在钨电极表面制备碳化二钨涂层的方法及钨电极

    公开(公告)号:CN119392248A

    公开(公告)日:2025-02-07

    申请号:CN202411502392.1

    申请日:2024-10-25

    Abstract: 本发明公开了在钨电极表面制备碳化二钨涂层的方法及钨电极,涉及钨电极技术领域。本发明分为附碳阶段、固碳阶段和脱碳阶段三个阶段制备碳化层,通过控制三个阶段的操作参数(如电压)等,固碳步骤可以进一步使表面富余的碳进一步反应,既能增加碳化层的厚度,又能更好地保证最终反应产物为碳化二钨,使钨电极表面制备组织结构和相成分均一稳定的碳化层。本发明所制备的碳化层为疏松的片层状组织,相结构为纯碳化二钨,为钨基热阴极材料表面提供发射活性物质迁移通道,促进阴极材料工作室活性物质的扩散补充,提升钨基阴极材料发射性能,同时更好地保障钨基阴极材料长期稳定工作。

Patent Agency Ranking