-
公开(公告)号：CN105122138A
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201480021302.5
申请日：2014-04-30
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , C08F212/14 , C08F220/26 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种极其高水平地同时满足高灵敏度、高分辨率(高解像力等)、膜薄化减少性能的图案形成方法。该图案形成方法包括：(1)使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物来形成膜、(2)利用光化射线或放射线对膜进行曝光、以及(3)使用包含有机溶剂的显影液对经曝光的膜进行显影，且感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有(A)具有通过酸的作用而分解并产生极性基的基的树脂，树脂(A)具有酚性羟基及/或由因酸的作用而脱离的基保护的酚性羟基，进而，包含有机溶剂的显影液含有与极性基形成离子键结、氢键结、化学键结及偶极相互作用中的至少一种相互作用的添加剂。
-
公开(公告)号：CN103907059B
公开(公告)日：2018-01-30
申请号：CN201280053635.7
申请日：2012-11-08
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , C08F212/02 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/2002 , C08F12/22 , C08F12/26 , C08F212/14 , C08F212/32 , G03F1/24 , G03F7/004 , G03F7/0382 , C08F212/08 , C08F220/32 , C08F220/36
Abstract: 根据一个实施例，感光化射线性或感放射线性树脂组成物包括化合物(A)，化合物(A)含有含至少一个酚羟基的结构(P)以及含至少一个氢原子由具有含酸交联基团的环状结构的基团(S)置换的酚羟基的结构(Q)，其中具有含酸交联基团的环状结构的基团(S)为具有多环结构的基团或具有含羟甲基及/或烷氧基甲基的环状结构的基团。
-
公开(公告)号：CN105103051B
公开(公告)日：2020-07-31
申请号：CN201480019503.1
申请日：2014-03-27
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法、树脂组合物及抗蚀剂膜、以及电子元件的制造方法，通过所述图案形成方法而极其高水平地同时满足高灵敏度、高分辨率、膜薄化减少性能、EL、及局部的图案尺寸的均一性，所述图案形成方法包括：(1)使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物来形成膜、(2)利用光化射线或放射线对膜进行曝光、以及(3)使用包含有机溶剂的显影液对经曝光的膜进行显影，且该树脂组合物含有(A)具有具备通过光化射线或放射线的照射而分解并产生酸的结构部位的重复单元(R)的树脂与(B)溶剂，显影液含有与曝光后的树脂(A)中所含有的极性基形成选自离子键结、氢键结、化学键结及偶极相互作用中的至少一种相互作用的添加剂。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105122138B
公开(公告)日：2019-11-15
申请号：CN201480021302.5
申请日：2014-04-30
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , C08F212/14 , C08F220/26 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种极其高水平地同时满足高灵敏度、高分辨率(高解像力等)、膜薄化减少性能的图案形成方法、树脂组合物、抗蚀剂膜、电子元件的制造方法及电子元件。该图案形成方法包括：(1)使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物来形成膜、(2)利用光化射线或放射线对膜进行曝光、以及(3)使用包含有机溶剂的显影液对经曝光的膜进行显影，且感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有(A)具有通过酸的作用而分解并产生极性基的基的树脂，树脂(A)具有酚性羟基及/或由因酸的作用而脱离的基保护的酚性羟基，进而，包含有机溶剂的显影液含有与极性基形成离子键、氢键、化学键及偶极相互作用中的至少一种相互作用的添加剂。
-
-
公开(公告)号：CN105103051A
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201480019503.1
申请日：2014-03-27
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/325 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/0397 , G03F7/20 , G03F7/2004 , G03F7/2041 , G03F7/2059 , G03F7/32 , G03F7/405
Abstract: 本发明提供一种图案形成方法、被供于该图案形成方法的感光化射线性或感放射线性树脂组合物、及使用该感光化射线性或感极放射线性树脂组合物而形成的抗蚀剂膜、以及使用它们的电子元件的制造方法及电子元件，通过所述图案形成方法而极其高水平地同时满足高灵敏度、高分辨率(高解像力等)、膜薄化减少性能、EL(曝光宽容度)、及局部的图案尺寸的均一性(Local-CDU)，所述图案形成方法包括：(1)使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物来形成膜、(2)利用光化射线或放射线对上述膜进行曝光、以及(3)使用包含有机溶剂的显影液对上述经曝光的膜进行显影，且上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有(A)具有具备通过光化射线或放射线的照射而分解并产生酸的结构部位的重复单元(R)的树脂与(B)溶剂，上述显影液含有与曝光后的树脂(A)中所含有的极性基形成选自离子键结、氢键结、化学键结及偶极相互作用中的至少一种相互作用的添加剂。
-
公开(公告)号：CN103907059A
公开(公告)日：2014-07-02
申请号：CN201280053635.7
申请日：2012-11-08
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: G03F7/038 , C08F212/02 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/2002 , C08F12/22 , C08F12/26 , C08F212/14 , C08F212/32 , G03F1/24 , G03F7/004 , G03F7/0382 , C08F212/08 , C08F220/32 , C08F220/36
Abstract: 根据一个实施例，感光化射线性或感放射线性树脂组成物包括化合物(A)，化合物(A)含有含至少一个酚羟基的结构(P)以及含至少一个氢原子由具有含酸交联基团的环状结构的基团(S)置换的酚羟基的结构(Q)，其中具有含酸交联基团的环状结构的基团(S)为具有多环结构的基团或具有含羟甲基及/或烷氧基甲基的环状结构的基团。
-
公开(公告)号：CN1347009A
公开(公告)日：2002-05-01
申请号：CN01123662.0
申请日：2001-09-03
Applicant: 富士胶片株式会社
Inventor： 滝沢裕雄
IPC: G03C1/10
CPC classification number: G03C1/12 , G03C1/0051 , G03C1/09 , G03C2001/097
Abstract: 一种右式(1)所示的化合物和含有这种化合物的卤化银照相材料,其中染料1代表第一个色基;染料2代表第二个色基;L1代表一连接链;R1代表pKa为5或更低的可离解基团;m1代表1－5的整数;m2代表1－5的整数;m3代表1－4的整数。
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
8
records
(took 0.026 seconds)
