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公开(公告)号：CN112537774B
公开(公告)日：2025-03-04
申请号：CN202010980226.8
申请日：2020-09-17
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C01B33/141 , C09K3/14 , B82Y40/00
Abstract: 一种二氧化硅溶胶的制造方法，其包括：第1工序，向液(A)和液(C)的至少一者中添加有机酸，所述液(A)包含碱催化剂、水及第1有机溶剂，所述液(C)包含水；以及第2工序，在所述第1工序之后，在所述液(A)中混合液(B)与所述液(C)而制备反应液，所述液(B)包含烷氧基硅烷或其缩合物、及第2有机溶剂。
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公开(公告)号：CN116157199A
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN202180057827.4
申请日：2021-08-05
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: B01J20/08
Abstract: 提供一种属于元素周期表的第4周期～第6周期且第3族～第15族的元素的吸附方法。该方法包括：准备满足以下中的至少1者的介孔氧化铝：(1)表面羟基量为3.5mmol/g以上；(2)CO2升温脱附分析中的低温CO2脱附量为5μmol/g以上；和(3)NH3升温脱附分析中的低温NH3脱附量为25μmol/g以上；以及，使包含吸附对象元素的液体与上述介孔氧化铝接触以使该吸附对象元素吸附在上述介孔氧化铝。上述吸附对象元素为选自由属于元素周期表的第4～6周期且第3～15族的元素组成的组中的至少1种。
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公开(公告)号：CN107207945A
公开(公告)日：2017-09-26
申请号：CN201680006419.5
申请日：2016-01-19
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C09K3/14 , B24B37/00 , H01L21/304
CPC classification number: C09K3/1463 , B24B37/00 , B24B37/044 , C09G1/02 , C09K3/1436 , H01L21/31053
Abstract: 本发明使用一种研磨用组合物，其在pH6以下的研磨用组合物中含有使磺酸固定于二氧化硅颗粒的表面而成的磺酸修饰胶体二氧化硅和水，此时，作为前述磺酸修饰胶体二氧化硅，使用源自通过包含如下工序的制造方法制造的磺酸修饰水性阴离子二氧化硅溶胶：第1反应工序，在具有能够化学转化成磺酸基的官能团的硅烷偶联剂的存在下，将微小颗粒的个数分布比率为10％以下的原料胶体二氧化硅进行加热而得到反应物，该微小颗粒具有基于由使用扫描型电子显微镜的图像解析得到的Heywood径(圆当量直径)的体积平均粒径的40％以下的粒径；第2反应工序，通过处理前述反应物而将前述官能团转化成磺酸基。在用于研磨包含SiN的研磨对象物的研磨用组合物中，用作磨粒时，可以提高SiN研磨速率的经时稳定性，且也可以降低过氧化氢的含量。
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公开(公告)号：CN103975037A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201280060006.7
申请日：2012-11-15
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C09K3/14 , B24B37/00 , H01L21/3105
CPC classification number: C09G1/02 , B24B37/044 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , H01L21/31053
Abstract: 本发明的研磨用组合物含有表面具有多个突起的磨粒。研磨用组合物中的磨粒中，粒径比磨粒的体积基准平均粒径大的磨粒的表面具有的突起的高度分别除以同一突起的基部的宽度而得到的值的平均值为0.170以上。此外，粒径比磨粒的体积基准平均粒径大的磨粒的表面具有的突起的平均高度为3.5nm以上。研磨用组合物中所含的有机碱的量相对于研磨用组合物中的磨粒1kg为100mmol以下。
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公开(公告)号：CN103945983A
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN201280057209.0
申请日：2012-11-19
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: B24B37/00
CPC classification number: C09G1/02 , B24B29/00 , B24B37/044
Abstract: 本发明提供一种有效的研磨方法，其将包含主成分和0.1质量％以上的维氏硬度(HV)与主成分相差5以上的元素的合金材料研磨成优异的镜面。该研磨方法中使用的研磨用组合物含有磨粒和氧化剂。合金材料优选为铝合金、钛合金、不锈钢、镍合金或铜合金。另外，在使用前述研磨用组合物研磨之前，优选对合金材料进行预磨。
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公开(公告)号：CN111132931A
公开(公告)日：2020-05-08
申请号：CN201880061822.7
申请日：2018-09-28
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C01B32/956 , C09C1/28 , C09C3/06
Abstract: 根据本发明，提供一种制造覆氢氧化铝的SiC颗粒粉体的方案，所述覆氢氧化铝的SiC颗粒粉体在SiC颗粒的表面具有包含氢氧化铝的覆盖层。本发明涉及一种覆氢氧化铝的SiC颗粒粉体的制造方法，其具备覆盖工序：将包含SiC颗粒、铝酸钠和水的分散体的pH维持为9～12的范围，形成在SiC颗粒的表面具有包含氢氧化铝的覆盖层的覆盖颗粒。
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公开(公告)号：CN103975037B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201280060006.7
申请日：2012-11-15
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: H01L21/304
CPC classification number: C09G1/02 , B24B37/044 , C09K3/1409 , C09K3/1463 , H01L21/31053
Abstract: 本发明的研磨用组合物含有表面具有多个突起的磨粒。研磨用组合物中的磨粒中，粒径比磨粒的体积基准平均粒径大的磨粒的表面具有的突起的高度分别除以同一突起的基部的宽度而得到的值的平均值为0.170以上。此外，粒径比磨粒的体积基准平均粒径大的磨粒的表面具有的突起的平均高度为3.5nm以上。研磨用组合物中所含的有机碱的量相对于研磨用组合物中的磨粒1kg为100mmol以下。
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公开(公告)号：CN118439621A
公开(公告)日：2024-08-06
申请号：CN202410143867.6
申请日：2024-02-01
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C01B33/141 , B82Y40/00
Abstract: 本发明提供不凝胶化、高纯度且包含高浓度的二氧化硅颗粒的二氧化硅溶胶。所述二氧化硅溶胶包含二氧化硅颗粒和水，所述二氧化硅颗粒的平均一次粒径与所述二氧化硅颗粒的平均圆形度的乘积为15.0以上且31.2以下，所述二氧化硅颗粒的浓度为20质量％以上，每单位质量所述二氧化硅颗粒的总有机碳量小于10质量ppm，所述二氧化硅颗粒的浓度为20质量％时，25℃下的粘度为300mPa·s以下，金属杂质的浓度小于1质量ppm。
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公开(公告)号：CN111132931B
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN201880061822.7
申请日：2018-09-28
Applicant: 福吉米株式会社
IPC: C01B32/956 , C09C1/28 , C09C3/06
Abstract: 根据本发明，提供一种制造覆氢氧化铝的SiC颗粒粉体的方案，所述覆氢氧化铝的SiC颗粒粉体在SiC颗粒的表面具有包含氢氧化铝的覆盖层。本发明涉及一种覆氢氧化铝的SiC颗粒粉体的制造方法，其具备覆盖工序：将包含SiC颗粒、铝酸钠和水的分散体的pH维持为9～12的范围，形成在SiC颗粒的表面具有包含氢氧化铝的覆盖层的覆盖颗粒。
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