公开(公告)号：CN86103644B

公开(公告)日：1988-11-23

申请号：CN86103644

申请日：1986-06-11

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 伊藤铁男 ,  田沼正之 ,  込义之 ,  门田和也 ,  小林一成

IPC: G03F7/16 ,  H01L21/312

CPC classification number: G03F7/162 ,  Y10S430/136

Abstract: 光刻工艺，包括在衬底上旋涂光刻胶并将掩膜图形转移到光刻胶上而后进行曝光，及在图形被曝光后在衬底上形成该图形。当光刻胶显影图形因涂敷光刻胶工艺中的参数的增加或减少而脉动变化时，将参数的值设置到与脉动的极值相符。

公开(公告)号：CN86103644A

公开(公告)日：1987-04-29

申请号：CN86103644

申请日：1986-06-11

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 伊藤铁男 ,  田沼正也 ,  中込义之 ,  门田和也 ,  小林一成

IPC: G03F7/16 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/162 ,  Y10S430/136

Abstract: 光刻工艺包括在衬底上旋涂保护层并将掩膜图形转移到保护层上而后进行曝光，及在图形被曝光后在衬底上形成该图形。当保护层显影图形因加保护层工艺中的参数的增加或减少而脉动变化时，将参数的值设置到与脉动的极值相符。

公开(公告)号：CN87100374A

公开(公告)日：1987-08-05

申请号：CN87100374

申请日：1987-01-19

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 田智 ,  佐藤美雄 ,  渡部笃美 ,  佐佐木宏 ,  坪井信义 ,  伊藤铁男 ,  宫本沼文 ,  小柳広明 ,  二瓶秀树 ,  峯邑法行

IPC: G11B7/00

CPC classification number: G06K7/14 ,  G11B7/0033 ,  G11B7/12 ,  G11B7/125

Abstract: 用于记录和/或读出信息的一维或二维排列的激光二极管陈列固定到一固定板下表面，其各激光二极管间距与其下方第一多透镜的各透镜间距相等。具有记录介质并可在X或Y方向移动的光学卡片固定于第一多透镜下方空间。在其下方对准每个激光二极管的空间位置排列第二多透镜的各个透镜，其下方排列与其各透镜对应的一维或二维排列的光敏器件。控制激光二极管发射光及读出记录信息的控制电路各自连接到激光二极管阵列和光敏器件。