公开(公告)号：CN108227060A

公开(公告)日：2018-06-29

申请号：CN201810076908.9

申请日：2018-01-26

Applicant: 厦门大学 ,  厦门大学深圳研究院

Inventor： 朱锦锋 ,  严爽 ,  李察微 ,  王正瑛 ,  柳清伙

IPC: G02B5/22 ,  B82Y40/00 ,  B82Y30/00 ,  B82Y20/00

CPC classification number: G02B5/22 ,  B82Y20/00 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00

Abstract: 本发明公开了一种增强无纳米图案化石墨烯紫外光吸收的方法，包括以下步骤：采用具有亚波长厚度的金属基片作为底部镜面层,在镜面层上沉积具有亚波长厚度的介质材料薄膜作为介质层，石墨烯层平铺在介质层的表面，制得基于石墨烯的光学吸收体；采用S偏振的紫外光作为入射光，通过调整到基于石墨烯的光学吸收体的入射角，以调节石墨烯对于特定波长范围内紫外光的吸收。本发明有益效果是：无需在介质表面制备亚波长结构化的纳米图案，大大降低制备基于石墨烯的紫外完美吸收体的工艺难度，并且能够通过控制角度、极化、介质层厚度等参数来调整吸收光谱。

公开(公告)号：CN109585576A

公开(公告)日：2019-04-05

申请号：CN201810696282.1

申请日：2018-06-29

Applicant: 厦门大学 ,  厦门大学深圳研究院

Inventor： 朱锦锋 ,  李察微 ,  王正瑛 ,  江山 ,  严爽

IPC: H01L31/0216 ,  H01L31/18 ,  B82Y40/00

Abstract: 本发明公开了一种利用全介质纳米结构增强石墨烯紫外光吸收的方法，包括，以下步骤：步骤1：在基片上用电子束蒸镀的方法先沉积氟化钙作为氟化钙介质层；步骤2：在氟化钙介质层一侧之上沉积氧化锆作为高折射率介质氧化锆层，在高折射率介质氧化锆层之上沉积六氟铝酸钠作为低折射率介质六氟铝酸钠层；步骤3：然后在低折射率介质六氟铝酸钠层的表面沉氟化钙作为氟化钙介质层；步骤4：将石墨烯转移至氟化钙介质层另一侧之上形成石墨烯层；步骤5：在石墨烯层表面沉积氧化硅层；步骤6：利用光刻的方式将氧化硅层刻蚀成相同宽度和相同距离的二氧化硅纳米条。无需在结构中加入任何除石墨烯以外的有耗金属或介质，紫外光的能量全部被石墨烯吸收。

公开(公告)号：CN105068278A

公开(公告)日：2015-11-18

申请号：CN201510591902.1

申请日：2015-09-17

Applicant: 厦门大学

Inventor： 朱锦锋 ,  蔡艺军 ,  严爽 ,  张丽蓉 ,  柳清伙

IPC: G02F1/03

CPC classification number: G02F1/0311

Abstract: 基于石墨烯的空间电光调制器，涉及电光调制器。为5层结构，从上至下依次设有上银层、上六方氮化硼层、石墨烯单原子层、下六方氮化硼层和下银层；上银层上设有至少1条缝隙。上银层、上六方氮化硼层、石墨烯单原子层、下六方氮化硼层和下银层的长度均可为200～300nm，宽度均可为140～170nm；上银层的厚度为10～30nm；缝隙的宽度可为5～20nm，上六方氮化硼层的厚度为1nm，石墨烯单原子层的厚度为0.3～0.8nm，下六方氮化硼层的厚度可为15～50nm，下银层的厚度为100～2000nm；总厚度为126.3～281.8nm。尺寸小、操作电压低、调制速度快、工作频带宽。

