-
公开(公告)号：CN207965204U
公开(公告)日：2018-10-12
申请号：CN201820494146.X
申请日：2018-04-09
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本新型属于信息光学领域，涉及一种制备米量级光栅的扫描曝光装置；为解决制作米级光栅曝光时间过长引起的时效性差以及环境不确定性导致扫描条纹对比度下降问题，采用干涉条纹扫描技术无缝连续拼接光栅；在扫描曝光过程中，运用多维条纹锁定技术，始终以扫描曝光过的潜像光栅的潜像条纹作为锁定条纹，直至扫描曝光结束；在移动曝光中实现了实时闭环的锁定第一曝光光束与第二曝光光束的相位差，条纹周期、以及第一曝光光束与第二曝光光束夹角，从而在一个扫描周期即可获得高质量的且受环境因素影响小的无缝拼接米级光栅；光束整形压缩柱面系统的使用有效增加了光束的利用率，同时保证光束的波面质量，大大缩短了米量级光栅的制备时间。
Search Results
101
records
(took 0.018 seconds)
筛选
AND
AND
过滤
NOT
NOT
Scan to Join
