轧制铜箔
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104511479B

    公开(公告)日:2017-01-11

    申请号:CN201410667683.6

    申请日:2014-09-30

    Abstract: 本发明涉及轧制铜箔、使用其的覆铜层叠板、印刷布线板、电子设备、电路连接构件的制造方法和电路连接构件。本发明提供一种蚀刻性、弯曲性、与树脂的密合性、通过蚀刻除去铜箔之后的树脂的透明性都优秀的轧制铜箔、覆铜层叠板以及印刷布线板。该轧制铜箔包括99.9%以上的铜,在单面或两面形成镀覆层,沿着轧制铜箔的轧制直角方向镀覆层表面的偏度Rsk为-0.35~0.53,分别使所述轧制铜箔的所述镀覆层侧贴合于聚酰亚胺树脂膜的两面之后通过蚀刻除去轧制铜箔,隔着聚酰亚胺树脂膜用CCD摄像机对印刷物进行摄影,此时,由Sv=(ΔB×0.1)/(t1-t2)所定义的Sv成为3.0以上。

    轧制铜箔
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104511479A

    公开(公告)日:2015-04-15

    申请号:CN201410667683.6

    申请日:2014-09-30

    CPC classification number: B21B1/40 C22F1/08 H05K1/09

    Abstract: 本发明涉及轧制铜箔、使用其的覆铜层叠板、印刷布线板、电子设备、电路连接构件的制造方法和电路连接构件。本发明提供一种蚀刻性、弯曲性、与树脂的密合性、通过蚀刻除去铜箔之后的树脂的透明性都优秀的轧制铜箔、覆铜层叠板以及印刷布线板。该轧制铜箔包括99.9%以上的铜,在单面或两面形成镀覆层,沿着轧制铜箔的轧制直角方向镀覆层表面的偏度Rsk为-0.35~0.53,分别使所述轧制铜箔的所述镀覆层侧贴合于聚酰亚胺树脂膜的两面之后通过蚀刻除去轧制铜箔,隔着聚酰亚胺树脂膜用CCD摄像机对印刷物进行摄影,此时,由Sv=(ΔB×0.1)/(t1-t2)所定义的Sv成为3.0以上。

    滚轧铜箔
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103826765B

    公开(公告)日:2016-05-11

    申请号:CN201280047253.3

    申请日:2012-08-28

    CPC classification number: B21B1/40 B21B2003/005 C22C9/00 C22F1/08

    Abstract: 提供一种滚轧铜箔,其使铜箔表面适度地变粗糙以提高处理性,而且弯曲性优秀,并且表面蚀刻特性良好。为一种滚轧铜箔,其中,沿滚轧平行方向测定的表面的60度光泽度(G60RD)为100以上且300以下,在以200℃加热30分钟并调质为再结晶组织的状态下,滚轧面的通过X射线衍射求得的200衍射强度(I)相对于微粉末铜的通过X射线衍射求得的200衍射强度(I0)为20≤I/I0≤40,在于铜箔表面处沿滚轧平行方向长度为175μm,且沿滚轧直角方向分别间隔50μm以上的3条直线上,与油坑的最大深度相当的各直线的厚度方向的最大高度与最小高度之差的平均值(d)与所述铜箔的厚度(t)的比率(d/t)为0.1以下,沿滚轧平行方向测定的表面的60度光泽度(G60RD)与沿滚轧直角方向测定的表面的60度光泽度(G60TD)的比率(G60RD/G60TD)小于0.8。

    滚轧铜箔
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103826765A

    公开(公告)日:2014-05-28

    申请号:CN201280047253.3

    申请日:2012-08-28

    CPC classification number: B21B1/40 B21B2003/005 C22C9/00 C22F1/08

    Abstract: 提供一种滚轧铜箔,其使铜箔表面适度地变粗糙以提高处理性,而且弯曲性优秀,并且表面蚀刻特性良好。为一种滚轧铜箔,其中,沿滚轧平行方向测定的表面的60度光泽度(G60RD)为100以上且300以下,在以200℃加热30分钟并调质为再结晶组织的状态下,滚轧面的通过X射线衍射求得的200衍射强度(I)相对于微粉末铜的通过X射线衍射求得的200衍射强度(I0)为20≤I/I0≤40,在于铜箔表面处沿滚轧平行方向长度为175μm,且沿滚轧直角方向分别间隔50μm以上的3条直线上,与油坑的最大深度相当的各直线的厚度方向的最大高度与最小高度之差的平均值(d)与所述铜箔的厚度(t)的比率(d/t)为0.1以下,沿滚轧平行方向测定的表面的60度光泽度(G60RD)与沿滚轧直角方向测定的表面的60度光泽度(G60TD)的比率(G60RD/G60TD)小于0.8。

    轧制铜箔
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103290345B

    公开(公告)日:2015-07-01

    申请号:CN201310139482.4

    申请日:2013-02-28

    Abstract: 本发明提供一种轧制铜箔,其蚀刻性和弯曲性均优异、可适用于FPC(柔性印刷电路板)等。一种轧制铜箔,以质量比率计含有99.9%以上的铜,将轧制面的来自{112}面的计算X射线衍射强度设为I{112}、将来自{110}面的计算X射线衍射强度设为I{110}时,满足2.5≤I{110}/I{112}≤6.0。

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