基于2D重叠判断的光刻热点检测方法

    公开(公告)号:CN117891143B

    公开(公告)日:2024-07-23

    申请号:CN202410193948.7

    申请日:2024-02-21

    Abstract: 本发明涉及芯片制造技术领域,尤其涉及一种基于2D重叠判断的光刻热点检测方法,该方法包括以下步骤:根据芯片2D版图中的电路模块,划分出多个正交多边形,其中,基于预设分解方法对所述正交多边形进行矩形分解;根据芯片2D版图中划分出来的所述正交多边形,划分出多个匹配区域;确定待匹配芯片2D版图中的精确区域,以及由所述精确区域延伸出的模糊区域;基于预设匹配规则,在每一所述匹配区域中,将所述正交多边形与所述精确区域和/或所述模糊区域进行匹配判断,得到光刻热点检测结果。本发明提高了光刻热点检测的判断速度和匹配效率。

    一种基于圆内极大空间装填矩形块的启发式装箱方法

    公开(公告)号:CN118504733A

    公开(公告)日:2024-08-16

    申请号:CN202410499737.6

    申请日:2024-04-24

    Abstract: 本发明涉及装箱问题优化技术领域,尤其涉及一种基于圆内极大空间装填矩形块的启发式装箱方法。本发明通过分析多种圆内空间情况,结合适当的元启发式算法以及定制的初始配置、放置策略和评分规则,可以有效求解单个以及多个圆形箱装填矩形物块问题,减少圆形箱内装填矩形物块的空间浪费过多问题,基于该方法进行装箱能够有效减少圆形箱装箱的繁琐操作,提高矩形物块的圆形箱装箱的效率与准确性。

    基于2D重叠判断的光刻热点检测方法

    公开(公告)号:CN117891143A

    公开(公告)日:2024-04-16

    申请号:CN202410193948.7

    申请日:2024-02-21

    Abstract: 本发明涉及芯片制造技术领域,尤其涉及一种基于2D重叠判断的光刻热点检测方法,该方法包括以下步骤:根据芯片2D版图中的电路模块,划分出多个正交多边形,其中,基于预设分解方法对所述正交多边形进行矩形分解;根据芯片2D版图中划分出来的所述正交多边形,划分出多个匹配区域;确定待匹配芯片2D版图中的精确区域,以及由所述精确区域延伸出的模糊区域;基于预设匹配规则,在每一所述匹配区域中,将所述正交多边形与所述精确区域和/或所述模糊区域进行匹配判断,得到光刻热点检测结果。本发明提高了光刻热点检测的判断速度和匹配效率。

Patent Agency Ranking