公开(公告)号：CN101051183B

公开(公告)日：2013-04-24

申请号：CN200710002263.6

申请日：2007-01-17

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 荻野雅彦 ,  宮内昭浩 ,  安藤拓司 ,  篍野谷千积 ,  小森谷进 ,  早田康成 ,  片桐创一 ,  太田洋一 ,  中山义则

IPC: G03F7/00 ,  G11B5/74 ,  G11B5/82 ,  G11B5/86

CPC classification number: H01L21/76838 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/7076 ,  G11B5/855 ,  H01L23/544 ,  H01L2223/54453 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 在纳米压印法中，存在像盘基片那样在中心部形成了开口部的基片与模具之间的高精度的位置对准很困难的问题。由于机械接触而引起的位置对准标记损伤所导致的位置对准不良也成为问题。在利用微细的凹凸形状形成了图案的模具上，在2个以上的位置处将用于确定基片和模具之间的相对位置关系的对准标记设置为同心圆形状。另外，还可以通过根据各个标记的位置信息和形状来确定已经破损的标记，之后，除去破损的标记而进行模具和涂布了树脂膜的基片之间的位置对准来解决问题。

公开(公告)号：CN100536073C

公开(公告)日：2009-09-02

申请号：CN200710002264.0

申请日：2007-01-17

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 片桐创一 ,  早田康成 ,  荻野雅彦

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/68 ,  H01L21/768 ,  H01L21/00 ,  G03F7/00 ,  G03F9/00

CPC classification number: G03F9/7049 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/703 ,  G03F9/7084 ,  G03F9/7088

Abstract: 本发明提供一种图形形成方法，使用了纳米压印，该纳米压印是通过将形成了凹凸形状图形的模具推压到涂覆了树脂膜的基板而形成图形；其特征在于包含：按一定周期的间隔用以激光器为光源的光束时形成于该模具上的、作为线和间隙图形的对准标记进行照明，使用从该对准标记产生的反射衍射光中的0次衍射光来测量上述模具与涂覆了上述树脂膜的基板的距离的工序；在上述模具与涂覆了上述树脂膜的基板将要接触之前停止的工序；通过检测对准标记的位置从而进行上述模具与涂覆了上述树脂膜的基板的相对对位的工序，其中该对准标记形成在涂覆了上述树脂膜的基板的背面；以及在保持上述相对位置的状态下将上述模具推压到涂覆了上述树脂膜的基板的工序。

公开(公告)号：CN101051183A

公开(公告)日：2007-10-10

申请号：CN200710002263.6

申请日：2007-01-17

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 荻野雅彦 ,  宮内昭浩 ,  安藤拓司 ,  篍野谷千积 ,  小森谷进 ,  早田康成 ,  片桐创一 ,  太田洋一 ,  中山义则

IPC: G03F7/00 ,  G11B5/74 ,  G11B5/82 ,  G11B5/86

CPC classification number: H01L21/76838 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/7076 ,  G11B5/855 ,  H01L23/544 ,  H01L2223/54453 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 在纳米压印法中，存在像盘基片那样在中心部形成了开口部的基片与模具之间的高精度的位置对准很困难的问题。由于机械接触而引起的位置对准标记损伤所导致的位置对准不良也成为问题。在利用微细的凹凸形状形成了图案的模具上，在2个以上的位置处将用于确定基片和模具之间的相对位置关系的对准标记设置为同心圆形状。另外，还可以通过根据各个标记的位置信息和形状来确定已经破损的标记，之后，除去破损的标记而进行模具和涂布了树脂膜的基片之间的位置对准来解决问题。

公开(公告)号：CN101009218A

公开(公告)日：2007-08-01

申请号：CN200710002264.0

申请日：2007-01-17

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 片桐创一 ,  早田康成 ,  荻野雅彦

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/68 ,  H01L21/768 ,  H01L21/00 ,  G03F7/00 ,  G03F9/00

CPC classification number: G03F9/7049 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F9/703 ,  G03F9/7084 ,  G03F9/7088

Abstract: 在使用纳米压印技术的图形形成中，不能避免模具与转印图形的基板的接触。在接触、推压的工序中，随着树脂膜不稳定地变形，产生位置偏移。另外，在接触、推压工序中，当不能确保与被转印基板间的平行度的场合，在转印后的树脂产生厚度不均，结果产生图形腐蚀不良。本发明的图形形成方法使用了纳米压印，该纳米压印是通过将形成了凹凸形状图形的模具推压到涂覆了树脂膜的基板而形成图形；其特征在于：包含通过检测对准标记的位置从而进行该模具与涂覆了该树脂膜的基板的相对对位的工序，该对准标记形成在涂覆了该树脂膜的基板的背面。