一种三维非对称金属-介质功能纳米阵列结构的制备方法

    公开(公告)号:CN114014258B

    公开(公告)日:2024-05-07

    申请号:CN202111240171.8

    申请日:2021-10-25

    Abstract: 本发明公开了一种三维非对称金属‑介质功能纳米阵列结构的制备方法,该制备方法包括以下步骤:S1在样品硅片上制备聚苯乙烯小球阵列;S2刻蚀聚苯乙烯小球阵列;S3刻蚀样品硅片;S4倾斜镀金属膜;S5揭去聚苯乙烯小球。该制备方法能够解决现有纳米结构加工领域中三维结构难以大面积制备且制备流程复杂的问题,从而达到便于大面积制备,制备产品均匀性好、多参数可调,制备的结构有着显著的表面等离激元光放大及非线性增强效应,SHG信号相较于其对称结构的SHG信号增强可达五倍左右,并具有优异的偏振依赖特性,制备成本低廉,且采用硅片为样品基底,为未来运用于微电子行业产业化提供了可能的目的。

    基于多光束干涉法制造可变周期光子晶体的装置

    公开(公告)号:CN106483584B

    公开(公告)日:2018-06-05

    申请号:CN201611255615.4

    申请日:2016-12-30

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 基于多光束干涉法制造可变周期光子晶体的装置,涉及光子晶体。依次设有激光器、空间滤波器、光阑、凸透镜、多光束生成元件、光刻胶板;所述空间滤波器的出光口放置于凸透镜的焦点处,当激光器发出的激光经过空间滤波器扩束后,会变成一束发散光,发散光经过凸透镜时,会变成一束平行光,这束平行光沿着法线方向照射到多光束生成元件上,多光束生成元件对这束平行光的光路进行调整,使其产生多束相干光束,多束相干光束重叠在光刻胶板上,在光刻胶板上对多束光重叠的干涉区域进行单次曝光,经过显影即得可变周期光子晶体。

    一种三维非对称金属-介质功能纳米阵列结构的制备方法

    公开(公告)号:CN114014258A

    公开(公告)日:2022-02-08

    申请号:CN202111240171.8

    申请日:2021-10-25

    Abstract: 本发明公开了一种三维非对称金属‑介质功能纳米阵列结构的制备方法,该制备方法包括以下步骤:S1在样品硅片上制备聚苯乙烯小球阵列;S2刻蚀聚苯乙烯小球阵列;S3刻蚀样品硅片;S4倾斜镀金属膜;S5揭去聚苯乙烯小球。该制备方法能够解决现有纳米结构加工领域中三维结构难以大面积制备且制备流程复杂的问题,从而达到便于大面积制备,制备产品均匀性好、多参数可调,制备的结构有着显著的表面等离激元光放大及非线性增强效应,SHG信号相较于其对称结构的SHG信号增强可达五倍左右,并具有优异的偏振依赖特性,制备成本低廉,且采用硅片为样品基底,为未来运用于微电子行业产业化提供了可能的目的。

    基于多光束干涉法制造可变周期光子晶体的装置

    公开(公告)号:CN106483584A

    公开(公告)日:2017-03-08

    申请号:CN201611255615.4

    申请日:2016-12-30

    Applicant: 厦门大学

    Abstract: 基于多光束干涉法制造可变周期光子晶体的装置,涉及光子晶体。依次设有激光器、空间滤波器、光阑、凸透镜、多光束生成元件、光刻胶板;所述空间滤波器的出光口放置于凸透镜的焦点处,当激光器发出的激光经过空间滤波器扩束后,会变成一束发散光,发散光经过凸透镜时,会变成一束平行光,这束平行光沿着法线方向照射到多光束生成元件上,多光束生成元件对这束平行光的光路进行调整,使其产生多束相干光束,多束相干光束重叠在光刻胶板上,在光刻胶板上对多束光重叠的干涉区域进行单次曝光,经过显影即得可变周期光子晶体。

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