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公开(公告)号:CN103088404B
公开(公告)日:2015-07-29
申请号:CN201310009504.5
申请日:2009-06-05
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor: 彼德·L·凯勒曼 , 法兰克·辛克莱 , 菲德梨克·卡尔森 , 尼可拉斯·P·T·贝特曼 , 罗伯特·J·米歇尔
CPC classification number: C30B11/003 , C30B11/001 , C30B28/06 , C30B29/06 , C30B29/60
Abstract: 一种形成板的装置。可自熔体形成无错位板。使用冷却平板在材料的熔体上形成具有第一宽度的所述材料的板。此板具有错位。相对于所述冷却平板而输送所述板,且所述错位迁移至所述板的边缘。所述板的所述第一宽度藉由所述冷却平板而增加至第二宽度。所述板在所述第二宽度处不具有错位。在一种情况下,所述冷却平板可具有具两个不同宽度的形状。在另一情况下,所述冷却平板可具有在不同温度下操作的区段,以增加所述板的宽度。所述板可相对于所述冷却平板而被拉动或流动。
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公开(公告)号:CN102150283A
公开(公告)日:2011-08-10
申请号:CN200980135584.0
申请日:2009-08-12
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L31/042
CPC classification number: C30B29/06 , C30B11/001 , C30B11/003 , C30B28/06 , C30B29/403 , C30B29/406 , C30B29/52 , C30B29/64 , H01L31/182 , Y02E10/546 , Y02P70/521 , Y10T117/1024
Abstract: 本发明揭示一种用于形成板的方法及设备。将熔化物冷却,且在所述熔化物上形成板。此板具有第一厚度。随后使用例如加热器或熔化物使所述板自第一厚度变薄至第二厚度。所述冷却可经配置以允许溶质被截留于板的一区中,且可使此特定板变薄且移除溶质。所述熔化物可为例如硅、硅锗、镓或氮化镓。
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公开(公告)号:CN102150283B
公开(公告)日:2013-06-05
申请号:CN200980135584.0
申请日:2009-08-12
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L31/042
CPC classification number: C30B29/06 , C30B11/001 , C30B11/003 , C30B28/06 , C30B29/403 , C30B29/406 , C30B29/52 , C30B29/64 , H01L31/182 , Y02E10/546 , Y02P70/521 , Y10T117/1024
Abstract: 本发明揭示一种用于形成板的方法及设备。将熔化物冷却,且在所述熔化物上形成板。此板具有第一厚度。随后使用例如加热器或熔化物使所述板自第一厚度变薄至第二厚度。所述冷却可经配置以允许溶质被截留于板的一区中,且可使此特定板变薄且移除溶质。所述熔化物可为例如硅、硅锗、镓或氮化镓。
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公开(公告)号:CN103046116A
公开(公告)日:2013-04-17
申请号:CN201310010356.9
申请日:2009-06-05
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor: 彼德·L·凯勒曼 , 法兰克·辛克莱 , 菲德梨克·卡尔森 , 尼可拉斯·P·T·贝特曼 , 罗伯特·J·米歇尔
CPC classification number: C30B11/003 , C30B11/001 , C30B28/06 , C30B29/06 , C30B29/60
Abstract: 一种形成板的装置。可自熔体形成无错位板。使用冷却平板在材料的熔体上形成具有第一宽度的所述材料的板。此板具有错位。相对于所述冷却平板而输送所述板,且所述错位迁移至所述板的边缘。所述板的所述第一宽度藉由所述冷却平板而增加至第二宽度。所述板在所述第二宽度处不具有错位。在一种情况下,所述冷却平板可具有具两个不同宽度的形状。在另一情况下,所述冷却平板可具有在不同温度下操作的区段,以增加所述板的宽度。所述板可相对于所述冷却平板而被拉动或流动。
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公开(公告)号:CN103046116B
公开(公告)日:2016-01-20
申请号:CN201310010356.9
申请日:2009-06-05
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor: 彼德·L·凯勒曼 , 法兰克·辛克莱 , 菲德梨克·卡尔森 , 尼可拉斯·P·T·贝特曼 , 罗伯特·J·米歇尔
CPC classification number: C30B11/003 , C30B11/001 , C30B28/06 , C30B29/06 , C30B29/60
