公开(公告)号：CN101017541A

公开(公告)日：2007-08-15

申请号：CN200710005430.2

申请日：2007-02-08

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 弘重雄三 ,  滨塚康宏 ,  齐藤昭男

IPC: G06Q10/00

CPC classification number: G06Q10/06 ,  G06Q10/20 ,  G06Q10/30 ,  G06Q30/0283 ,  Y02P90/84 ,  Y02W90/20

Abstract: 本发明提供产品设计支援方法和系统。本发明的课题是提供一种在全球展开的商品使用完了时，设想利用各国各地区不同的再资源化方法进行处理的情况下，使用产品的设计信息，定量计算在不同的处理方法中发生的再资源化成本·环境负荷，支援设计改良的手段。本发明的解决手段，提供一种将产品信息和按地区再资源化特性信息作为输入信息，判定按地区的再资源化方法，再通过使用按地区的再资源化成本·环境负荷的单位消费资源信息，根据产品设计信息使按地区的再资源化成本·环境负荷定量化的方法及系统。

公开(公告)号：CN1038625C

公开(公告)日：1998-06-03

申请号：CN94100510.0

申请日：1994-01-20

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 齐藤昭男 ,  太田胜启 ,  伊藤晴夫 ,  冈齐

IPC: H01L21/306 ,  C23F1/24

Abstract: 本发明的目的在于提供氟酸水溶液或在氟酸+氟化铵混合水溶液中防止杂质附着的技术。通过向氢氟酸水溶液或氟酸+氟化铵混合水溶液等的氢氟酸系的腐蚀溶液中添加可以降低杂质和基板ζ电位的物质，特别是以低于临界胶束浓度的浓度添加阴离子表面活性剂，可以防止或降低混合水溶液中的杂质附着。可以提高半导体器件等的电子元件的成品率。

公开(公告)号：CN1091859A

公开(公告)日：1994-09-07

申请号：CN94100510.0

申请日：1994-01-20

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 齐藤昭男 ,  太田胜启 ,  伊藤晴夫 ,  冈齐

IPC: H01L21/306

Abstract: 本发明的目的在于提供氟酸水溶液或在氟酸+氟化铵混合水溶液中防止杂质附着的技术。通过向氢氟酸水溶液或氟酸+氟化铵混合水溶液等的氢氟酸系的腐蚀溶液中添加可以降低杂质和基板ζ电位的物质，特别是以低于临界胶束浓度的浓度添加阴离子表面活性剂，可以防止或降低混合水溶液中的杂质附着。可以提高半导体装置等的电子元件的产率。