一种钨铜材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN115971491B

    公开(公告)日:2024-10-15

    申请号:CN202211644382.2

    申请日:2022-12-20

    Abstract: 本发明涉及一种钨铜材料及其制备方法,所述制备方法包括如下步骤:将钨压制坯、铜材与熔渗桥搭接摆放,所述钨压制坯和所述铜材间隔设置,所述熔渗桥分别与所述钨压制坯、铜材搭接;所述熔渗桥的熔点高于所述铜材;所述钨压制坯的钨含量为50wt%以上;熔渗处理所述搭接摆放的钨压制坯、铜材与熔渗桥;冷却后去除所述熔渗桥,得到所述钨铜材料。本发明提供的制备方法改善了钨骨架中铜熔渗率不足的缺陷,制备得到的钨铜材料具有均匀、高密度的优点;适用于航空航天、国防军工、电子信息、冶金以及机械加工等领域对钨铜材料的要求。

    一种钨铜材料及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN115821187B

    公开(公告)日:2023-12-26

    申请号:CN202211643911.7

    申请日:2022-12-20

    Abstract: 本发明涉及一种钨铜材料及其制备方法与应用,所述制备方法包括如下步骤:对搭接摆放的钨压坯、铜镍合金与熔渗桥进行烧结熔渗处理,冷却后分离所述钨压坯与熔渗桥,得到所述钨铜材料;所述烧结熔渗处理包括至少3次热处理,所述热处理的温度为1250℃以下。本发明采用铜镍合金与间接熔渗方式配合,以及至少3次热处理,实现了钨压坯烧结与熔渗的同步进行,且制备温度较低,所得钨铜材料中铜分布均匀,具有较高的密度。

    一种朗缪尔探针结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN117139630A

    公开(公告)日:2023-12-01

    申请号:CN202311345662.8

    申请日:2023-10-17

    Abstract: 本发明涉及一种朗缪尔探针结构及其制备方法,所述朗缪尔探针结构包括沿径向方向,由内向外设置的钨探针、复合陶瓷管与隔热屏;所述复合陶瓷管与钨探针之间,以及复合陶瓷管与隔热屏之间分别独立地设置有铜基钎料层;所述复合陶瓷管包括陶瓷管以及设置于陶瓷管内外表面的过渡层;本发明提供的朗缪尔探针结构为一种钨探针‑铜基钎料层‑过渡层‑陶瓷管‑过渡层‑铜基钎料层‑隔热屏的结构,过渡层粉体中含有75wt%以上的钨成分,在制备过程中形成钨骨架,便于钎料熔渗到钨骨架中形成致密连接,同时具有润湿钨材料的效果。本发明提供的朗缪尔探针具有结构强度高、耐高热负荷能力强的优势。

    一种过渡层粉体、过渡层及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN117303931A

    公开(公告)日:2023-12-29

    申请号:CN202311343917.7

    申请日:2023-10-17

    Abstract: 本发明涉及一种过渡层粉体、过渡层及其制备方法与应用,所述过渡层粉体的制备原料由钨、氧化锰、二氧化硅与三氧化二铝组成;以质量百分比计,所述过渡层粉体的制备原料中钨的质量百分比为75wt%以上;所述钨与氧化锰的质量比为8:1至20:1本发明提供的过渡层粉体的制备原料使用钨、氧化锰、二氧化硅与三氧化二铝,并控制钨与氧化锰的比例,使其在应用时能够在高纯氧化铝陶瓷基底上形成具有微小孔隙的钨骨架结构的过渡层,便于铜基钎料熔化进入过渡层的钨骨架孔隙形成钨铜熔渗效果,且具有润湿钨材料的效果,从而提升了纯度99wt%以上的高纯氧化铝陶瓷基底与钨材料之间的连接强度。

    一种钨铜材料及其制备方法

    公开(公告)号:CN115971491A

    公开(公告)日:2023-04-18

    申请号:CN202211644382.2

    申请日:2022-12-20

    Abstract: 本发明涉及一种钨铜材料及其制备方法,所述制备方法包括如下步骤:将钨压制坯、铜材与熔渗桥搭接摆放,所述钨压制坯和所述铜材间隔设置,所述熔渗桥分别与所述钨压制坯、铜材搭接;所述熔渗桥的熔点高于所述铜材;所述钨压制坯的钨含量为50wt%以上;熔渗处理所述搭接摆放的钨压制坯、铜材与熔渗桥;冷却后去除所述熔渗桥,得到所述钨铜材料。本发明提供的制备方法改善了钨骨架中铜熔渗率不足的缺陷,制备得到的钨铜材料具有均匀、高密度的优点;适用于航空航天、国防军工、电子信息、冶金以及机械加工等领域对钨铜材料的要求。

    在钨电极表面制备碳化二钨涂层的方法及钨电极

    公开(公告)号:CN119392248A

    公开(公告)日:2025-02-07

    申请号:CN202411502392.1

    申请日:2024-10-25

    Abstract: 本发明公开了在钨电极表面制备碳化二钨涂层的方法及钨电极,涉及钨电极技术领域。本发明分为附碳阶段、固碳阶段和脱碳阶段三个阶段制备碳化层,通过控制三个阶段的操作参数(如电压)等,固碳步骤可以进一步使表面富余的碳进一步反应,既能增加碳化层的厚度,又能更好地保证最终反应产物为碳化二钨,使钨电极表面制备组织结构和相成分均一稳定的碳化层。本发明所制备的碳化层为疏松的片层状组织,相结构为纯碳化二钨,为钨基热阴极材料表面提供发射活性物质迁移通道,促进阴极材料工作室活性物质的扩散补充,提升钨基阴极材料发射性能,同时更好地保障钨基阴极材料长期稳定工作。

    一种钨铜材料及其制备方法与应用

    公开(公告)号:CN115821187A

    公开(公告)日:2023-03-21

    申请号:CN202211643911.7

    申请日:2022-12-20

    Abstract: 本发明涉及一种钨铜材料及其制备方法与应用,所述制备方法包括如下步骤:对搭接摆放的钨压坯、铜镍合金与熔渗桥进行烧结熔渗处理,冷却后分离所述钨压坯与熔渗桥,得到所述钨铜材料;所述烧结熔渗处理包括至少3次热处理,所述热处理的温度为1250℃以下。本发明采用铜镍合金与间接熔渗方式配合,以及至少3次热处理,实现了钨压坯烧结与熔渗的同步进行,且制备温度较低,所得钨铜材料中铜分布均匀,具有较高的密度。

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