Abstract: 一种形成板的装置。可自熔体形成无错位板。使用冷却平板在材料的熔体上形成具有第一宽度的所述材料的板。此板具有错位。相对于所述冷却平板而输送所述板,且所述错位迁移至所述板的边缘。所述板的所述第一宽度藉由所述冷却平板而增加至第二宽度。所述板在所述第二宽度处不具有错位。在一种情况下,所述冷却平板可具有具两个不同宽度的形状。在另一情况下,所述冷却平板可具有在不同温度下操作的区段,以增加所述板的宽度。所述板可相对于所述冷却平板而被拉动或流动。
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公开(公告)号:CN102119242B
公开(公告)日:2013-09-25
申请号:CN200980131176.8
申请日:2009-06-19
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
CPC classification number: C30B11/003 , C01B33/037 , C30B11/001 , C30B28/06 , C30B29/02 , C30B29/06 , C30B29/08 , C30B29/406 , C30B29/60
Abstract: 揭示一种纯化熔体的装置以及一种用以形成板的装置。于腔室中在第一方向冷凝熔体的第一部分。在第一方向熔化第一部分的小部分。熔体的第二部分保持冷凝。从腔室流出熔体,以及从腔室移除第二部分。冷凝以在溶体及第二部分中浓缩溶质。第二部分可以是高溶质浓度的块体。此系统可以并入板形成装置及其他组件,例如泵、过滤器或微粒捕集阱。
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公开(公告)号:CN103088404A
公开(公告)日:2013-05-08
申请号:CN201310009504.5
申请日:2009-06-05
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Inventor: 彼德·L·凯勒曼 , 法兰克·辛克莱 , 菲德梨克·卡尔森 , 尼可拉斯·P·T·贝特曼 , 罗伯特·J·米歇尔
CPC classification number: C30B11/003 , C30B11/001 , C30B28/06 , C30B29/06 , C30B29/60
Abstract: 一种形成板的装置。可自熔体形成无错位板。使用冷却平板在材料的熔体上形成具有第一宽度的所述材料的板。此板具有错位。相对于所述冷却平板而输送所述板,且所述错位迁移至所述板的边缘。所述板的所述第一宽度藉由所述冷却平板而增加至第二宽度。所述板在所述第二宽度处不具有错位。在一种情况下,所述冷却平板可具有具两个不同宽度的形状。在另一情况下,所述冷却平板可具有在不同温度下操作的区段,以增加所述板的宽度。所述板可相对于所述冷却平板而被拉动或流动。
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公开(公告)号:CN102959137B
公开(公告)日:2015-08-19
申请号:CN201180032013.1
申请日:2011-03-04
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Abstract: 本文的实施例是关于一种片材生产装置。容器用以固持材料的熔化物,且冷却板接近所述熔化物而安置。此冷却板用以在所述熔化物上形成所述材料的片材。使用泵,在一个例子中,此泵包含气源以及与所述气源流体连通的管道,在另一例子中,此泵将气体注入至熔化物中。所述气体可使所述熔化物上升或将动量提供至所述熔化物。
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公开(公告)号:CN102187474B
公开(公告)日:2013-05-08
申请号:CN200980141470.7
申请日:2009-10-20
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01L31/042 , H01L21/20
CPC classification number: C30B11/003 , C30B11/001 , C30B28/06 , C30B29/02 , C30B29/06 , C30B29/08 , C30B29/403 , C30B29/64 , H01L31/182 , Y02E10/546 , Y02P70/521 , Y10S588/90 , Y10T117/1024 , Y10T117/1092
Abstract: 冷却一材料的熔化物且在此熔化物中形成此材料的板材。输送此板材,将此板材切割成至少一片段,再于冷却腔室中冷却此片段。此材料可为硅、硅及锗、镓、或氮化镓。冷却是为了避免对此片段造成应力或应变。在一实例中,此冷却腔室具有气体冷却。
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公开(公告)号:CN102959137A
公开(公告)日:2013-03-06
申请号:CN201180032013.1
申请日:2011-03-04
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
Abstract: 本文的实施例是关于一种片材生产装置。容器经组态以固持材料的熔化物,且冷却板接近所述熔化物而安置。此冷却板经组态以在所述熔化物上形成所述材料的片材-使用泵,在一个例子中,此泵包含气源以及与所述气源流体连通的管道,在另一例子中,此泵将气体注入至熔化物中。所述气体可使所述熔化物上升或将动量提供至所述熔化物。
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