踪装置，入射光束首先依次经过所述二分之一波片、偏振分束镜和四分之一波片，形成第一光束；第一光束经过所述物镜聚焦在样品表面，而聚焦在样品表面的激光被样品表面反射，依次经过物镜与四分之一波片后，被偏振分束镜反射到另一侧，形成第二光束；第二光束经过非偏振分束镜分解为第三光束与第四光束；第三光束经过所述第一柱面镜和第二柱面镜后，入射到所述四象限探测器的探测面上；第四光束经过所述透镜和针孔后，入射到所述光电倍增管探测器的探测面上。本发明与现有焦面跟踪装置相比，既可以保证高精度，又极大的扩展了焦面跟踪的范围。
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公开(公告)号：CN116481983B
公开(公告)日：2024-03-22
申请号：CN202310461722.6
申请日：2023-04-26
IPC: G01N15/0227 , G01N15/0205 , G01N21/45 , G01N21/85 , G02B21/00 , G02B21/06 , G02B21/18 , G02B21/36
Abstract: 一种基于偏振照明的同轴干涉散射显微成像装置，包括连续激光器、多个透镜、空间滤波器、波片、一个偏振分束镜、功率计、物镜、样品台、和多个反射镜，连续激光器的激光经一组透镜扩束准直并空间滤波后进入1/2波片，进行偏振方向调节。调节后的偏振光进入偏振分束棱镜将激光分为P光与S光，S光经物镜后宽场照明样品，颗粒散射光与反射光经物镜收集后进入偏振分束棱镜，该S光在偏振分束棱镜出射口形成部分正交偏振。本发明还提供一种基于偏振照明的同轴干涉散射显微成像装置的成像方法。本发明通过S光偏振照明并结合正交偏振原理，有效抑制背景反射光，提高了信号对比度；同时，结合干涉散射显微成像信号增强的优势，实现对样品表面小尺寸颗粒极弱信号的高信噪比检测。
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公开(公告)号：CN113985708B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202111247035.1
申请日：2021-10-26
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种可连续像旋转调制的超分辨高速并行激光直写方法与装置。本发明利用空间光调制器产生多束刻写光与多束抑制光，抑制光与刻写光在空间上重合形成调制后的多光束。利用像旋转器对调制后的多光束排布方向进行旋转，使得多光束排布方向与转镜扫描方向连续可调，实现了五种不同的高速扫描策略。本发明通过引入抑制光，相较于现有双光子并行激光直写具有更高的分辨率。并通过不同的扫描策略，解决了现有系统由于扫描策略单一导致扫描效果与扫描速度不佳的问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117369222A
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202311672579.1
申请日：2023-12-07
Applicant: 浙江大学杭州国际科创中心
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种极紫外物镜装调全息图的制备系统和制备方法。本发明极紫外物镜装调全息图的制备系统通过光纤阵列结构的设计可以实现高通量，同一时间由于光纤阵列中有多根光纤，所以通量是常规刻写的多倍。本发明通过光纤阵列的设计，可以实现高通量刻写，提高刻写效率，同时能够生产出亚波长纳米结构的大面积计算全息片（CGH），进一步降低了计算全息片的特征线宽，线宽可以达到nm级别，采用亚波长纳米结构的大面积计算全息片，解决了现有极紫外光刻物镜系统中，非球面面形高精度检测需求。
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公开(公告)号：CN114019764B
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202111240495.1
申请日：2021-10-25
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种超分辨激光直写与成像方法与装置，该装置包括三个光源，分别为引发光刻胶产生聚合反应的激发光光源，激发光刻胶中发光的荧光染料分子从基态到激发态的激发光，抑制光刻胶聚合并同时使荧光染料分子产生受激辐射的抑制光光源或损耗光光源，抑制光与损耗光为同一个光源。其中，引发光刻胶聚合的激发光经过准直最后通过物镜在样品面上汇聚成圆形实心光斑；抑制光经过准直后，再通过相位掩膜调制相位，最后由物镜汇聚到样品面上形成环形空心光斑；光刻胶中荧光染料的激发光经过准直最后通过物镜在样品面上汇聚形成圆形实心光斑。本发明可以实现纳米结构刻写完成后直接的光学成像，无需进行电镜成像，使操作更为简单。
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公开(公告)号：CN113917761B
公开(公告)日：2024-01-02
申请号：CN202111114356.4
申请日：2021-09-23
Abstract: 本发明公开了一种基于角度无惯性反馈校正的光束稳定装置，该装置包括反射镜、中空回射器、纳米位移台、三角棱镜、声光偏转器、分束镜、透镜、位置探测器和控制器等部件。本发明利用了基于声光偏转器的非机械式的控制方法替代以往系统中机械控制方式，避免惯性误差的影响，减小环境噪声的干扰。并且利用了声光偏转器的高响应频率(可以达到1MHz以上)的优势，实现快速、高精度的光束角度漂移校正。利用本发明方法与装置调整得到的稳定光束，可以广泛用于超分辨显微成像系统和高精度激光直写光刻系统。
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公开(公告)号：CN116879326B
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202311146883.2
申请日：2023-09-07
Applicant: 浙江大学杭州国际科创中心
IPC: G01N23/041 , G01N23/083
Abstract: 本发明公开一种基于多频条纹的X射线光学相衬成像系统及方法，系统包括：光源聚焦模块，X射线产生装置产生X射线被聚焦装置收集并聚焦；相位光栅模块包括第一光栅、第二光栅及第三光栅，相互平行，并且结构相同、厚度相同及光栅周期相同；探测器模块包括闪烁体、成像模块及图像采集模块，闪烁体接收不同频率的摩尔条纹，通过闪烁体表面成像以形成不同频率的摩尔条纹分布图像，图像采集模块采集摩尔条纹图像；处理模块进行分解，得到吸收衬度图像、暗场衬度图像及微分相位衬度图像。通过本方法解决了传统泰伯劳三光栅X射线光学相衬成像系统的光子利用率低、光源相干性差导致成像灵敏度低等问题；同时能够在成像速度快的同时得到质量(56)对比文件Siwei Tao等.Image Quality Improvementin Sparse-View X-Ray Phase-ContrastTrimodal CBCT With Multifrequency FringeModulation and Iterative Methods《.IEEETRANSACTIONS ON RADIATION AND PLASMAMEDICAL SCIENCES》.2023,第7卷(第6期),第650-661页.李冀等.基于级联光栅的 Ｘ 射线相衬成像实验研究《.光子学报》.2019,第48卷(第1期),第1-5页.
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公开(公告)号：CN117055302A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202311111879.2
申请日：2023-08-31
Abstract: 本发明涉及一种激光直写装置及激光直写方法，包括线光输出单元、第一反射镜、转动单元和调制面，所述线光输出单元对所述第一反射镜入射线形光，所述第一反射镜将线形光反射至所述调制面上，所述第一反射镜通过所述转动单元相对所述线光输出单元和所述调制面转动设置。本发明采用线形光对光刻胶进行直写，仅需要第一反射镜依靠转动单元在单个平面内转动即可，既不需要平移，也不需要在其他平面内转动，第一反射镜所需活动自由度明显下降，对应的线形光在调制面上仅需要在一个维度上进行移动扫描即可，降低了直写过程所需自由度，简化了直写过程，直写效率较高。同时扫描过程的简化也使激光直写装置获得了简化，有利于整个激光直写装置的小型化。
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