公开(公告)号：CN101051183A

公开(公告)日：2007-10-10

申请号：CN200710002263.6

申请日：2007-01-17

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 荻野雅彦 ,  宮内昭浩 ,  安藤拓司 ,  篍野谷千积 ,  小森谷进 ,  早田康成 ,  片桐创一 ,  太田洋一 ,  中山义则

IPC: G03F7/00 ,  G11B5/74 ,  G11B5/82 ,  G11B5/86

CPC classification number: H01L21/76838 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/7076 ,  G11B5/855 ,  H01L23/544 ,  H01L2223/54453 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 在纳米压印法中，存在像盘基片那样在中心部形成了开口部的基片与模具之间的高精度的位置对准很困难的问题。由于机械接触而引起的位置对准标记损伤所导致的位置对准不良也成为问题。在利用微细的凹凸形状形成了图案的模具上，在2个以上的位置处将用于确定基片和模具之间的相对位置关系的对准标记设置为同心圆形状。另外，还可以通过根据各个标记的位置信息和形状来确定已经破损的标记，之后，除去破损的标记而进行模具和涂布了树脂膜的基片之间的位置对准来解决问题。

公开(公告)号：CN101051183B

公开(公告)日：2013-04-24

申请号：CN200710002263.6

申请日：2007-01-17

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 荻野雅彦 ,  宮内昭浩 ,  安藤拓司 ,  篍野谷千积 ,  小森谷进 ,  早田康成 ,  片桐创一 ,  太田洋一 ,  中山义则

IPC: G03F7/00 ,  G11B5/74 ,  G11B5/82 ,  G11B5/86

CPC classification number: H01L21/76838 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/7076 ,  G11B5/855 ,  H01L23/544 ,  H01L2223/54453 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 在纳米压印法中，存在像盘基片那样在中心部形成了开口部的基片与模具之间的高精度的位置对准很困难的问题。由于机械接触而引起的位置对准标记损伤所导致的位置对准不良也成为问题。在利用微细的凹凸形状形成了图案的模具上，在2个以上的位置处将用于确定基片和模具之间的相对位置关系的对准标记设置为同心圆形状。另外，还可以通过根据各个标记的位置信息和形状来确定已经破损的标记，之后，除去破损的标记而进行模具和涂布了树脂膜的基片之间的位置对准来解决问题。