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公开(公告)号：CN109978809B
公开(公告)日：2022-02-22
申请号：CN201711434581.X
申请日：2017-12-26
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
IPC: G06T7/00
Abstract: 本公开提供了一种图像处理方法、装置及计算机可读存储介质，涉及图像处理技术领域，所述方法包括：获取待处理的第一欠采样图像；根据欠采样图像与原始图像之间的映射关系，将所述第一欠采样图像重建为对应的第一原始图像，其中所述映射关系是以第二欠采样图像及其对应的第二原始图像为训练样本对机器学习模型进行训练得到的。
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公开(公告)号：CN113240617B
公开(公告)日：2021-11-02
申请号：CN202110777936.5
申请日：2021-07-09
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
Abstract: 本公开涉及一种扫描图像重建方法、检查设备及计算机可读存储介质。扫描图像重建方法包括：使辐射源按照欠采样频率以多种辐射能量向与所述辐射源相对运动的被检对象发出射线束，所述欠采样频率小于使获得的原始扫描图像保持连续的正常采样频率；获得每种辐射能量对应的欠采样图像，并对各种辐射能量对应的欠采样图像进行图像融合，获得融合后的欠采样图像；将所述融合后的欠采样图像分别输入到所述多种辐射能量中的至少一种对应的深度学习模型中，获得所述多种辐射能量中的至少一种对应的重建图像。本公开实施例能够获得更好的图像重建效果。
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公开(公告)号：CN113238293B
公开(公告)日：2021-11-02
申请号：CN202110777668.7
申请日：2021-07-09
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
IPC: G01V5/00
Abstract: 本公开涉及一种检查系统及方法。检查系统包括：辐射源（10）；探测器（30），被配置为探测所述辐射源（10）发出的辐射作用于被检的对象时的信号；和处理器（20），与所述辐射源（10）通讯连接，被配置为根据所述对象的类型确定与所述对象的类型对应的至少一种周期辐射组合，并在所述至少一种周期辐射组合中选择与所述对象的至少两个不同的部分分别对应的周期辐射组合，以及在所述对象被扫描期间，使所述辐射源（10）以被选择的周期辐射组合向对应的所述至少两个不同的部分发出辐射，其中，所述周期辐射组合为所述辐射源（10）在每个扫描周期内输出的至少一个辐射脉冲的时序排列。本公开实施例能够改善检查系统对被检对象的适应性。
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公开(公告)号：CN113281357A
公开(公告)日：2021-08-20
申请号：CN202110781545.0
申请日：2021-07-12
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 清华大学
IPC: G01N23/04
Abstract: 本公开提出一种辐射成像系统和方法，涉及辐射探测技术领域。本公开的一种辐射成像系统包括：光电二极管探测器，被配置为接收来自射线源的射线，并生成第一探测信号；第一成像设备，与光电二极管探测器连接，被配置为根据第一探测信号生成第一成像数据；计数探测器，位于光电二极管探测器的远离射线接收面的一侧，被配置为接收穿过光电二极管探测器的射线，生成第二探测信号；计数成像设备，与计数探测器连接，被配置为根据第二探测信号生成计数成像数据；和图像融合装置，被配置为根据第一成像数据和计数成像数据，获取第一融合图像，提高辐射探测质量。
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公开(公告)号：CN113240617A
公开(公告)日：2021-08-10
申请号：CN202110777936.5
申请日：2021-07-09
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
Abstract: 本公开涉及一种扫描图像重建方法、检查设备及计算机可读存储介质。扫描图像重建方法包括：使辐射源按照欠采样频率以多种辐射能量向与所述辐射源相对运动的被检对象发出射线束，所述欠采样频率小于使获得的原始扫描图像保持连续的正常采样频率；获得每种辐射能量对应的欠采样图像，并对各种辐射能量对应的欠采样图像进行图像融合，获得融合后的欠采样图像；将所述融合后的欠采样图像分别输入到所述多种辐射能量中的至少一种对应的深度学习模型中，获得所述多种辐射能量中的至少一种对应的重建图像。本公开实施例能够获得更好的图像重建效果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113077391A
公开(公告)日：2021-07-06
申请号：CN202010711447.5
申请日：2020-07-22
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
IPC: G06T5/00
Abstract: 本公开提出一种校正扫描图像的方法和装置以及图像扫描系统，涉及图像扫描领域。该方法包括：获取被扫描对象的扫描图像；从所述扫描图像中检测一个或多个参照物；根据预设的参照物的标准参数，确定每个参照物的变形参数；根据所述一个或多个参照物的变形参数，对所述扫描图像进行校正。通过从扫描图像中检测参照物，根据参照物的变形参数，对扫描图像进行校正，以改善扫描图像变形的问题，提高检测效果。
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公开(公告)号：CN108240997B
公开(公告)日：2020-09-04
申请号：CN201611221485.2
申请日：2016-12-26
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
IPC: G01N23/044
Abstract: 公开了一种检查设备和对集装箱进行检查的方法。利用包括稀疏面阵探测器的扫描设备对被检查集装箱进行透射扫描，得到扫描数据。在深度方向的特定深度位置进行数字聚焦。滤除散焦的像素值，得到该特定深度位置处的切片图像。判断该切片图像中是否包含危险品或者可疑物品。
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公开(公告)号：CN109990744A
公开(公告)日：2019-07-09
申请号：CN201910275709.5
申请日：2019-04-08
Applicant: 同方威视技术股份有限公司 , 同方威视科技(北京)有限公司 , 清华大学
IPC: G01B15/00
Abstract: 本发明公开了一种体积测量方法、装置、系统和计算机可读存储介质，涉及辐射领域。体积测量方法，包括：根据从加速器靶点发射的多条X射线的测量结果，确定被测对象在每条X射线所在方向上的厚度；根据位于被测对象的同一个截面的每条X射线对应的厚度，确定相应截面的面积；根据被测对象的截面的面积确定被测对象的体积。通过将X射线扫描应用于体积测量中，可以通过X射线的测量结果获得被测对象的物质类型和多个位置、角度的尺寸信息，从而可以更准确地测量被测对象的体积。
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公开(公告)号：CN109613031A
公开(公告)日：2019-04-12
申请号：CN201910009048.1
申请日：2019-01-04
Applicant: 清华大学 , 同方威视技术股份有限公司 , 同方威视科技(北京)有限公司
IPC: G01N23/203 , G01N23/20008 , G01V5/00
Abstract: 本公开提供一种背散射检查系统和背散射检查方法，背散射检查系统包括机架和背散射检查装置。机架包括相对于地面竖直或倾斜设置的轨道，所述轨道围成的空间形成检查通道；背散射检查装置包括背散射射线发射装置和背散射探测器，所述背散射检查装置可移动地设在所述轨道上，用于检查通过所述检查通道的被检物。该背散射检查系统能够对被检物的多个表面进行背散射检查。
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公开(公告)号：CN105806857B
公开(公告)日：2019-02-19
申请号：CN201410849920.0
申请日：2014-12-31
Applicant: 同方威视技术股份有限公司
Abstract: 本发明公开一种双能射线物质识别及其检查系统分类参数处理方法和装置。该方法包括：获得标定材料在预定射线角度下与透明度对应的角分布差异系数；基于标定材料的预定射线角度的角分布差异系数对标定材料在主束方向的分类参数进行调整，从而获得标定材料在预定射线角度的分类参数。本发明公开的方法和装置，通过角分布差异系数对不同射线角度的分类参数进行有效调整，从而提高各个射线角度的双能材料分辨效果，充分发挥双能射线检查设备的性能，进一步提高产品的竞争力和用户体验。
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