公开(公告)号：CN105277514A

公开(公告)日：2016-01-27

申请号：CN201510833559.7

申请日：2015-11-25

Applicant: 厦门大学

Inventor： 朱锦锋 ,  张丽蓉 ,  白彦强 ,  严爽 ,  柳清伙

IPC: G01N21/41

Abstract: 可见光折射率传感器及其加工方法，涉及光传感器。可见光折射率传感器为3层结构，从下至上依次设有基片、纳米压印胶层、铬层和银层。加工方法：将基片置于匀胶机中，采用旋涂的方式将紫外固化纳米压印胶均匀地涂布在基片上，烘烤后在基片上形成纳米压印胶层；将表面干净的中间聚合物软膜放在镍模板表面进行热纳米压印，得中间聚合物软模板，在中间聚合物软模板表面得到与镍模板互补的纳米结构，以中间聚合物软模板为紫外纳米压印模板，将表面涂有纳米压印胶层的基片置于纳米压印光刻系统样品台上进行紫外纳米压印，在纳米压印胶层表面得到与中间聚合物模板互补的纳米结构；用电子束蒸镀仪先蒸镀铬层，再蒸镀银层，即得可见光折射率传感器。

公开(公告)号：CN105068278B

公开(公告)日：2018-12-28

申请号：CN201510591902.1

申请日：2015-09-17

Applicant: 厦门大学

Inventor： 朱锦锋 ,  蔡艺军 ,  严爽 ,  张丽蓉 ,  柳清伙

IPC: G02F1/03

Abstract: 基于石墨烯的空间电光调制器，涉及电光调制器。为5层结构，从上至下依次设有上银层、上六方氮化硼层、石墨烯单原子层、下六方氮化硼层和下银层；上银层上设有至少1条缝隙。上银层、上六方氮化硼层、石墨烯单原子层、下六方氮化硼层和下银层的长度均可为200～300nm，宽度均可为140～170nm；上银层的厚度为10～30nm；缝隙的宽度可为5～20nm，上六方氮化硼层的厚度为1nm，石墨烯单原子层的厚度为0.3～0.8nm，下六方氮化硼层的厚度可为15～50nm，下银层的厚度为100～2000nm；总厚度为126.3～281.8nm。尺寸小、操作电压低、调制速度快、工作频带宽。

公开(公告)号：CN205139007U

公开(公告)日：2016-04-06

申请号：CN201520951352.5

申请日：2015-11-25

Applicant: 厦门大学

Inventor： 朱锦锋 ,  张丽蓉 ,  白彦强 ,  严爽 ,  柳清伙

IPC: G01N21/41

Abstract: 一种可见光折射率传感器，涉及光传感器。为3层结构，从下至上依次设有基片、纳米压印胶层、铬层和银层，所述纳米压印胶层涂布在基片的上表面，纳米压印胶层的上表面沉积均匀周期排列的微纳米金属圆孔洞阵列，铬层蒸镀在纳米压印胶层上，银层蒸镀在铬层上。纳米压印胶层的厚度可为200～250nm；铬层的厚度可为10～20nm；银层的厚度可为200～250nm；所述周期可为500～600nm。工艺简单、尺寸小、灵敏度高、成本低，让可见光折射率传感器的应用更加广泛。

公开(公告)号：CN204925542U

公开(公告)日：2015-12-30

申请号：CN201520719757.6

申请日：2015-09-17

Applicant: 厦门大学

Inventor： 朱锦锋 ,  蔡艺军 ,  严爽 ,  张丽蓉 ,  柳清伙

IPC: G02F1/03

Abstract: 一种基于石墨烯的空间电光调制器，涉及电光调制器。为5层结构，从上至下依次设有上银层、上六方氮化硼层、石墨烯单原子层、下六方氮化硼层和下银层；上银层上设有至少1条缝隙。上银层、上六方氮化硼层、石墨烯单原子层、下六方氮化硼层和下银层的长度均可为200～300nm，宽度均可为140～170nm；上银层的厚度为10～30nm；缝隙的宽度可为5～20nm，上六方氮化硼层的厚度为1nm，石墨烯单原子层的厚度为0.3～0.8nm，下六方氮化硼层的厚度可为15～50nm，下银层的厚度为100～2000nm；总厚度为126.3～281.8nm。尺寸小、操作电压低、调制速度快、工作频带宽。