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公开(公告)号：CN109872959A
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201811432270.4
申请日：2018-11-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种能够定量地判定腔室内的烟雾的产生状况是否正常的烟雾判定方法、基板处理方法及基板处理装置。在一边在腔室的内部水平地保持基板、一边对基板的上表面供给处理液的装置中，判定烟雾的产生状况。具体来说，首先，对腔室内的规定的拍摄区域进行拍摄(步骤S62)。接着，基于通过拍摄而获取到的拍摄图像的亮度值，判定腔室内的烟雾的产生状况(步骤S63)。由此，能够定量地判定腔室内的烟雾的产生状况是否正常。
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公开(公告)号：CN110364454B
公开(公告)日：2023-04-28
申请号：CN201910151449.0
申请日：2019-02-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供能够使含有异物的药液和不含有异物的药液在处理杯的内部分离地流通的基板处理方法和基板处理装置。本发明的基板处理方法包括：基板保持工序，利用基板保持单元保持基板；药液供给工序，一边使上述基板绕穿过该基板的中央部的旋转轴线旋转一边向上述基板的主面供给药液；以及流通目标切换工序，在上述药液供给工序中，将从所述基板排出的药液的流通目标从包围所述基板保持单元的周围的处理杯的第一流通空间切换为所述处理杯的与所述第一流通空间隔开的第二流通空间。
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公开(公告)号：CN110364453A
公开(公告)日：2019-10-22
申请号：CN201910148356.2
申请日：2019-02-27
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供能够从挡板的内壁良好地去除残留的异物的基板处理方法以及基板处理装置，该基板处理方法，包括：基板保持工序，将基板保持为水平姿势；药液供给工序，一边使所述基板以通过该基板的中央部的铅垂的旋转轴线为中心旋转，一边向所述基板的主表面供给药液；处理高度保持工序，与所述药液供给工序并行，将捕获从所述基板排出的药液的筒状的第一挡板保持在处理高度位置；以及清洗高度保持工序，在所述处理高度保持工序之后，与所述药液供给工序并行，将所述第一挡板保持在比所述处理高度位置更靠下方的清洗高度位置。
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公开(公告)号：CN108701606A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201780014056.4
申请日：2017-03-21
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/02057 , B08B1/002 , B08B1/04 , B08B3/08 , B08B3/10 , B08B7/04 , B08B2203/005 , H01L21/0209 , H01L21/67028 , H01L21/67046 , H01L21/67051 , H01L21/68728 , H01L21/68792
Abstract: 本发明的基板处理方法，包含：基板保持步骤，使基板保持于基板保持单元；含臭氧氢氟酸溶液供给步骤，对保持于上述基板保持单元的上述基板的一个主面，供给在氢氟酸溶液中溶解有臭氧的含臭氧氢氟酸溶液；刷清洗步骤，在上述含臭氧氢氟酸溶液供给步骤之后，使清洗刷接触上述基板的上述一个主面，由此对该一个主面进行清洗；臭氧水供给步骤，在上述含臭氧氢氟酸溶液供给步骤之后且在上述刷清洗步骤开始之前，或与上述刷清洗步骤并行，对上述基板的上述一个主面供给臭氧水。
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公开(公告)号：CN108701606B
公开(公告)日：2024-01-05
申请号：CN201780014056.4
申请日：2017-03-21
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304
Abstract: 本发明的基板处理方法，包含：基板保持步骤，使基板保持于基板保持单元；含臭氧氢氟酸溶液供给步骤，对保持于上述基板保持单元的上述基板的一个主面，供给在氢氟酸溶液中溶解有臭氧的含臭氧氢氟酸溶液；刷清洗步骤，在上述含臭氧氢氟酸溶液供给步骤之后，使清洗刷接触上述基板的上述一个主面，由此对该一个主面进行清洗；臭氧水供给步骤，在上述含臭氧氢氟酸溶液供给步骤之后且在上述刷清洗步骤开始之前，或与上述刷清洗步骤并行，对上述基板的上述一个主面供给臭氧水。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110364453B
