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公开(公告)号:CN101467227A
公开(公告)日:2009-06-24
申请号:CN200780021294.4
申请日:2007-06-05
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
IPC: H01J37/317
Abstract: 本案揭示了一种离子束电流均匀度监控器、离子注入机及相关的方法。在一实施例中,所述离子束电流均匀度监控器(15)包括:离子束电流测量器,包括多数个测量装置(17),以测量离子束(12)内多个位置的电流;以及控制器(18),以根据所述离子束电流测量器的离子束电流测量值来维持离子束电流均匀度。