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公开(公告)号:CN110137298B
公开(公告)日:2020-12-29
申请号:CN201910526744.X
申请日:2019-06-18
Applicant: 华北电力大学
IPC: H01L31/078 , H01L31/18
Abstract: 本发明公开了GaAs基多结太阳电池的Ge/Si异质结底电池制备方法,其包括以下步骤:1)选取p型单晶硅衬底;2)在p‑Si上生长掺杂磷元素的n型Ge薄膜,形成Ge/Si异质结底电池;3)在n‑Ge薄膜上,采用MOCVD技术生长GaAs缓冲层;4)在所得GaAs缓冲层上采用MOCVD技术生长第一个隧道结;5)在所得第一个隧道结上采用MOCVD技术生长GaAs中间电池;6)在所得GaAs中间电池上采用MOCVD技术生长第二个隧道结;7)在所得第二个隧道结上采用MOCVD技术生长InGaP顶电池;8)在所得InGaP顶电池上生长窗口层;9)在所得窗口层上生长GaAs欧姆接触层;10)在所得接触层上选区刻蚀后生长减反射膜;11)制备上下表面金属电极,并完成多结太阳电池的制备。
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公开(公告)号:CN110137298A
公开(公告)日:2019-08-16
申请号:CN201910526744.X
申请日:2019-06-18
Applicant: 华北电力大学
IPC: H01L31/078 , H01L31/18
Abstract: 本发明公开了GaAs基多结太阳电池的Ge/Si异质结底电池制备方法,其包括以下步骤:1)选取p型单晶硅衬底;2)在p-Si上生长掺杂磷元素的n型Ge薄膜,形成Ge/Si异质结底电池;3)在n-Ge薄膜上,采用MOCVD技术生长GaAs缓冲层;4)在所得GaAs缓冲层上采用MOCVD技术生长第一个隧道结;5)在所得第一个隧道结上采用MOCVD技术生长GaAs中间电池;6)在所得GaAs中间电池上采用MOCVD技术生长第二个隧道结;7)在所得第二个隧道结上采用MOCVD技术生长InGaP顶电池;8)在所得InGaP顶电池上生长窗口层;9)在所得窗口层上生长GaAs欧姆接触层;10)在所得接触层上选区刻蚀后生长减反射膜;11)制备上下表面金属电极,并完成多结太阳电池的制备。
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公开(公告)号:CN205300757U
公开(公告)日:2016-06-08
申请号:CN201620042383.3
申请日:2016-01-18
Applicant: 华北电力大学
IPC: G01J1/00
Abstract: 本实用新型专利公开了一种太阳光照度测量仪,包括照度计及用于支撑、定位照度计的三脚架,其特征在于:所述的照度计的光探头接收器部连接有一个遮光筒,照度计尾部通过螺纹结构连接有可旋转的刻度盘,刻度盘底部连接在三脚架上,本装置以照度计为核心器件,在其测量端加装遮光筒,可极大程度反射、吸收掉间接辐照以及地面光源对检测结果的影响,同时,遮光筒上带有对光孔,可使照度计对准太阳所在位置;在照度计下端加装三脚架,较手持测量更加稳定。在照度计与三脚架连接部位加装刻度盘,扩展了照度计检测位置的范围。而且本装置实现了对光、小角度调节测量位置等功能,为全面测量太阳照度在大气中的分布、衰减状况提供了可能。
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