公开(公告)日：2023-06-13
申请号：CN201910148356.2
申请日：2019-02-27
Applicant: 株式会社斯库林集团
Abstract: 本发明提供能够从挡板的内壁良好地去除残留的异物的基板处理方法以及基板处理装置，该基板处理方法，包括：基板保持工序，将基板保持为水平姿势；药液供给工序，一边使所述基板以通过该基板的中央部的铅垂的旋转轴线为中心旋转，一边向所述基板的主表面供给药液；处理高度保持工序，与所述药液供给工序并行，将捕获从所述基板排出的药液的筒状的第一挡板保持在处理高度位置；以及清洗高度保持工序，在所述处理高度保持工序之后，与所述药液供给工序并行，将所述第一挡板保持在比所述处理高度位置更靠下方的清洗高度位置。
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公开(公告)号：CN109427619B
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN201810847899.9
申请日：2018-07-27
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供基板处理方法及基板处理装置。基板处理方法包括：在由具有第一挡板及第二挡板的多个挡板包围的位置配置基板并保持基板的基板保持工序；使基板绕通过基板的中央部的铅垂的旋转轴线旋转的基板旋转工序；向基板的上表面供给使其疏水化的液体的疏水化剂供给工序；向基板的上表面供给低表面张力液体的低表面张力液体供给工序；在低表面张力液体供给工序开始前使多个挡板中的至少一个上下移动来将多个挡板的状态切换为第一挡板承接从基板飞散的液体的第一状态的第一挡板切换工序；以及在低表面张力液体供给工序的执行过程中使多个挡板上下移动来将多个挡板的状态从第一状态切换至第二挡板承接从基板飞散的液体的第二状态的第二挡板切换工序。
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公开(公告)号：CN110364454A
公开(公告)日：2019-10-22
申请号：CN201910151449.0
申请日：2019-02-28
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供能够使含有异物的药液和不含有异物的药液在处理杯的内部分离地流通的基板处理方法和基板处理装置。本发明的基板处理方法包括：基板保持工序，利用基板保持单元保持基板；药液供给工序，一边使上述基板绕穿过该基板的中央部的旋转轴线旋转一边向上述基板的主面供给药液；以及流通目标切换工序，在上述药液供给工序中，将从所述基板排出的药液的流通目标从包围所述基板保持单元的周围的处理杯的第一流通空间切换为所述处理杯的与所述第一流通空间隔开的第二流通空间。
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公开(公告)号：CN109427619A
公开(公告)日：2019-03-05
申请号：CN201810847899.9
申请日：2018-07-27
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供基板处理方法及基板处理装置。基板处理方法包括：在由具有第一挡板及第二挡板的多个挡板包围的位置配置基板并保持基板的基板保持工序；使基板绕通过基板的中央部的铅垂的旋转轴线旋转的基板旋转工序；向基板的上表面供给使其疏水化的液体的疏水化剂供给工序；向基板的上表面供给低表面张力液体的低表面张力液体供给工序；在低表面张力液体供给工序开始前使多个挡板中的至少一个上下移动来将多个挡板的状态切换为第一挡板承接从基板飞散的液体的第一状态的第一挡板切换工序；以及在低表面张力液体供给工序的执行过程中使多个挡板上下移动来将多个挡板的状态从第一状态切换至第二挡板承接从基板飞散的液体的第二状态的第二挡板切换工序。
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公开(公告)号：CN113632206B
公开(公告)日：2024-12-20
申请号：CN202080024060.0
申请日：2020-03-06
Applicant: 株式会社斯库林集团
IPC: H01L21/304
Abstract: 衬底处理方法包括下述工序：处理液供给工序，向衬底的表面供给含有溶质及溶剂的处理液；处理膜形成工序，使供给至所述衬底的表面的所述处理液固化或硬化，以在所述衬底的表面形成对存在于所述衬底的表面的除去对象物进行保持的处理膜；和除去工序，通过以液滴状态向所述衬底的表面供给除去液，以使所述除去液的液滴的物理力作用于所述处理膜及所述除去对象物，从而将所述处理膜及所述除去对象物从所述衬底的表面除去。
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