一种制备P型CuAlO2半导体体材料的方法

    公开(公告)号:CN102219494A

    公开(公告)日:2011-10-19

    申请号:CN201110110451.7

    申请日:2011-04-29

    Applicant: 浙江大学

    Abstract: 本发明提出了一种简单快速制备高质量的、具有P型导电性CuAlO2半导体体材料的方法。将Cu2O粉末和Al2O3粉末以1:1的摩尔比配料;装入球磨罐中球磨3-5小时,获得粒径不超过300nm、混合均匀的原料粉末;再利用粉末压片机,在30MPa的静压制压力下保压1-3分钟,将混合均匀的粉末压制成直径约3cm、高度2-5mm的圆柱状靶材坯料;然后利用真空陶瓷管管式炉,在氩气保护及优化的升降温速率、保温温度和反应气压条件下烧结得到单一晶相的CuAlO2体材料。本发明制备P型CuAlO2半导体材料具有烧结时间短,产量大,产物纯度高等优点,是进一步制备高质量P型CuAlO2薄膜的理想原料,在真空镀膜领域具有很大应用前景。

    一种制备P型CuAlO2半导体体材料的方法

    公开(公告)号:CN102219494B

    公开(公告)日:2012-10-31

    申请号:CN201110110451.7

    申请日:2011-04-29

    Applicant: 浙江大学

    Abstract: 本发明提出了一种简单快速制备高质量的、具有P型导电性CuAlO2半导体体材料的方法。将Cu2O粉末和Al2O3粉末以1:1的摩尔比配料;装入球磨罐中球磨3-5小时,获得粒径不超过300nm、混合均匀的原料粉末;再利用粉末压片机,在30MPa的静压制压力下保压1-3分钟,将混合均匀的粉末压制成直径约3cm、高度2-5mm的圆柱状靶材坯料;然后利用真空陶瓷管管式炉,在氩气保护及优化的升降温速率、保温温度和反应气压条件下烧结得到单一晶相的CuAlO2体材料。本发明制备P型CuAlO2半导体材料具有烧结时间短,产量大,产物纯度高等优点,是进一步制备高质量P型CuAlO2薄膜的理想原料,在真空镀膜领域具有很大应用前景。

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